【課題】レジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、含窒素有機化合物成分（Ｄ）とを含有するレジスト組成物であって、前記含窒素有機化合物成分（Ｄ）は、下記一般式（ｄ１）で表される化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。［式中、Ｒ^１は、炭素数５以上の炭化水素基であり、Ｒ^２、Ｒ^３は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、または−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^１である。式中の複数のＲ^１は、同じであっても異なっていてもよく、Ｒ^２とＲ^３とは互いに結合して環を形成してもよい。］
［化１］
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【課題】パターン倒れが良好であり、現像欠陥が少ないパターンを形成することが可能で、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】膜厚１００ｎｍにおける波長１９３ｎｍの光に対する透過率が５５％以上８０％以下であることを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、該組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】優れた電磁変換特性と走行耐久性とを兼ね備えた磁気記録媒体の作製可能な、ビニル系ポリマーからなる磁気記録媒体用結合剤を提供する。
【解決手段】一般式[１]で表される構造単位等を含むビニル系共重合体であることを特徴とする磁気記録媒体用結合剤。


[一般式[１]中、Ｒ¹は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌ¹は単結合または２価の連結基を表し、Ｙは脂環式の環状基、炭素数８以上５０以下の炭化水素基または水酸基を表す。] （もっと読む）

【課題】ナノエッジラフネス、感度、解像度に優れたレジスト被膜を形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（ａ−１）〜（ａ−４）で表される各繰り返し単位からなる群より選択される少なくとも１種を含有する樹脂及び（Ｂ）下記一般式（ｂ）で表される酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】耐擦り傷性、耐酸性、耐汚染性、仕上り外観、耐タレ性等の塗装作業性のいずれにも優れる硬化塗膜を形成することができる塗料組成物を提供すること。
【解決手段】特定第２級水酸基含有モノマー（ａ−１）、第２級水酸基含有ポリオキシアルキレンモノ（メタ）アクリレートモノマー（ａ−２）、イソボルニル（メタ）アクリレートモノマー（ａ−３）及び少なくとも１種の共重合可能な他の不飽和モノマー（ａ−４）を共重合して得られるアクリル樹脂であって、モノマー（ａ−１）の使用量（質量）がモノマー（ａ−２）の使用量よりも多いアクリル樹脂（Ａ）、ポリイソシアネート化合物（Ｂ）及び特定の非水ディスパージョン型アクリル樹脂（Ｃ）を含有することを特徴とする塗料組成物。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス、デプスオブフォーカスの性能が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】プロトンアクセプター性官能基を有し、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解してプロトンアクセプター性が低下、消失、又はプロトンアクセプター性から酸性に変化した化合物を発生する化合物（ＰＡ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記化合物（ＰＡ）のアセトニトリル溶媒中で測定した波長１９３ｎｍにおけるモル吸光係数εが、５５０００以下である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

一般構造：Ｂ−Ｓ−Ａ−Ｓ−ＢのＯＬＥＤ化合物において、棒状核Ａは、縮合芳香族環構造を含んでおり、そしてこの縮合芳香族環構造は、少なくとも１つのさらなるフルオレン環構造と縮合されたフルオレン環構造を含んでおり、この縮合芳香族構造を構成するフルオレン環系は、９位で置換されており、このフルオレンの９位は、酸化に対して感受性がないことを特徴とするＯＬＥＤ化合物。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィに適した、解像度、感度、パターン形状などの性能に加えて、ラインエッジラフネスが良好であるレジスト組成物、リフロー工程においてパターンをより微細化できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】繰り返し単位


（Ｘは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル又は炭素数１〜４のペルフルオロアルキルを示す。Ｙは、記載の炭素原子とともに脂環式炭化水素基を完成するのに必要な複数の原子を示す。Ｚは、炭素数１〜１２の２価の炭化水素基を示す。Ｒは、炭素数１〜６のアルキル又は炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基を示す。）とある種の繰り返し単位四種からなる群から選ばれた少なくとも一つの繰り返し単位とを有する樹脂及び酸発生剤を含む感放射線組成物。 （もっと読む）

【課題】新規なシリコーンヒドロゲルコンタクトレンズおよびシリコーンヒドロゲルコンタクトレンズの製造方法を提供する
【解決手段】水和された際に、シリコーンヒドロゲルコンタクトレンズは、該レンズの少なくとも一方の表面上に多数の窪みを持つ。これらの窪みは、1μm未満、または100nm未満の深さを持つ。該シリコーンヒドロゲルコンタクトレンズは、プラズマにより処理には付されていない。該シリコーンヒドロゲルコンタクトレンズの製造方法も、ここに開示する。 （もっと読む）

【課題】耐光性や耐熱性及び形状保持性にも優れた成形体を短時間で形成することができる樹脂組成物の提供。
【解決手段】該組成物は、脂肪族（メタ）アクリレート系オリゴマー（Ａ）と、（メタ）アクリレート系モノマー（Ｂ）及び／又はα−メチレンラクトン構造を有するモノマー（Ｃ）とを含み、モノマー（Ｃ）は、下記一般式（１）；[化１]


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、同一若しくは異なって、水素原子、炭素数が１〜２０のアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ^５基、又は、−Ｃ−Ｏ−Ｒ^６基を表す。Ａｃ基はアセチル基を表す。）で表されるモノマーである成形用アクリル樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 十分な硬化性を有するとともに光照射によるベンゼン放出が少なく、密着性および耐溶剤性の優れた硬化物を形成し得るカチオン重合型感光性インクを提供する。
【解決手段】 酸により重合可能な重合性化合物、ベンゼン環を含む光酸発生剤、および増感剤を含有するカチオン重合型感光性インクである。前記光酸発生剤の重量は、前記重合性化合物の重量の０．５％以上１０％以下であり、前記光酸発生剤の含有量（ｍ₁モル）と前記増感剤の含有量（ｍ₂モル）とは、下記の関係を満たすことを特徴とする。
１＜（ｍ₂／ｍ₁）≦５ （もっと読む）

【課題】熱処理により、レジストパターンを円滑により安定して収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る。
【解決手段】樹脂と、この樹脂を架橋させる架橋剤と、溶媒とを含み、レジストパターンを微細化するための樹脂組成物であって、上記樹脂が下記式（１−４）で表される繰り返し単位を含む。


Ｒ¹は水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表し、Ｒ²は−ＣＨ（ＣＨ₃）−を表し、Ｒ³はトリフルオロメチル基を表し、Ｒ⁴は水素原子を表す。 （もっと読む）

【課題】塗料・コーティング材料、土木建築材料、電子材料、オプトエレクトロニクス材料、医療材料等の分野において好適な新規なカルボキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルを提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるカルボキシル基含有（メタ）アクリル酸エステル。


（式（Ｉ）中、Ｒは水素原子又はメチル基、Ａはアルキレン基を示す。） （もっと読む）

【課題】 新規なビニルエーテル重合体を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１−ａ）又は下記一般式（１−ｂ）で表される構造単位を含有する、ビニルエーテル重合体。
【化１】


［式中、ｎは０又は１を示し、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ水素、メチル基又はエチル基を表し、Ｒ^１とＲ^２の炭素数の合計は１又は２である。］ （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングにおいて、第二のレジスト剤に第一のレジスト剤が溶解することなく、第一のレジストパターンを保持したまま第二のレジストパターンを形成することができ、更には第一のレジストパターンの線幅変動を抑制することができ、液浸露光プロセスにも好適に採用されるレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】重合体（Ａ１）及び重合体（Ａ１）が可溶な溶媒を含有する第一の感放射線性樹脂組成物を用いて、第一のレジストパターンを基板上に形成する工程（１）と、第一のレジストパターンが形成された基板上に、重合体（Ａ２）及び重合体（Ａ２）が可溶なアルコール系溶媒を含有する第二の感放射線性樹脂組成物を用いて第二のレジストパターンを形成する工程（２）とを含み、かつ重合体（Ａ１）及び第一のレジストパターンが、アルコール系溶媒に不溶である、レジストパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できる、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに当該レジスト組成物用として有用な含窒素高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、一般式（ａ０）［式中、Ｒ^２１は水素原子又は有機基である。Ｒ^２７はアルキレン基、２価の脂肪族環式基又は２価の芳香族炭化水素基である。Ｒ^２８はアルキル基、１価の脂肪族環式基又は１価の芳香族炭化水素基である。ただし、Ｒ^２７とＲ^２８とは相互に結合して式中のＮ−Ｃ（＝Ｏ）と共に環を形成している。］で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する含窒素高分子化合物を含有するレジスト組成物。
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【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位、酸不安定基含有繰り返し単位及びカーバメート構造含有繰り返し単位を共重合してなる高分子化合物と、光酸発生剤を含む第1のポジ型レジスト材料を基板上に塗布し第1レジスト膜を形成する工程、第1レジスト膜を露光後加熱処理し、現像して第1レジストパターンを形成する工程、第1レジストパターンを加熱して酸に対して不活性化し、基板上の第1レジストパターン上にC3〜8のアルコール、又はC3〜8のアルコール及びC6〜12のエーテルを溶媒とする第2ポジ型レジスト材料を塗布して第2レジスト膜を形成する工程、第2レジスト膜を露光し、PEB後現像して第2レジストパターンを形成する工程を含むパターン形成方法。
【効果】第1レジストパターンのパターンが未形成部分に第2パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、含窒素有機化合物成分（Ｄ）とを含有するレジスト組成物であって、前記含窒素有機化合物成分（Ｄ）は、一般式（ｄ１）で表される化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】色収差およびその他の収差の低減に効果がある樹脂のみからなる複合光学素子。
【解決手段】重合性化合物として、化学式１で示される重合性化合物（Ａ１）を５から７５質量％と、重合性官能基を１以上３個以下有し、その官能基がビニル基、アクリル基もしくはメタクリル基である重合性化合物（Ａ２）を５から８５質量％含み、無機酸化物粒子（Ｂ）を５から３５質量％、重合開始剤（Ｃ）を重合性化合物（Ａ１）と（Ａ２）の合計量を１００質量部としたとき０．１〜５質量部含む材料組成物を用いた光学素子。


化学式１において、Ｒは、炭素数が１〜１０である、アルキル基、アルケニル基、アリル基、シクロアルキル基、アシル基から選ばれるいずれか一種。Ｘは、重合性官能基。 （もっと読む）

【解決手段】(I)酸でアルカリ溶解性が増加する繰り返し単位及びラクトン構造含有繰り返し単位を有する高分子化合物をベース樹脂として含むポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第1レジスト膜を形成し露光、アルカリ現像して短辺が200nm以上のポジパターンである大面積パターンを含む第1レジストパターンを形成する工程、
(II)第1レジストパターン上に共役酸pKaが4以上の塩基性含窒素化合物を有するレジスト変性用組成物を塗布し、加熱して第1レジストパターンの変性処理を行う工程、
(III)その上に第2ポジ型レジスト材料を塗布し露光、アルカリ現像して第2レジストパターンを形成する工程
を含む多重パターン形成方法であり、第2レジストパターン形成後の第1レジストパターン中の大面積パターン残膜率が50%以上のパターン形成方法。
【効果】本発明のレジスト変性用組成物を用いたダブルパターニングプロセスにおいて、有効なアライメントマークの形成が可能。 （もっと読む）