【課題】耐熱性、無機密着性、湿熱安定性を有し、かつ、高度な光学等方性（低複屈折性）を有する光学等方性支持板、インナータッチパネル用光学等方性支持板及びインナータッチパネルを提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される第一の構造単位５０〜９５質量％と、下記式（２）で表される第二の構造単位０．１〜２０質量％と、下記式（３）で表される第三の構造単位０．１〜４９．９質量％とを有するアクリル系熱可塑性樹脂で形成される光学等方性支持板１２。




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【課題】安価に実施可能であり、段差基板上でのパターン形成性に優れたパターン形成方法、及び該方法に使用するための感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（ア）側鎖にラクトン環構造を有する特定のアクリル酸エステル繰り返し単位（ａ）、ならびに下記一般式（III）、（IV）及び（V）の少なくとも１つで表される少なくとも１種の繰り返し単位（ｂ）を有する樹脂（Ｐ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程と、（イ）前記膜をＫｒＦエキシマレーザーにて露光する工程と、（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて前記膜を現像し、ネガ型のパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
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【課題】 高解像性で良好な形状の孤立ラインパターンを形成することができ、且つ、ラフネス特性を含む他のレジスト性能にも優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 少なくとも１つのフェノール性水酸基と、フェノール性水酸基の水素原子が下記一般式（１）で表される基によって置換されている基を少なくとも１つ含む化合物（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。（式中の各符号は、特許請求の範囲及び明細書に記載の意味を表す。）
【化１】
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【課題】優れた解像度を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）の化合物由来の構造単位を有する樹脂と、式（Ｂ１）の塩と、溶剤とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^２〜Ｒ^４は、独立にアルキル基等；Ａ¹は式（ａ−ｇ１）の基；ｓは０〜２の整数；Ａ¹⁰及びＡ¹¹は、独立に脂肪族炭化水素基；Ｘ¹⁰は、酸素原子等を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；ｎは１〜３の整数；Ａ¹は式（ａ−ｇ１）で表される基；ｓは０〜２の整数；Ａ^１０は脂肪族炭化水素基；Ａ^１１は、単結合又は脂肪族炭化水素基、但し、ｓ＝０の時、Ａ^１１は単結合ではない；Ｘ^１０は、酸素原子を含む基を表す。］ （もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できる、ネガ型レジスト組成物に用いる樹脂成分として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】一般式（ｆ１−１）又は一般式（ｆ１−２）で表される塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）と架橋性基含有基を含む構成単位（ｆ２）とを有する高分子化合物。式中、Ｒは水素原子、炭素原子数１〜５の低級アルキル基、又は炭素原子数１〜５のハロゲン化低級アルキル基であり；Ｘは二価の有機基であり、Ａ_ａｒｙｌは置換基を有していてもよい芳香族環式基であり、Ｘ_０１は単結合又は二価の連結基であり、Ｒ^２はフッ素原子を有する有機基である。
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【課題】 レジスト組成物調製時の溶解性並びに安定性を高めると共に、レジスト成膜時の膜厚均一性、線幅均一性、現像時のレジスト膜の密着性等の特性を向上させ、且つ安全性を向上させた硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 （Ａ）脂環式エポキシ基含有重合性不飽和化合物に対応するモノマー単位及び（Ｂ）アルカリ可溶性基を含むモノマー単位を含む共重合体と、ジプロピレングリコールジメチルエーテルを全溶媒中３０〜１００質量％含有する溶媒とを含むことを特徴とする硬化性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】経時の影響による寸法変動が抑制されると共に、リソグラフィー特性とレジストパターン形状に優れたレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（ｇ１）又は（ｇ２）で表される一価の基を有する化合物（Ｇ）と、一般式（ｈ１）又は（ｈ２）で表される一価の基を有する化合物（Ｈ）とを含有するレジスト組成物。
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【課題】レジストパターンの製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）が良好であり、あるいはマスクエラーファクター（ＭＥＦ）に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造できるレジスト組成物などを提供する。
【解決手段】式（ａ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂、酸発生剤及び溶剤を含有するレジスト組成物。


［式（ａ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基；Ａ^１は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基又は式（ａ−ｇ１）；ｓは０又は１；Ａ¹⁰及びＡ¹²は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基；Ａ¹¹は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基又は単結合；Ｘ¹⁰及びＸ¹¹は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基；ただし、Ａ¹⁰、Ａ¹¹、Ａ¹²、Ｘ¹⁰及びＸ¹¹の合計炭素数は６以下；Ｒ^２は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】解像性に優れると共に、現像後のディフェクトの発生を抑制でき、かつ、リソグラフィー特性やパターン形状が良好なレジスト組成物、レジストパターン形成方法、並びに、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物及びその製造方法の提供。
【解決手段】側鎖に−ＳＯ_２−含有環式基を有するアクリルアミド構成単位（ａ０）と、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）とを有し、前記構成単位（ａ０）の含有割合が５０モル％未満である樹脂成分（Ａ１）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基が酸不安定基により保護された部分構造を有する繰り返し単位を含有するベース樹脂と光酸発生剤と架橋剤と有機溶剤を共に含み、架橋剤がオキシラン環又はオキセタン環から選ばれる官能基を分子内に２つ以上有する化合物であるレジスト組成物を基板上に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤を含有する現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させることを特徴とするネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明のレジスト組成物は、有機溶剤現像において解像性が高く、露光、加熱処理により酸不安定基が脱保護した状態においても高い耐ドライエッチング性を示す特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】高屈折率の芳香族多環化合物で、紫外域の吸収や蛍光が問題無く透明性に優れ、高圧水銀ランプ等を用いた工業的に有利なＵＶ硬化装置で重合可能な化合物及びその重合性組成物の提供。
【解決手段】下式の化合物を塩基の存在下、ハロゲン化（メタ）アクリロイルと反応させて得る、９，１０−２置換[（メタ）アクリロイルオキシ]−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタノアントラセン化合物及び該（メタ）アクリレート化合物の重合物。
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【課題】 ＡｒＦエキシマレーザー光、ＥＵＶ等の高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、解像性に優れ、特にパターン形状の矩形性に優れ、更には基板への密着性に優れたパターンを形成することができるレジスト材料を得ることができる高分子化合物、該高分子化合物を含有する化学増幅レジスト材料及び該化学増幅レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で示す繰り返し単位を含有する高分子化合物。
【化１】
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【課題】本発明は、低温短時間硬化でも高い耐熱性を示す樹脂組成物及び該樹脂組成物を用いたコイルや回転機等の電気機器を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）ビシクロまたはトリシクロ構造を有する２級アルコールまたは３級アルコールからなる（メタ）アクリレート及び、（Ｂ）重合性炭素-炭素二重結合を２個以上有する（メタ）アクリレートあるいはスチレン誘導体と、（Ｃ）重合開始剤を含む熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いた電気機器。 （もっと読む）

【課題】本発明は、アルケンとアクリレートとノルボルネンとからなる単量体混合物を、ルイス酸の存在下でラジカル開始剤により重合させるアルケン−アクリレート−ノルボルネン３元共重合体の製造方法を開示する。
【解決手段】本発明のアルケン−アクリレート−ノルボルネン３元共重合体の製造方法は、ルイス酸を使用することにより、低温及び低圧のマイルド条件でも共重合体を製造することができ、工程が単純で、共重合体の物性制御が容易である。さらに、前記方法により製造された３元共重合体は、エチレンとノルボルネンとを同時に含むため、相対的に高いガラス転移温度を有し、フィルムの製造時、壊れる特性が改善される。 （もっと読む）

【課題】低臭気、低揮発性、低皮膚刺激性、および低毒性で、硬化性、基材密着性、および透明性に優れるため、インク、および塗料に代表されるインク用原料、ならびにレジスト、カラ−フィルタ、接着剤、製版材、封止材、および画像形成剤に代表される電子材料用原料などに用いられる、ジビニルエーテルホモポリマーの提供。
【解決手段】式（Ｉ）：


（式中、Ｘは単結合又は二重結合を示し、ｎは平均重合度を表す正の数である）
で表されるジビニルエーテルホモポリマー。 （もっと読む）

【課題】本発明は、良好な感度に加え、未露光部の膜厚変化量が少ない感放射線性樹脂組成物、この感放射線性樹脂組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜、並びにその形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］同一又は異なる重合体分子中に、下記式（１）で表される基を有する構造単位（Ｉ）及びエポキシ基を有する構造単位（ＩＩ）を含み、構造単位（Ｉ）の含有率が１０モル％以上９０モル％以下である重合体を含有する感放射線性樹脂組成物である。現像前の塗膜の膜厚Ｔ_０に対する現像後の膜厚Ｔ_１の膜厚変化率は、９０％以上であることが好ましい。
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【課題】新規化合物、高分子化合物、レジスト組成物、酸発生剤及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式（１−１）で表される化合物［式中、Ｒ^１、Ｒ^３はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基であり、Ａは２価の連結基であり、Ｒ^２、Ｒ^４はそれぞれ独立に、水酸基、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は式（１−ａｎ１）、（１−ａｎ２）又は（１−ａｎ３）で表される基である。n０は０又は１である。Ｙ¹は単結合又は−ＳＯ_２−であり、Ｒ^５はフッ素原子で置換されていてもよい、炭素数１〜１０の１価の炭化水素基、炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基、又は炭素数３〜２０の環状の部分構造を有する１価の炭化水素基である。Ｍ^＋は有機カチオン又は金属カチオンである］。
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【課題】ＣＤ均一性が良好なレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）酸発生剤及び（Ｄ）式（ＩＩ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式中、環Ｔ^１は、置換基を有していてもよいスルトン環；Ｚ^１は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等；Ｚ^２は、単結合又はカルボニル基；Ｒ^１は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子；Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ炭化水素基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子；ｍ及びｎは、それぞれ０〜４の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】透明性及び可とう性に優れ、且つ吸湿性に優れた硬化物を得ることが可能な活性エネルギー線硬化性組成物、その硬化物及びその硬化物を使用した発光特性に優れた有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリロイルモルホリン（Ａ）３０〜１００質量％及びその他のビニル単量体（Ｂ）０〜７０質量％を含む単量体成分並びに活性エネルギー線重合開始剤（Ｃ）を含有する活性エネルギー線硬化性組成物、活性エネルギー線硬化性組成物をフィルム状に成型した後に硬化して得られる吸湿性硬化物及び吸湿性硬化物を乾燥用吸湿剤として使用する乾燥手段を有する有機ＥＬ素子。 （もっと読む）