【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物によるパターン形成方法、及び該レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液溶解性が変化する基材成分（Ａ）は、式（ａ０−１）で表される構成単位と、アクリル酸エステルから誘導される構成単位と、酸分解性基を含む構成単位とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有する。［化１］
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【課題】多官能モノマーや単官能モノマー、溶剤との相溶性に優れ、紫外線を照射することにより硬化する際の体積収縮を抑制でき、硬度や耐擦傷性、密着性にも優れた塗膜を形成可能な紫外線硬化型ハードコート組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも（Ａ）（ａ１）Ｎ置換（メタ）アクリルアミドモノマー、（ａ２）水酸基を有する（メタ）アクリルアミドモノマーまたは（メタ）アクリル酸エステルモノマー、（ａ３）(メタ)アクリル酸脂環式炭化水素エステルモノマーからなる共重合プレポリマーと（ａ４）水酸基と反応し得る官能基を有する（メタ）アクリル酸エステルモノマーを反応させることにより得ることができるオリゴマーまたはポリマー、及び（Ｂ）分子内に２個以上の重合性官能基を有する多官能モノマーを１種類以上、を含有する紫外線硬化型ハードコート組成物が、上記課題の解決に合致することを見出し、本発明に到達した。 （もっと読む）

【課題】更なる高密度記録化に対応すべく磁気記録媒体用粉末を高度に分散するための手段を提供すること。
【解決手段】一般式(I)で表される構造単位を有する重合体を含むことを特徴とする樹脂組成物。一般式（I）中、Ｒ¹は水素原子またはメチル基を表し、Ｘ¹は酸素原子、硫黄原子または−Ｎ（Ｒ¹¹）−基を表し、Ｒ¹¹は水素原子または置換基を表し、Ｌ¹は置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、Ｙ¹はスルホン酸基と脂肪族三級アミンおよびメチル基含有芳香族アミンからなる群から選ばれるアミンから形成される塩を表す。
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【課題】本発明の目的は、基材や下地などとの密着性が良好であり、表面硬度、耐熱性および耐酸性が高く、かつ透過率が高く、特に波長４００ｎｍ付近の透過率が高い感光性樹脂組成物と、それを用いたタッチパネル用絶縁膜を提供することを目的とする。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、多官能単量体（Ｃ）と、を含有する感光性樹脂組成物であって、樹脂（Ａ）が一般式（１）で表される化合物（ａ１）と、化合物（ａ１）と共重合可能な他の化合物（ａ２）とを共重合してなる樹脂（Ａ１）を含み、多官能単量体（Ｃ）が、１分子中に７個以上のエチレン性不飽和二重結合を有することを特徴とする感光性樹脂組成物によって解決される。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンの形成においてもＣＤＵ等のリソグラフィー特性に優れるフォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】［Ａ］γ−ブチロラクトン環を含む構造単位を有するアダマンチル基及びアダマンタン環を含む酸解離性基含有重合体、及び［Ｂ］酸発生体を含有するフォトレジスト組成物であって、上記構造単位の含有割合が６０モル％を超えることを特徴とするフォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】粘着性に富み、柔軟で、優れた力学強度を示すと共に、良好な成形加工性を示すエチレン・α―オレフィン・非共役ポリエン共重合体を提供する。
【解決手段】エチレン［Ａ］、炭素原子数４〜２０のα−オレフィン［Ｂ］、および少なくとも一種の非共役ポリエン［Ｃ］に由来する構造単位を含むエチレン系共重合体であって、（１）エチレン［Ａ］に由来する構造単位が、［Ａ］、［Ｂ］および［Ｃ］の構造単位の合計を１００モル％として、４０〜６０モルであり、（２）非共役ポリエン［Ｃ］に由来する構造単位が、［Ａ］、［Ｂ］および［Ｃ］の構造単位の合計を１００モル％として、０．５〜４．０モル％であり、（３）１２５℃におけるムーニー粘度ＭＬ₁₊₄（１２５℃）が、１０〜８０であり、（４）損失弾性率（Ｇ’’）が下記式［Ｉ］を満たすことを特徴とするエチレン・α―オレフィン・非共役ポリエン共重合体。
５．０×１０⁴＜ Ｇ’’(５０℃) Ｐａ ＜１．０×１０⁵ ［Ｉ］ （もっと読む）

【課題】基板との密着性（ハガレ耐性）に優れた液浸上層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】複数のカルボキシル基を含む繰り返し単位（ａ）を有する重合体成分（Ａ）および溶剤（Ｂ）を含む液浸上層膜形成用組成物である。具体的には、複数のカルボキシル基を含む繰り返し単位が下記式（ａ１）である液浸上層膜形成用組成物である。
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【課題】サイズ効果が良好であり、表面サイズ剤の製造から使用するまでの間、貯蔵安定性、特に、高濃度における貯蔵安定性に優れた製紙用表面サイズ剤および機械的シェアに安定で凝集物が発生しにくい表面塗工液を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリルアミド（ａ１）３０〜９０重量％、スルホン酸基含有不飽和単量体（ａ２−１）を含むアニオン性不飽和単量体（ａ２）５〜５０重量％、および置換基の炭素数が６〜１２である（メタ）アクリル酸アルキルエステル単量体（ａ３）５〜５０重量％を含む単量体成分（ａ）を共重合させて得られる水溶性ポリマー（Ａ）、アルキルケテンダイマー（Ｂ）、トリメリット酸トリアルキルエステル（Ｃ）および水溶性アルミニウム化合物（Ｄ）を含有する製紙用エマルジョン型表面サイズ剤とする。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体形成用塗布液の調製のために好適なポリマー組成物を製造するための手段を提供すること。
【解決手段】ポリマー組成物の製造方法。前記ポリマー組成物は、所定の４種のモノマー（モノマー１〜４）を含む原料モノマーの重合反応により得られるポリマーを含み、モノマー１を水または水とアルコールとの混合溶媒に添加して調製した溶液Ａと、モノマー２、３および４をケトン系溶媒に添加して調製した溶液Ｂとを混合して原料モノマー混合液を調製し、該原料モノマー混合液中で前記重合反応を行う。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜の提供。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される酸によって分解しカルボキシル基を生じる繰り返し単位（ａ１）を有する樹脂（Ｐ）、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できるレジストパターン形成方法、レジストパターン、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、レジスト膜、及びレジスト塗布マスクブランクスを提供することにある。
【解決手段】非酸分解性の多環脂環炭化水素構造を有する基で、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物（Ａ）、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）、及び、酸の作用により前記高分子化合物（Ａ）を架橋する架橋剤（Ｃ）を含有する、ネガ型化学増幅型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程（１）、該膜を露光する工程（２）、及び、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程（４）をこの順番で有する、レジストパターン形成方法、レジストパターン、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、レジスト膜、及びレジスト塗布マスクブランクス。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）または下記一般式（ａ０−２）で表される構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有し、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（ｂ０−１）または（ｂ０−２）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、塩基性化合物成分（Ｃ）、光増感剤（Ｇ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、塩基性化合物成分（Ｃ）が、式（ｃ１）〜（ｃ３）で表される化合物からなる群から選ばれる１つ以上を含む［式中、Ｒ^１は置換基を有していてもよい炭化水素基であり、Ｚ^２ｃは置換基を有していてもよいＣ１〜３０の炭化水素基（ただし、Ｓに隣接する炭素にはフッ素原子は置換されていない）であり、Ｒ^２は有機基であり、Ｙ^３はアルキレン基またはアリーレン基であり、Ｒｆはフッ素原子を含む炭化水素基であり、Ｍ^＋は芳香族性を有しないスルホニウム又はヨードニウムカチオンである。］
[化１]
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【課題】樹脂組成物の重合硬化時における収縮が大きいため、重合硬化時に発生する歪が大きい。また、エステル(メタ)アクリレートの分子量が大きい場合は粘度が高くなり、樹脂層は黄変劣化しやすい。
【解決手段】窒素（Ｎ）を含まない以下の［化１］で表わされる非Ｎエステル（メタ）アクリレートと、多官能イソシアヌレート化合物と、重合開始剤とを含む樹脂組成物が重合されている樹脂層を備える複合光学素子としたものである。
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【解決手段】カルボキシル基の水素原子が環構造を有する酸不安定基で置換されている（メタ）アクリレートの繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物と、ジヒドロキシナフタレンのノボラック樹脂と、光酸発生剤とを含有するポジ型レジスト材料。
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、高反射の段差基板上での解像性と埋め込み特性と密着性に優れ、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好である。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはＥＢ描画によるフォトマスクの微細パターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐衝撃性が良好かつ吸湿性の低いアクリル樹脂板を提供することであり、また該樹脂板の積層体及び表示装置を提供する。
【解決手段】炭素数６〜２０の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）１５〜５０質量％、炭素数１〜５の直鎖または分岐した炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステル（Ｂ）４５〜８４質量％、及び下式（１）で表されるジ（メタ）アクリル酸エステル（Ｃ）０．５〜７質量％を含む重合性組成物を重合して得られるアクリル樹脂板。
ＣＨ_２＝ＣＲ−ＣＯＯ−（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ−ＣＯＣＲ＝ＣＨ_２・・・（１）
但し、Ｒは水素原子又はメチル基、ｎは５〜１６の整数を示す。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ＩＡ）で表されるアニオンを有するヨードニウム塩と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得るアクリル樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。［式（ＩＡ）中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基又は炭素数７〜２１のアラルキル基を表す。Ｒ^２は、炭素数７〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数７〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基又は炭素数７〜２１のアラルキル基を表す。Ｒ^１及びＲ^２は互いに結合してＮとともに炭素数４〜２０の環を形成してもよい。］
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【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュード及び耐ドライエッチング性能に優れたネガ型パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により分解し、極性基を生じる基を有する繰り返し単位を、樹脂中の全繰り返し単位に対して６５モル％以上有し、かつ下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像し、ネガ型パターンを形成する工程を含む、ネガ型パターン形成方法。
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【課題】ブリッジ欠陥及びスカムの発生を抑制でき、かつＬＷＲ性能に優れ、良好な微細パターンを形成することが可能なレジスト膜用の感放射線性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】［Ａ］炭素数５〜２１の直鎖状のアルキル基が結合している炭素原子と共に、核原子数４〜２０の２価の脂肪族環状炭化水素基又は脂肪族複素環基を側鎖に有するアクリル構造単位（Ｉ）を有する含フッ素重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー性能を改善させると同時に、高い後退接触角を示し、更に、保護膜を用いる液浸露光及び保護膜を用いない液浸露光の両用においてブロッブ欠陥の発生を抑えることが可能なレジスト組成物及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が変化する高分子化合物（Ａ）、高エネルギー線に感応して下記一般式（１）で示されるスルホン酸を発生する光酸発生剤（Ｂ）、下記一般式（２）で示される高分子添加剤（Ｃ）とを含むことを特徴とするレジスト組成物。Ｒ^２００−ＣＦ_２ＳＯ_３Ｈ（１）
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