【課題】ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のＳＯ_３⁻構造を有する繰り返し単位と、特定の酸解離性基を有する繰り返し単位とを有する重合体および
（Ｂ）感放射線性酸発生剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物と、特定のＳＯ_３⁻構造を有する繰り返し単位と、特定の酸解離性基を有する繰り返し単位とを有する重合体を提供する。 （もっと読む）

【課題】 水液浸リソグラフィに適した、既知のものに比べ静止後退水接触角が向上したトップコートまたはフォトレジスト組成物、およびそれらの使用方法を提供する。
【解決手段】 リソグラフィ・プロセスにおいて用いるための、当技術分野において既知のものに比べ静止後退水接触角が向上したスルホンアミド含有組成物、トップコート・ポリマー、および添加ポリマーを提供する。本発明のスルホンアミド含有トップコート・ポリマーおよび添加ポリマーは、式（Ｉ）に示すような分岐連結基を有するスルホンアミド置換反復単位を含む。
【化１】
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【課題】優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化し得る高分子化合物であって、下記一般式（２）（式中、Ｒ₁は炭素数２０以下の脂肪族環式基であり、ｎは０または１〜５の整数を表し、Ｒ₂は水素原子、フッ素原子又は炭素数２０以下の低級アルキル基又は炭素数２０以下のフッ素化低級アルキル基を表す。）で示される化合物から誘導される構成単位（ａ１）と、ラクトン含有単環または多環式基を含む（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ３）と、を含有することを特徴とする高分子化合物。
［化１］
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【課題】光インプリント用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】硬化性モノマーが下記の式(１)式(２)含み、かつ、式(１)及び式(２)で表される化合物の重量比率が２０／８０〜９５／５である。


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【課題】レジスト組成物自体の熱安定性・保存安定性が良好で、ＣｌやＮａなどのイオン性の不純物が少なく、広い波長領域で透明性に優れ、厚膜かつアスペクト比の高いレジストパターンが得られるイオンビーム描画用ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】次の成分（Ａ）および（Ｂ）を含有するイオンビーム描画用ネガ型レジスト組成物並びに上記のネガ型レジスト組成物を利用するパターン形成方法。（Ａ）下記式（１）または環状オレフィンを開環重合した後水素添加した重合体単位、ビニルエーテル重合体単位から選ばれ、イオンビームの照射により現像液に難溶又は不溶となる樹脂、（Ｂ）樹脂（Ａ）を溶解する少なくとも一種以上の有機溶剤。
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【課題】 向上した塗膜硬度および光学的特性を有する塗膜を形成でき、先行技術の欠点を有さない水性結合剤分散液を提供する。
【解決手段】 カルボン酸基および／またはカルボキシレート基を有する少なくとも１種のコポリマーを含む水性結合剤分散液であって、該コポリマーが、脂環式構造を持つカルボキシル無含有(メタ)アクリル酸エステルの構造単位を有し、分散液中におけるコポリマーのカルボン酸基の少なくとも２５モル％が、トリエタノールアミンで中和された形態で存在し、かつ、５００〜３０,０００の数平均分子量を有し、１００％の形態におけるコポリマーのＯＨ含有量は３.５〜７.５質量％であり、１００％形態のコポリマー（Ｐ）の酸価は１５〜４０ｍｇ ＫＯＨ／ｇである水性結合剤分散液。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度及び露光マージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物用の樹脂を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位及び式（ＩＩ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂を含むフォトレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１及びＲ^３１は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいアルキル基；Ｘ^１は複素環基を表し、該複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、炭化水素基等で置換されていてもよい；Ｔは骨格に−ＳＯ_２−を含む複素環基を表し、該複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基等で置換されていてもよい；複素環基に含まれる−ＣＨ_２−は−ＣＯ−、−Ｏ−等で置き換わっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】感光性、アルカリ現像性、密着性、製版性を有するために、カラーフィルターや液晶パネル等の製造において好適に使用することができる感光性樹脂組成物に好適に用いられるアルカリ可溶性樹脂を製造する方法において、非プロトン系溶媒を用いて分子量制御を容易に行うことができる製造方法を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル系単量体とＮ−ビニル環状ラクタム化合物とを含む単量体成分を重合してＮ−ビニル環状ラクタム重合体を製造する方法であって、該製造方法は、非プロトン系溶媒中で、連鎖移動剤及び水酸基含有化合物の共存下に単量体成分を重合する工程を含むことを特徴とするＮ−ビニル環状ラクタム重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度、フォーカスマージン及び露光マージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物用の樹脂を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位及び式（ＩＩ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂。


［式中、Ｒ^１及びＲ^３１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいアルキル基；Ｘ^１は複素環基を表し、該複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、炭化水素基、アルコキシ基、アシル基等で置換されていてもよく、該複素環基に含まれる−ＣＨ_２−は−ＣＯ−又は−Ｏ−で置き換わっていてもよい；Ｚ^１は２価飽和炭化水素基を表し；Ｔは、骨格に−ＳＯ_２−を含む複素環基を表し、該複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基等で置換されていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】１回のジェッティングで比較的厚い膜（２μｍ以上）を形成することができる、ポリイミド形成成分を高濃度で含有するインクジェット用インクを提供すること。
【解決手段】酸無水物基を有する化合物（ａ１）と、該化合物（ａ１）以外の、下記一般式（１）で表されるモノアミン化合物（ａ２）とを用いて得られるアミド酸（Ａ）、およびアミノ基を有する化合物（ｂ１）と、該化合物（ｂ１）以外の、下記一般式（２）で表される、酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ２）とを用いて得られるアミド酸（Ｂ）からなる群より選ばれる少なくとも１種のアミド酸を含む熱硬化性組成物：
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【課題】フッ素を含まない縮合環複素芳香族光酸発生剤、およびそれを含むレジスト組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、フッ素を含まない光酸発生剤（ＰＡＧ）と、それを含むフォトレジスト組成物とに関する。ＰＡＧは、オニウムカチオン性成分、および１つまたは複数の電子求引性置換基を含む、フッ素を含まない縮合環複素環式芳香族化合物スルホネートアニオン性成分の存在を特徴とする。ＰＡＧのオニウムカチオン性成分は、好ましくはスルホニウムまたはヨードニウムカチオンである。フォトレジスト組成物は、酸感応性イメージング・ポリマーをさらに含む。フォトレジスト組成物は、１９３ｎｍ（ＡｒＦ）リソグラフィを用いて半導体基板上に材料パターンを形成するのに特に有用である。 （もっと読む）

【課題】感度及び解像力が高く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、露光ラチチュード（ＥＬ）及びパターン形状に優れたパターンを形成できるパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）（Ａ）２個以上の水酸基を有する繰り返し単位を有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）架橋剤、及び（Ｄ）溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、少なくとも特定の２つの構成単位を有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた露光マージン及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する繰り返し単位及び式（ＩＩ）で表される化合物に由来する繰り返し単位を有する樹脂を含むフォトレジスト組成物。［Ｒ^１及びＲ^３１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいＣ_１−６アルキル基を表す。Ｚ^１は、単結合又は＊−［ＣＨ₂］_ｓ３−ＣＯ−Ｌ^４−基を表す。Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３及びＬ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｔは、骨格に−ＳＯ_２−を含む複素環基を表す。］
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【課題】露光ラチチュード（ＥＬ）と、線幅バラツキ（ＬＷＲ）又はＣＤ（クリティカルディメンジョン）均一性（ＣＤＵ）とに優れたパターンを形成できるパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該レジスト組成物により形成されたレジスト膜を提供する。
【解決手段】 （ア）（Ａ）非芳香族環状有機基を有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）架橋剤、を含む化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び、（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該レジスト組成物により形成されたレジスト膜。 （もっと読む）

【課題】パターン上の現像欠陥を低減できる化学増幅型レジスト組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が変化する樹脂、（Ｃ）塩基性化合物、（Ｄ）界面活性剤、（Ｅ）溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物の製造方法において、（Ａ）成分の溶液と（Ｂ）成分の溶液を準備し、（Ｂ）成分の溶液をフィルターでろ過する工程、（Ａ）成分の溶液と（Ｂ）成分の溶液を混合する工程を含むことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物の製造方法及びその方法により得られた化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度、ドライエッチング耐性、ラインエッジラフネスに優れるレジスト組成物の樹脂原料を提供する。
【解決手段】β−シアンヒドリン類縁体を原料とした（メタ）アクリル酸エステル及び重合体。


（Ｒ１はアルキル基を有していてもよい炭素数４〜１６の環式炭化水素基を有する炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキル基を示す。あるいは、Ｒ１とＲ２は結合している炭素原子とともにアルキル基を有していてもよい炭素数４〜１６の環式炭化水素基を形成する。ここで前記アルキル基、環式炭化水素基は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアシル基、または、炭素数１〜６のアルコールとエステル化されたカルボキシ基で置換されていてもよい。アルキル基は直鎖状でも分岐状でもよい。） （もっと読む）

【課題】
難着霜性および除霜性に優れ、その優れた性能を長期間持続することが可能な被膜を形成できる親水化処理組成物、及び該親水化処理組成物を塗装してなる親水性被膜を有する熱交換器用部品を提供すること。
【解決手段】
特定の構造を有するポリエーテル化合物と反応して結合を形成することの可能な官能基を有する重合性不飽和モノマーと該ポリエーテル化合物の反応により得られるポリエーテル基含有重合性不飽和モノマーを含むモノマー混合物を重合して得られるポリエーテル基含有アクリル樹脂（Ａ）と架橋剤（Ｂ）を含んでなることを特徴とする親水化処理組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた透明性を有し、現像欠陥の極めて少ない感放射線レジスト材料の添加剤用樹脂を製造するための単量体を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示される含フッ素単量体。
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【課題】高周波領域での誘電正接が極めて小さく、配線埋め込み性、及び耐熱性に優れた積層体の製造に有用な、重合性組成物、架橋性樹脂成形体及び架橋樹脂成形体、並びに、それらを用いて得られる積層体を提供すること。
【解決手段】シクロオレフィンモノマー、重合触媒、架橋剤、ビニリデン基を１つ有する一官能化合物、ビニリデン基を２つ有する二官能化合物、及びビニリデン基を３つ有する三官能化合物を含有してなり、かつ前記一官能化合物、前記二官能化合物、及び前記三官能化合物の含有割合が重量比（一官能化合物：二官能化合物：三官能化合物）で１０〜８０：１０〜８０：５〜４０である、重合性組成物、該組成物を用いてなる架橋性樹脂成形体及び架橋樹脂成形体、並びに、少なくとも、前記架橋性樹脂成形体、又は前記架橋樹脂成形体からなる層を有してなる積層体。 （もっと読む）