【課題】低色分散、高光線透過率等において優れた光学特性を有し、光学レンズ・プリズム材料に求められる種々の特性バランスに優れ、湿熱耐久性を維持した新規な多官能（メタ）アクリル酸エステル共重合体を提供する。
【解決手段】脂環式構造を有する単官能（メタ）アクリル酸エステル（ａ）、２官能（メタ）アクリル酸エステル（ｂ）、及び２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン（ｃ）を共重合して得られる共重合体であって、側鎖に２官能（メタ）アクリル酸エステル（ｂ）由来の（メタ）アクリレート基を含有する構造単位のモル分率（ｂ１）/[（ａ）+（ｂ）]が０．０５以上であり、更に末端に２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン（ｃ）由来の構造単位のモル分率が（ｃ）/[（ａ）+（ｂ）+（ｃ）]が０．０２〜０．３５の範囲である可溶性共重合体。 （もっと読む）

【課題】 高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(ＬＷＲ)、フォーカス余裕度(ＤＯＦ)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 感活性光線または感放射線樹脂組成物を基板上に塗布して膜を形成する工程、マスクを介して該膜を選択的に露光する工程、及び有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法であり、該感活性光線または感放射線樹脂組成物が、(Ａ)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(Ｂ)活性光線または放射線の照射によりフッ素原子を含有する酸を発生する光酸発生剤、および(Ｃ)溶剤を含有してなり、光酸発生剤（Ｂ）の含有率が、該組成物の全固形分を基準として８〜２０質量％であるパターン形成方法。 （もっと読む）

硬化接着剤組成物であって、（ａ）６５〜９４．５重量％のＣ８アクリレートエステル、０．５〜５重量％の極性架橋性モノマー、及び５〜３０重量％の非極性モノマーの反応生成物を含むコポリマーであり、コポリマーは、４００，０００〜２，２００，０００ｇ／モルの重量平均分子量を有する、コポリマーと、（ｂ）コポリマー１００部に対して３０〜７０部の水素添加炭化水素粘着付与剤と；（ｃ）コポリマー１００部に対して０．０１〜３部（固体／固体）の架橋剤と、を含み、硬化接着剤が、ＦＩＮＡＴ試験方法Ｎｏ．２に従って低密度ポリエチレンに対して試験された場合、６Ｎ／ｃｍを超える剥離値を有し、更に、硬化接着剤が、ＦＩＮＡＴ試験方法Ｎｏ．８に従って低密度ポリエチレンに対して試験した場合、２０００分を越える剪断値を有する、硬化接着剤組成物。本開示の硬化接着剤は、低表面エネルギー基材に対して優れた接着性を示すことが分かっている。 （もっと読む）

【課題】繰り返しパターン転写を行っても良好なパターン形成性を有し、かつ、硬化したパターンの耐溶剤性が良好であるナノインプリント用硬化性組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）重合性化合物および（Ｂ）光重合開始剤を含有し、前記（Ａ）重合性化合物として、（Ａ１）フッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性化合物および、（Ａ２）芳香族基を有する重合性化合物を含有することを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた形状のパターンを得ることができるパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（１）樹脂及び溶剤を含む組成物を基板上に塗布する工程、（２）基板上に塗布した層から溶剤を除去して組成物層を形成する工程、（３）組成物層を水に浸漬しながら、組成物層にモールドのパターン面を圧着して、モールドのパターンを転写する工程、（４）モールドのパターンが転写された組成物層を乾燥する工程及び（５）得られた組成物層をモールドから離脱させる工程を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】鋳型、特にポリカーボネート製鋳型からの離型性が良好であり、かつ硬化収縮による基板の反りが小さい硬化物を得ることが可能な活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子内に１個以上の脂肪酸残基と１個以上の（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物、および、（Ｂ）（Ａ）成分以外の分子内に１個〜３個の（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物であって、ポリカーボネート樹脂溶解性試験に陰性である重合性化合物を含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物；およびこの硬化型樹脂組成物の硬化物であって、その表面が凹凸形状である物品。 （もっと読む）

【課題】優れた液浸媒体耐性およびリソグラフィー特性を両立できる液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含む液浸露光用レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、フッ素原子を含有する樹脂（Ａ１）と、アクリル酸から誘導される構成単位（ａ’）を有し、かつフッ素原子を含有しない樹脂（Ａ２）とを含有し、前記樹脂成分（Ａ）中の前記樹脂（Ａ１）の含有量が０．１〜２０質量％の範囲内であり、前記樹脂（Ａ１）が、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を有するアクリル酸から誘導される構成単位を有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】解像性およびＭＥＦなどのリソグラフィー特性に優れるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および含窒素有機化合物（Ｄ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、側鎖に、２価の連結基で結合された環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を有するエステル基を有する（メタ）アクリレート単位（ａ０）を有し、かつ、その構造中に酸解離性溶解抑制基を含む高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記含窒素有機化合物（Ｄ）が、エーテル性酸素原子、エステル基、カルボニル基、シアノ基、置換基を有していてもよいフェニル基、および含窒素複素環式基からなる群から選択される少なくとも１種を含むアミン（Ｄ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度及び形状を有するパターンを得ることができるレジスト組成物の樹脂用の化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［式（Ｉ）中、環Ｗ^１は、Ｃ_３-３６飽和炭化水素環を表す。環Ｗ^２は、Ｃ_３-３６飽和炭化水素環を表す。Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^２は、Ｃ_1-６アルキル基を表す。Ｒ^３は、Ｃ_1-１２炭化水素基を表す。Ｒ^４は、Ｃ_1-６アルキル基を表す。ｓは、１又は２の整数を表す。ｔは、０〜２の整数を表す。ｕは、０〜２の整数を表す。］
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【課題】ＣＤのピッチ依存性、被覆率依存性が良好な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにこれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）シアノ基と、酸の作用により分解しアルカリ可溶性となる基とを有する繰り返し単位（ａ）を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、
（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかと、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基とを有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有し、（Ｂ）は一般式（ｂ０）で表される化合物（Ｂ１）を含有する。
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【課題】 ラインエッジラフネス、ＢＬＯＢ欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる少なくとも１つの基と、フッ素原子または珪素原子の少なくともいずれかを有し、かつ少なくとも１つの分岐部を介してポリマー鎖を３つ以上有する樹脂：（ｘ）アルカリ可溶基；（ｙ）アルカリ現像液中で分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基；（ｚ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基、を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法、これに用いる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法であり、前記レジスト組成物が、（Ａ）実質的にアルカリ不溶性である樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）架橋剤、（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするパターン形成方法、該方法に用いる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜。 （もっと読む）

【課題】コーティング剤の成分として用いた場合に、基材に充分な撥水性を付与可能なフッ素系重合体、及びコーティング剤を提供する。
【解決手段】本発明は、炭素数が６以下のパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系重合体および、このフッ素系重合体を含有するコーティング剤に関するものである。本発明のフッ素系重合体は、炭素数が６以下のパーフルオロアルキル基含有モノマー５０質量％以上８５質量％以下と、フッ素を含まない非フッ素系モノマーを１５質量％以上５０質量％以下とを、重合させてなる。非フッ素系モノマーには、炭素および水素からなる環状部分を有する環状モノマーが含まれる。 （もっと読む）

【課題】ＤＯＦ、保存安定性、解像性、パターン形状が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により塩基を発生する化合物、（Ｂ）ラクトン構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】金属層が表面に形成された導電性粒子又は該導電性粒子を含有している異方性導電材料により、接続対象部材を電気的に接続した場合に、導電信頼性を高めることができる重合体粒子、並びに該重合体粒子を用いた導電性粒子を提供する。
【解決手段】少なくとも２つの環構造を有する脂環式化合物であるモノマーを重合させることにより得られた重合体粒子、並びに、この重合体粒子と、該重合体粒子の表面を被覆している金属層とを有する導電性粒子５。 （もっと読む）

【課題】 フォーカス余裕度（ＤＯＦ）及びラフネス特性に優れ且つブリッジ欠陥及び欠けの少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法並びに感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 本発明に係るパターン形成方法は、（Ａ）感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、（Ｂ）前記膜を露光することと、（Ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含み、前記組成物は、（ａ）酸の作用により前記現像液に対する溶解度が減少する樹脂であって、酸素原子を含んだ基がエステル結合及び芳香環基の何れも含んでいない２価の連結基又は単結合を介して主鎖と結合している繰り返し単位を備え、前記樹脂に占める前記繰り返し単位の含有率は、前記樹脂中の全繰り返し単位に対して２０ｍｏｌ％乃至１００ｍｏｌ％の範囲内である樹脂と、（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、（ｄ）溶剤とを含有している。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性、ドライエッチング耐性、高真空下での安定性に優れ、特にポジ型レジスト樹脂の酸解離性の保護基として好適な新規ビニルエーテル、その原料となる新規アルコール及びそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のビニルエーテルは、下記一般式（１）
【化１】


｛式（１）中、Ｘ_１、Ｘ_２はそれらのいずれか一方がビニルオキシ基であり、もう一方が水素原子である。又、Ｒ_１は炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｒ_２は炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基である。｝
で表されることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】新規なイソブチレン系重合体を提供する。
【解決手段】下記式（１−ａ）で表される構造単位及び／又は下記式（１−ｂ）で表される構造単位、並びに、イソブチレン構造単位を有するイソブチレン系重合体。


［式中、ｎは０又は１を示し、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子、メチル基又はエチル基を示す。但し、Ｒ^１の炭素数とＲ^２の炭素数との合計は、１又は２である。］ （もっと読む）

本発明は、放射線硬化性樹脂組成物に関するものであって、３つ以上の官能基を有する多官能性ウレタン（メタ）アクリレート３〜３５重量部と、２官能性ウレタン（メタ）アクリレート３〜３５重量部と、単官能性（メタ）アクリル酸エステルモノマーと多官能性（メタ）アクリル酸エステルモノマーから選択された１つ以上の（メタ）アクリル酸エステルモノマー２０〜６０重量部と、放射線重合開始剤０．１〜１５重量部と、を含んでなる。また、この組成の耐指紋性樹脂組成物に関するものである。 （もっと読む）