【課題】本発明は、優れた耐熱性を有し、高い発泡倍率を実現できることから、強い剪断力が加えられる混練成形、カレンダー成形、押出成形、射出成形等にも好適に使用可能な熱膨張性マイクロカプセルを提供することを目的とする。また、本発明は、該熱膨張性マイクロカプセルを用いた発泡成形体を提供することを目的とする。
【解決手段】重合体からなるシェルに、コア剤として揮発性膨張剤が内包された熱膨張性マイクロカプセルであって、
シェルが、アクリロニトリル及びメタクリロニトリルからなる重合性モノマー（Ｉ）３０〜４０重量％、カルボキシル基を有する炭素数３〜８のラジカル重合性不飽和カルボン酸モノマー（ＩＩ）３０〜５０重量％、分子内に二重結合を２つ以上有する重合性モノマー（ＩＩＩ）０．１重量％以上、及び、ホモポリマーの溶解度パラメーターが１０以下である重合性モノマー（ＩＶ）を含有するモノマー組成物を重合させてなる重合体からなり、
前記重合性モノマー（Ｉ）中のアクリロニトリルの含有量が１０〜６０重量％であり、かつ、前記モノマー組成物は、更に、カルボキシル基を有する炭素数３〜８のラジカル重合性不飽和カルボン酸モノマー（ＩＩ）に対してイオン結合可能な金属カチオン塩を全モノマー成分１００重量部に対して、０．１〜１０重量部を含有する熱膨張性マイクロカプセル。 （もっと読む）

本発明は、コーティング組成物を製造するための（メタ）アクリレートポリマーに関し、ここで、該（メタ）アクリレートポリマーは、アルキル残基中に二重結合少なくとも１個と炭素原子８〜４０個を有する（メタ）アクリルモノマーから誘導されている単位０．５〜２０質量％、炭素原子９個までを有するヒドロキシ基含有モノマーから誘導されている単位０．１〜６０質量％、アルキル残基中に炭素原子１〜１２個を有する（メタ）アクリレートから誘導されている単位０．１〜９５質量％、及びスチレンモノマーから誘導されている単位０．１〜６０質量％を、そのつど該（メタ）アクリレートポリマーの質量を基準として包含し、かつ、該（メタ）アクリレートポリマーは、２０００〜６００００ｇ／モルの範囲の質量平均分子量を有する。さらに本発明は、コーティング組成物及びコーティングを製造するための方法に関する。そのうえ本発明は、該方法によって得られるコーティングを包含する、コーティングされた物品を記載する。 （もっと読む）

【課題】自己形成型上部反射防止コーティング組成物、この組成物を含むフォトレジスト調合物およびこの組成物を含むフォトレジスト調合物を用いる像形成の方法を提供する。
【解決手段】この組成物は、エチレン形主鎖を有するポリマーであって、芳香族部分を有する第１のモノマー、塩基可溶性部分または酸に不安定な基で保護された塩基可溶性部分を有する第２のモノマー、およびフルオロアルキル部分を有する第３のモノマーを含むポリマーを含む。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン転写が可能な紫外線硬化性樹脂材料を得る。
【解決手段】中心孔を有する磁気記録媒体の第１の主面上に第1の凹凸パターンを有する硬化した第1の紫外線硬化性樹脂材料層を形成し、磁気記録媒体の第１の主面とは反対側の第２の主面上に第２の凹凸パターンを有する硬化した第２の紫外線硬化性樹脂材料層を形成する。 （もっと読む）

【課題】超微細領域での高感度、高解像性、良好なパターン形状、残膜率を満足できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用により有機溶剤に対する溶解度が減少する樹脂を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程（１）、該膜を電子線又はＥＵＶ光を用いて露光する工程（２）、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程（４）をこの順番で有することを特徴とする、パターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン転写が可能な紫外線硬化性樹脂材料を得る。
【解決手段】２−メチルー２ーアダマンチルアクリレート、２-エチルー２-アダマンチルアクリレート、及び１，３−アダマンタンジメタノールジアクリレートのうち少なくとも１種、イソボルニルアクリレート、多官能アクリレート、及び重合開始剤を含有するか、または上記アクリレートの少なくとも１つ、重合開始剤、及びフッ素系アルコールを含有するパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を側鎖に有するアクリル酸エステル系の特定の構成単位（ａ０−１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記有機溶剤（Ｓ）が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、および２−ヘプタノンを含有することを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含むアクリル酸エステル構成単位及び／又はメタクリル酸エステル構成単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）及び／又は酸解離性溶解抑制基を含むメタクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１’）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、高分子化合物（Ａ１）中の、該アクリル酸エステルから誘導される構成単位の割合が１５〜８０モル％であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】側鎖の末端に「−ＳＯ_２−を含む環式基」を含有する構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物（Ａ１）と、酸発生剤成分（Ｂ）と、フッ素原子を有していてもよい酸解離性溶解抑制基含有基を含み、かつ少なくとも１つのフッ素原子が含まれる構成単位（ｆ１）を有する含フッ素樹脂成分とを含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 現像コントラストが高く、微細パターンの解像性能に優れた、化学増幅ポジ型の半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の製造方法は、少なくとも、酸解離性溶解抑制基でアルカリ可溶性基を保護した構造を有する繰り返し単位（Ａ）、ラクトン構造を有する繰り返し単位（Ｂ）、及び、アルコール性水酸基を有する繰り返し単位（Ｃ）を含む共重合体の製造方法であって、繰り返し単位（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を与える単量体から選ばれる少なくとも一種類以上を、有機溶媒に溶解した状態で水と接触させ、分液する工程、或いは、有機溶媒に溶解した状態でイオン交換樹脂と接触させる工程を経た後、共重合に供することにより、得られた共重合体を溶媒に溶解した後、ブロモチモールブルーを指示薬として、水酸化アルカリ金属含有溶液で中和滴定する方法で求めた酸価を、０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以下とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン形成時においてスカムが発生せず、基板とのマッチングが良好なポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、カルボキシル基を含有する構成単位、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む構成単位、及び酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、芳香族基を有する構成単位（ａ０）、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む（メタ）アクリル酸エステル構成単位（ａ５）及び酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】 光硬化物の除去性に優れた光ナノインプリントリソグラフィ用感光性樹脂組成
物、レジストパターンの形成方法、微細構造体及び光硬化物の除去方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）光重合性化合物及び（Ｂ）光重合開始剤を含有する光ナノインプリン
トリソグラフィ用感光性樹脂組成物であって、前記（Ｂ）光重合開始剤が、第一の活性光
線を照射した時に活性種を生じる化合物を含有し、前記（Ａ）光重合性化合物が、２以上
の重合性基と、第一の活性光線よりも波長の短い第二の活性光線を照射したときに切断さ
れる結合を含む特性基と、を分子内に有する化合物を含有する、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】環骨格中に−ＳＯ_２−を有する環式基を含む構成単位、フッ素原子を含む構成単位、および前記各構成単位とは異なる構成単位であって酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】モノマー組成比の偏りの小さいフォトレジスト用共重合体の製造方法の提供。
【解決手段】本発明によるフォトレジスト用共重合体の製造方法は、少なくとも２種の繰り返し単位を含むフォトレジスト用共重合体の製造方法であって、モノマー溶液と、重合開始剤を含む溶液とを重合反応系内に供給する供給工程を有し、重合反応開始からモノマー溶液の供給終了までの間の重合反応系内において、未反応モノマーのモノマー組成比の変動幅が上下１５％以内である、あるいは未反応モノマーのモノマー組成比の標準偏差が２以内である、フォトレジスト用共重合体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】電子線リソグラフィー又はＥＵＶリソグラフィー等の短波長リソグラフィーに適しており、感度、解像度及び形状が良好なパターンを形成し得るフォトレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性に変化する樹脂、式（１）で表される化合物、及び、露光により酸を発生する酸発生剤、を含有するフォトレジスト組成物。Ｒ¹〜Ｒ⁵は、それぞれ独立に、水素原子又は環状構造を有する酸解離性基を示し、かつ、該酸解離性基を少なくとも１つ含む。
（もっと読む）

【課題】、表面硬度が高い塗膜を得ることができる硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】バインダー樹脂（Ａ）と、３個以上のカルボキシル基を有するカルボン酸（Ｂ）とを含有し、バインダー樹脂（Ａ）が、少なくとも、不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物（Ａ−ａ）と、該（Ａ−ａ）と共重合可能な単量体（Ａ−ｂ）および／または炭素数２〜４の環状エーテル基を有する単量体（Ａ−ｃ）とを重合してなるバインダー樹脂である、硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】マイクロブリッジ欠陥やＢＬＯＢ欠陥と呼ばれる各種現像欠陥が低減されたパターンを得ることができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により保護基が脱離してアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）フッ素原子または珪素原子の少なくともいずれかを有する疎水性樹脂、を含有してなり、樹脂(A)が、極性基を含む保護基を有する繰り返し単位を有し、かつ、疎水性樹脂（Ｃ）が、下記(x)〜(z)の群から選ばれる基を少なくとも１つ含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物：(x)アルカリ可溶性基；(y)アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する基；(z)酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の構造を有する酸分解性の繰り返し単位を有し、酸の作用によりネガ現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングプロセスにおいて、２回目のパターニングの影響を受けにくい第一のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】ダブルパターニングプロセスにおいて、第一のレジスト膜を形成するポジ型レジスト組成物として用いられ、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、含フッ素化合物成分（Ｆ）とを含有し、当該（Ｆ）成分が、塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）のみを有する含フッ素高分子化合物（Ｆ１）および前記構成単位（ｆ１）と側鎖に特定の基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ｆ２）とを有する含フッ素高分子化合物（Ｆ２）からなる群から選択される少なくとも一種の含フッ素樹脂成分を含むポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）