【課題】支持体への塗布性に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法及びレジスト組成物の製造方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、前記有機溶剤（Ｓ）は、１−ブトキシ−２−プロパノールと２−ブトキシ−１−プロパノールとを含み（ただし、１−ブトキシ−２−プロパノールと２−ブトキシ−１−プロパノールとを混合して調製されたものを除く）、かつ、前記２−ブトキシ−１−プロパノールの割合が、前記１−ブトキシ−２−プロパノール１００質量部に対して１．５質量部以上であることを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】被形状転写層にスタンパを用いて微細パターンを転写形成するインプリント方法において、レジスト膜がはがれる問題を解決する。
【解決手段】（Ａ）少なくとも１つの反応性基を有し、フッ素原子を含有する化合物と、（Ｂ）少なくとも１つの反応性基を有し、フッ素原子を含有しない化合物と、（Ｃ）前記化合物（Ａ）の反応性基および／または前記化合物（Ｂ）の反応性基を活性化する化合物と、を含有するナノインプリントリソグラフィー用光硬化性組成物である。 （もっと読む）

【課題】適正な現像時間を有し、かつ、形状や基板への密着性も良好なスペーサを形成することが可能な感光性樹脂組成物、及びその感光性樹脂組成物から形成されたスペーサを有する液晶パネルを提供する。
【解決手段】本発明に係る感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、光重合性モノマー（Ｂ）、及び光重合開始剤（Ｃ）を含有する。アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、例えば、不飽和カルボン酸から誘導される構成単位（ａ１）と、脂環式基を有さないエポキシ基含有不飽和化合物から誘導される構成単位（ａ２）と、脂環式エポキシ基含有不飽和化合物から誘導される構成単位（ａ３）とを有し、構成単位（ａ２）の割合と構成単位（ａ３）の割合との合計が７１質量％以上である。 （もっと読む）

【課題】ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ₂ エキシマレーザーあるいはＥＵＶに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なわずに、解像度やラインエッジラフネスの向上を達成しうるアルカリ現像性や基盤密着性に優れた樹脂組成物およびその原料化合物を提供すること。
【解決手段】式（１）で表される脂環式エステル化合物。
【化１】


（式中、Ｒ₁は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒ₂〜Ｒ₄は、同一または異なって、メチル基またはエチル基を示し、Ｚは、炭素数４〜１５の２価の炭化水素基を示し、両端で結合する炭素原子と共に環状の炭化水素を形成する。炭化水素基においては、水素原子がハロゲン原子、アルコキシ基で置換されていても良い。） （もっと読む）

【課題】半導体素子等の回路の集積度や記録密度を向上させるために用いられるナノインプリントリソグラフィーに用いられるナノインプリントリソグラフィー用光硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表される置換基を有する化合物（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、を含有し、その２５℃における粘度が５０ｍＰａ・ｓ以下であるナノインプリントリソグラフィー用光硬化性組成物である。
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【課題】優れた解像度、ラインエッジラフネス及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】酸発生剤と樹脂とを含有する化学増幅型フォトレジスト組成物であって、前記樹脂が、酸に不安定な基及びラクトン環を有するモノマーに由来する構造単位（ｂ３−２）を含む樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物。構造単位（ｂ３−２）の好ましい例は、酸の作用によりカルボキシ基を生じ且つラクトン環を有するモノマーに由来する構造単位である。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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【課題】 ＰＥＢＳ、ＭＥＥＦ、被覆率依存性、ブリッジ欠陥のいずれもが良好なパターンを形成することが可能な感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを含有する樹脂を含有してなり、化合物（Ｂ）として活性光線または放射線の照射により下記一般式（Ｉ）で表される酸を発生する化合物を含有する感活性光線または感放射線樹脂組成物。（一般式（Ｉ）における各符号は明細書に記載の意味を有する。）
【化１】
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【課題】パターンの現像欠陥及びディスタンス依存性が改善された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）側鎖にノルボルナン構造を有する特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかと、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基を有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】初期接着性、接着安定性、耐熱性に優れ、使用後はエネルギー照射することにより、容易に解体（剥離）できる(メタ)アクリル系樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｂ）単官能（メタ）アクリレート、及び（Ｃ）オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ］−エチルエステル及び／又はオキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−ヒドロキシ−エトキシ］−エチルエステルを含有する (メタ)アクリル系樹脂組成物。（Ｄ）（Ａ）〜（Ｃ）成分に溶解しない粒状物質を含有してもよい。該 (メタ)アクリル系樹脂組成物を用いる易解体性接着剤。 （もっと読む）

【課題】より微細で線幅変動が制御されたレジストパターンを、ダメージの発生を軽減しつつ、簡便で効率的に形成可能なレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位（Ｒ^１は水素原子等、Ｒ^２はメチレン基等を示す）を含む重合体、及び溶媒を含有するレジストパターン不溶化樹脂組成物を用いて不溶化レジストパターンを形成する工程（１）と、不溶化レジストパターンが形成された基板上にレジスト層を形成して選択的に露光する工程（２）と、第二のレジストパターンを形成する工程（３）と、を有するレジストパターン形成方法である。
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【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する方法、該方法に用いられる樹脂組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるネガ現像用リンス液を提供する。
【解決手段】（ア）基板上に、活性光線又は放射線の照射により、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する、ポジ型レジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程、及び（エ）ネガ型現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法、該方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるネガ現像用リンス液。 （もっと読む）

【課題】電圧保持率に優れ、かつ、カラーフィルターとＩＴＯ膜との密着性が高いＩＴＯ膜付きカラーフィルターを提供すること、また、該ＩＴＯ膜付きカラーフィルターを備えた画像表示装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明のＩＴＯ膜付きカラーフィルターは、インクジェット方式によってカラーフィルター用インクを吐出して形成された着色部を備えたカラーフィルターと、前記カラーフィルターの前記着色部が形成されている側の面に設けられた酸化インジウムスズで構成されたＩＴＯ膜とを有し、前記ＩＴＯ膜の平均膜厚が、１０００〜２０００Åであり、前記カラーフィルター用インクは、着色剤と、前記着色剤が溶解および／または分散する液性媒体と、下記式（１４）で表される重合体Ｍとを含むことを特徴とする。
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【課題】電圧保持率に優れ、かつ、カラーフィルターとＩＴＯ膜との密着性が高いＩＴＯ膜付きカラーフィルターを提供すること、また、該ＩＴＯ膜付きカラーフィルターを備えた画像表示装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明のＩＴＯ膜付きカラーフィルターは、インクジェット方式によってカラーフィルター用インクを吐出して形成された着色部を備えたカラーフィルターと、カラーフィルターの着色部が形成されている側の面に設けられ、ケイ素化合物で構成された中間膜と、中間膜の前記カラーフィルターとは反対側の面に設けられ、酸化インジウムスズで構成されたＩＴＯ膜とを有し、ＩＴＯ膜の平均膜厚が、１０００〜２０００Åであり、前記カラーフィルター用インクは、着色剤と、着色剤が溶解および／または分散する液性媒体と、下記式（１４）で表される重合体Ｍとを含むことを特徴とする。
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【課題】 本発明は、耐熱性及び粘着性に優れた無溶剤のホットメルト粘着剤を効率良く製造することができるホットメルト粘着剤の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のホットメルト粘着剤の製造方法は、（メタ）アクリル酸アルキルエステルを含有する単量体とイニファーターとを含有し且つ溶剤を含有しない反応性組成物に活性エネルギー線を照射して重量平均分子量が５０００〜５０００００の共重合体を製造する重合工程と、この共重合体１００重量部に上記イニファーターとは別の光重合開始剤０．５〜２重量部を添加した上で、上記共重合体を加熱し溶融させて基材上に塗工する塗工工程と、上記基材上に塗工した共重合体に活性エネルギー線を照射して上記共重合体を架橋させる架橋工程とを備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】水残り欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の少ないパターンを形成することが可能であり、さらにＬＷＲの優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】主鎖に多環構造を有し、かつ該多環構造が酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する部位を有する繰り返し単位（a）を含む樹脂（ＨＲ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】式(1)または(2)の構成単位と環構造を有しながら、異物の含有量が少ないアクリル系重合体を提供する。
【解決手段】式(1)または(2)の構成単位を有し、主鎖に環構造を有し、Tgが110℃以上であり、濃度15重量％のクロロホルム溶液としたときに、測定光透過距離が1cmの測定セルに収容、測定した溶液の濁度が2％以下のアクリル系重合体とする。R¹-R⁴は水素または有機残基、R⁵はO¹に結合する炭素が2または3級の有機残基、Arはアリール基。


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【解決手段】カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｘは−ＮＨ−又は−Ｓ−である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制できる。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】放射線に対する透明性に優れ、レジスト溶剤に対する溶解性に優れるレジスト用樹脂を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される環状カーボナート化合物。


式（１）において、Ｒは水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｘは単結合またはヘテロ原子を含んでいてもよい２価の炭化水素基を表し、ｐは０または１、ｎは０または１、ｍは０、１または２を表し、ｐが０または１でｎが０のとき、ｍは１または２であり、ｐが０でｎが１のとき、または、ｐが１でｎが１のとき、ｍは０である。 （もっと読む）

【課題】解像度、ラインエッジラフネス等が良好なパターンを得ることを目的とする。
【解決手段】酸発生剤と樹脂（A１）及び（A２）とを含有し、樹脂（A１）及び（A２）が、アクリル系モノマー（ａ１）、（ａ２）及び（ａ３）から得られる樹脂であり、樹脂（Ａ１）の重量平均分子量が樹脂（Ａ２）のそれよりも小さく、以下の式を満たす化学増幅型フォトレジスト組成物。（ａ１）は酸の作用によりアルカリ可溶となるＣ₆〜Ｃ₂₀飽和環状炭化水素基を有し、（ａ２）は水酸基で置換されたアダマンチル基を有し、（ａ３）はラクトン環を有し、０．９９５＜Ｓ^１／Ｔ^１、Ｓ^２／Ｔ^２、Ｓ^３／Ｔ^３＜１．００５、Ｓ^１、Ｓ^２、Ｓ^３はそれぞれ樹脂（A１）の仕込みモノマー１００モルに対する（ａ１）、（ａ２）又は（ａ３）の仕込み量（モル）、Ｔ^１、Ｔ^２、Ｔ^３はそれぞれ樹脂（A２）の仕込みモノマー１００モルに対する（ａ１）、（ａ２）又は（ａ３）の仕込み量（モル）。 （もっと読む）