【課題】感度、現像性、寸法忠実度等に優れる。
【解決手段】繰り返し単位［１］を含有し、分子量が〜１００，０００である樹脂と、酸発生剤と、酸架橋剤とを含有する


［Ｒ^２、Ｒ^３のいずれか一つがＲｆＳＯ_２ＮＨＣＨ_２−基］ （もっと読む）

【課題】トナーと接触する電子写真機能部品をトナー極性と反するような帯電性にすることができ、メインバインダーとの分散性・相溶性が優れた正荷電制御樹脂を提供するものである。
【解決手段】特定の（メタ）アクリル酸エステルモノマー及びアミノ基含有モノマー、及びカルボキシル基含有モノマーを共重合成分として重合した共重合体からなる正荷電制御樹脂である。 （もっと読む）

【課題】液浸露光中のレジスト膜の変質および使用液浸露光用液体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数の増加なしに、形状良好なレジストパターンを形成可能な保護膜形成用材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される構成単位を有するアルカリ可溶性ポリマーと、アルコール系溶剤とを含有して保護膜形成用材料を構成する。
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【課題】画像部のインキ着肉性に優れ、良好な印刷物が得られ、且つ、連続的に製版処理した場合でも、現像液中における析出物（ヘドロ）の発生が抑制された感光性平版印刷版を提供することにある。
【解決手段】支持体上に、エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合可能な化合物、重合開始剤、及び、界面活性剤として特定の高分子化合物を含有する重合性感光層を有する感光性平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】優れた防湿性を有するとともに容易に水中で離解され易いリサイクル可能な防湿加工用ラテックスの提供。
【解決手段】エチレン系不飽和カルボン酸単量体を共重合成分として含む混合モノマーを乳化共重合させて得られるラテックスであって、（１）水に不溶なラテックス粒子の内部に共重合して存在するエチレン系不飽和カルボン酸と、（２）水に可溶なオリゴマーとして水相に分離して存在するエチレン系不飽和カルボン酸のうち、（２）水に可溶なオリゴマーとして水相に分離して存在するエチレン系不飽和カルボン酸の量が、共重合に用いられたエチレン系不飽和カルボン酸単量体の全量の０．０５〜５重量％であることを特徴とする防湿加工用ラテックス［Ｉ］。 （もっと読む）

本発明は香料の分野に関する。特に本発明は、香料分子、たとえばα，β−不飽和ケトン、アルデヒドまたはカルボン酸エステルを遊離することが可能な少なくとも１つのβ−オキシまたはβ−チオカルボニル部分を含有する、ポリエチレンまたはポリプロピレンベースポリマーに関する。さらに本発明は、前記化合物の香料中の使用ならびに本発明による化合物を含有する香料組成物または賦香製品に関する。 （もっと読む）

【課題】１枚の光学フィルムであっても広帯域で所望の位相差を与え、しかも、波長分散特性が任意に制御することのできる光学フィルムを提供する。
【解決手段】重合性化合物（１）に由来する構造単位と棒状重合性液晶化合物に由来する構造単位とを含有するポリマーを有効成分とすることを特徴とする光学フィルム。


（式（１）中、Ｙは屈曲構造を有する２価の基を表す。（Ｇ１）ｓ及び（Ｇ２）ｔは、単結合又はメチレン基等を表す。Ａ１及びＡ２は、２価の環状炭化水素基、２価の複素環基等を表す。Ｂ１及びＢ２は−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−などの２価の基を表す。Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、式（２）で表される２価の基を表す。


［式（２）中、Ａ３はＡ１と同じ意味を表し、Ｂ３は前記Ｂ１と同じ意味を表す。ｎは１〜４の整数を表す。］
Ｅ１及びＥ２はアルキレン基を表し、Ｐ１及びＰ２は重合性基を表す。） （もっと読む）

要約
本発明は３次元物体の製造方法に関し、３次元構造が、可視光及び／又は紫外線で固体高分子材料へと硬化できる組成物の層群の、個々の層の紫外及び／又は可視光線への一連の曝露による、一連の選択的硬化によって製造され、その後このようにして形成された３次元構造を用いることにより３次元物体を製造し、続いて３次元構造を３次元物体から除去することを含む方法において、３次元構造を除去することが、高分子材料を化学的に切断することに加えて、同時又は続いて材料を溶媒又は混合溶媒中で溶解すること及び／又は材料を融解することによって達成されることを特徴とする方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 現像欠陥が少ない感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 アルカリ難溶性あるいは不溶性であり、酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂が下記式（１）で表される繰返し単位を含有する。
【化１】


（Ｒ¹は水素原子、メチル基、エチル基、炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基、または炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基を表し、Ａは単結合または２価の有機基を表し、Ｒ²は、それぞれ独立して水素原子、炭素数１〜２０の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、またはＲ²は、互いに結合してそれぞれが結合している原子を含めて原子数４〜２０の環状基若しくはその誘導体を表す。） （もっと読む）

【課題】１枚の光学フィルムであっても広帯域で所望の位相差を与え、しかも、波長分散特性が任意に制御することのできる光学フィルムに好適なモノマーを提供する。
【解決手段】式（１）で表される重合性化合物。


（式（１）中、Ｃ１は４級炭素原子又は４級ケイ素原子を表す。Ｇ１及びＧ２はメチレン基などの−ＣＲ^１Ｒ^２−を表す。Ａ１及びＡ２は２価の環状炭化水素基、２価の複素環基等を表す。Ｄ１およびＤ２は炭化水素基、複素環基を表し、Ｄ１及びＤ２は連結されていてもよい。Ｂ１及びＢ２は−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−などの２価の基を表す。Ｘ１及びＸ２は式（２）で表される２価の基を表す。


［式（２）中、Ａ３はＡ１と同じ意味を表し、Ｂ３は前記Ｂ１と同じ意味を表す。ｎは１〜４の整数を表す。］
Ｅ１及びＥ２はアルキレン基を表し、Ｐ１及びＰ２は重合性基を表す。） （もっと読む）

【課題】１枚の光学フィルムであっても広帯域で所望の位相差を与え、しかも、波長分散特性が任意に制御することのできる光学フィルムに好適な化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物。


（式（１）中、Ｃ１は４級炭素原子又は４級ケイ素原子を表す。Ａ１及びＡ２は２価の環状炭化水素基、２価の複素環基等を表す。Ｄ１およびＤ２は炭化水素基、複素環基を表す。Ｂ１及びＢ２は−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−などの２価の基を表す。Ｘ１及びＸ２は式（２）で表される２価の基を表す。


［式（２）中、Ａ３はＡ１と同じ意味を表し、Ｂ３は前記Ｂ１と同じ意味を表す。ｎは１〜４の整数を表す。］
Ｅ１及びＥ２はアルキレン基を表し、Ｐ１及びＰ２は重合性基を表す。） （もっと読む）

【課題】 半導体リソグラフィーにおいて、現像コントラストやＤＯＦ等のリソグラフィー特性の優れた共重合体と該共重合体を含む組成物及び該共重合体を与えるチオール化合物を提供する
【解決手段】 本発明の半導体リソグラフィー用共重合体は、少なくとも、酸解離性溶解抑制基でアルカリ可溶性基を保護した構造を有する繰り返し単位（Ａ）と、式（Ｆ）
【化４６】


（式中、Ｘ_１及びＸ_２はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子が置換しても良い炭素数１〜４の炭化水素基を表し、Ｙ_１１〜Ｙ_１４は水素原子、若しくは、Ｙ_１１とＹ_１２の間又はＹ_１３とＹ_１４の間で形成したエーテル結合或いは炭素数１〜２の炭化水素結合を表し、Ｙ_２１〜Ｙ_２５はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基を表し、ｎは０又は１の整数を表す。）
で表される末端構造（Ｆ）を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】 下記一般式（１）で表されるエステル化合物。
【化１３】


（式中、Ｒ¹はフッ素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状のフッ素化アルキル基を示す。Ｒ²は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基又はフッ素化アルキレン基を示す。Ｒ³は酸不安定基を示す。）
【効果】 本発明の重合性エステル化合物から得られる高分子化合物を用いたレジスト材料は、ＡｒＦ露光において優れた解像性と透明性、小さいラインエッジラフネス、優れたエッチング耐性、特にエッチング後の表面ラフネスが小さい特性を有している。また、投影レンズとウエハー間に液体を挿入して露光を行うＡｒＦ液浸リソグラフィーでも同様の高い性能を発揮できる。 （もっと読む）

【課題】 厚膜レジストパターンの形成において高い感度が得られるポジ型ホトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線照射により酸を発生する化合物、および（Ｂ）酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂を含有してなり、前記（Ｂ）成分は、アクリル酸エステルから誘導される構成単位であって、カルボキシ基の水素原子が下記一般式（Ｉ）で表される酸解離性溶解抑制基で置換されている構成単位（ｂ１）を有する樹脂（Ｂ１）を含有することを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。
【化１】


［上記式中、Ｙは置換基を有していてもよい脂肪族環式基またはアルキル基を表し；ｎは０または１〜３の整数を表し；Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１〜５の低級アルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】 良好な形状のレジストパターンが得られるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、アセタール型保護基を有する構成単位（ａ１）と、一般式（ａ２−１）で表されるラクトン含有多環式基を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）と、極性基含有脂肪族炭化水素基を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ３）とを含む共重合体（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【化１】


［式中、Ｒは水素原子、フッ素原子、低級アルキル基またはフッ素化低級アルキル基；Ｒ’は水素原子、低級アルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基；ｍは０または１の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像液に対する溶解性を向上できるネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂成分、（Ｂ）露光により酸を発生する酸発生剤成分、および（Ｃ）架橋剤成分を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）アルカリ可溶性樹脂成分が、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を１つ有する脂肪族環式基を含有する構成単位（ａ１）と、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を２つ以上有する脂肪族環式基を含有する構成単位（ａ２）とを含む高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】粘着性、柔軟性及び耐久性に優れ、偏光板やＤＶＤ等の光学基板の接着にも適用し得る粘着剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）（メタ）アクリロイルオキシ基を有し、重量平均分子量が１０００〜３００００、ガラス転移温度が０℃以下であるポリマー（ポリマー（Ａ））５〜９５質量部；及び（Ｂ）重量平均分子量が２０万〜２００万、ガラス転移温度が０℃以下であるポリマー（ポリマー（Ｂ））５〜９５質量部（但し、ポリマー（Ａ）とポリマー（Ｂ）との合計は１００質量部）を含有する粘着剤組成物及びこれを硬化させた粘着材を提供する。 （もっと読む）

【課題】半導体の製造において使用されるレジスト用ポリマーにおいて、ラフネスが小さく、現像欠陥が少なく、かつＤＯＦなどのリソグラフィー特性の優れたレジスト用ポリマーとその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の半導体リソグラフィー用共重合体は、少なくとも酸の作用でアルカリ可溶性が増大するカルボン酸エステル構造を有する繰り返し単位（Ａ）とカルボキシル基を有する繰り返し単位（Ｂ）とを含む共重合体であって、少なくとも繰り返し単位（Ａ）を与える単量体を（共）重合する工程（Ｐ）と、繰り返し単位（Ａ）を有する（共）重合体および／または繰り返し単位（Ａ）を与える単量体を酸と共存させて繰り返し単位（Ｂ）を生成する工程（Ｑ）とを経て得られることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ディフェクトが少なく、かつリソグラフィー特性にも優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位を主鎖に有する樹脂成分（Ａ）、および放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、少なくとも１種の単量体を重合させて製造する際に酸を存在させることにより得られる少なくとも２種の構成単位を有する共重合体であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 高い熱伝導性と速硬化性を有し、低分子シロキサンを含まず、かつ好ましくは湿気硬化性及び光硬化性を備えた硬化性組成物、及びそれを用いた放熱部材の形成方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の請求項１では、（Ａ）一分子中にビニル基とイソシアネート基をそれぞれ１つ以上有する化合物と、（Ｂ）光重合開始剤と、（Ｃ）熱伝導性充填材とを含む組成物であって、前記組成物の配合割合が、（Ｂ）成分については（Ａ）成分に対して０．０１〜１０重量％、（Ｃ）成分については組成物全体に対して５０〜９７重量％である熱伝導性を有する硬化性組成物とした。
また、本発明の請求項５では、上記した（Ａ）〜（Ｃ）を含む硬化性組成物を用いて、発熱体と放熱体とを接合するようにした。 （もっと読む）