コバルト含有複合金属シアン化物錯体を触媒として重合させて得られるオキシアルキレン系重合体とメルカプト基含有化合物存在下でラジカル重合して得られるアクリル系重合体及び／又はメルカプト基含有化合物とを含有する組成物に、さらに還元剤を含有せしめることにより、極端な着色が抑制されており接着剤などに好適に使用できる樹脂組成物が得られる。 （もっと読む）

エチレン性不飽和モノマーと、後架橋性のエチレン性不飽和シランコモノマーとの水性媒体中でのラジカル開始共重合、および場合により、それにより得られたポリマー分散液のその後の乾燥により得られる、その水性ポリマー分散液の形における架橋性のシラン変性混合ポリマーまたは水に再分散可能なポリマー粉末であって、ａ）１〜１５個のＣ原子を有する非分子鎖状または分子鎖状のアルキルカルボン酸のビニルエステル、１〜１５個のＣ原子を有するアルコールのメタクリル酸エステルおよびアクリル酸エステル、ビニル芳香族化合物、ビニルエーテル、オレフィン、ジエンおよびビニルハロゲン化物を含有する群からの１つ以上のモノマーを、ｂ）ａ）およびｂ）の全質量に対して、１つ以上のエチレン性不飽和α−シラン０．１〜５０質量％と共重合することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液浸露光プロセスにおいて、水を始めとした各種液浸露光用液体を用いた液浸露光中のレジスト膜のブリッジなどに代表される変質および液浸露光用液体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数の増加を来すことなく、さらにはレジスト膜の引き置き耐性を向上させることができ、液浸露光を用いた高解像性レジストパターンの形成を可能とする。
【解決手段】レジスト保護膜形成用材料として、レジスト膜の上層保護膜を形成するための、アルカリに可溶なポリマー成分を含有し、前記ポリマー成分と水との接触角が９０°以上であることを特徴とするレジスト保護膜形成用材料を用いる。このようなポリマーとしては、（メタ）アクリル酸構成単位と特定のアクリル酸エステル構成単位を少なくとも含むアクリル系ポリマーが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて、好適に使用することができ、露光ラチチュードが広く、線幅の面内均一性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 脂環基を有する特定の繰り返し単位を含有する樹脂を２種、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 レジスト用溶剤に極めて溶解しやすいフォトレジスト用樹脂をスケールアップした工業的規模において効率よく製造する。
【解決手段】 フォトレジスト用樹脂の製造方法は、単量体及び重合開始剤の溶液を重合系内に滴下することにより、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位Ａと極性基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位Ｂとを少なくとも含有するフォトレジスト用樹脂を、１バッチ当たり１０ｋｇ以上製造する方法であって、予め重合容器内に、実質伝熱面積が１時間に滴下する溶液量に対して２００ｃｍ²／ｋｇ以上となるように重合溶媒を仕込んでおき、昇温後、単量体及び重合開始剤の溶液を滴下開始することを特徴とする。単量体及び重合開始剤の溶液を滴下開始する前に、重合系内の温度を重合時の制御温度より１〜５℃高くしておき、滴下開始後に重合時の制御温度に設定してもよい。 （もっと読む）

【課題】 不溶解物の生成が無くしかも簡素化された工程でフォトレジスト用樹脂溶液を得ることのできるフォトレジスト用樹脂溶液を得る。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法は、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位Ａと、極性基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位Ｂとを少なくとも含有するフォトレジスト用樹脂のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルの混合溶媒による溶液を製造する方法であって、重合後ポリマーを貧溶媒に沈殿させ、分離した湿結晶をプロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解し、蒸留により低沸点成分を除去した後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて前記フォトレジスト用樹脂の溶液を得ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像度であり、現像時のディフェクトや、ラインエッジラフネスが小さいレジスト用重合体、その製造方法、レジスト用重合体を含むレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供する。
【解決手段】 ラクトン骨格を有する構成単位（Ａ）および酸脱離性基を有する構成単位（Ｂ）を含有するレジスト用重合体の製造方法であって、下記式（１）の化合物を含有する重合溶媒中で、前記構成単位（Ａ）および（Ｂ）を与える単量体を重合する工程を含むレジスト用重合体の製造方法。
【化１】


（式（１）中、Ｒ¹はヒドロキシ基を有している炭素数１〜２０の直鎖、分岐、もしくは環状アルキル基を表す。ｎは３〜２４の整数を表す。Ｊは置換基および／またはヘテロ原子を有していてもよいｎ価の炭化水素基を表す。） （もっと読む）

【課題】 高解像度、露光余裕度、小さい疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】 少なくとも、下記一般式（１）で示される共重合による繰り返し単位を含んでなる、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物、該高分子化合物をベース樹脂として含むポジ型レジスト材料、該高分子化合物を基板上に塗布する工程を含んでなるパターン形成方法を提供する。
【化１】
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【課題】 露光ラチチュードやラインエッジラフネス等の諸性能にすぐれ、さらに液浸露光に適用してもドライ露光時に比較して感度の劣化が小さく液浸液への酸の溶出が極めて少ないレジストを提供する。
【解決手段】 （Ａ）特定構造を側鎖に有する繰り返し単位を含有し、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 高解像性であって、パターン倒れが抑制され、かつ形状が良好なレジストパターンを形成できる高分子化合物およびポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ１−０１）で表される構成単位および下記一般式（ａ１−０２）で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも２種の構成単位（ａ１）を有する高分子化合物を用いたポジ型レジスト組成物。
【化１】


［上記式中、Ｙは脂肪族環式基を表し；ｎは０または１〜３の整数を表し；ｍは０または１を表し；Ｒはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜５の低級アルキル基、フッ素原子または炭素数１〜５のフッ素化低級アルキル基を表し；Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１〜５の低級アルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】２００ｎｍより短波長の光による露光に好適で高解像度のレジストパターンを形成することができるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分と、（Ｂ）芳香環又は脂肪族環に直接結合した炭素原子上に２級又は３級アルコール構造を有する多価アルコール化合物、および（Ｃ）露光により酸を発生する酸発生剤成分を少なくとも含有してなるネガ型レジスト組成物であり、樹脂成分（Ａ）が２００ｎｍより短波長の光に対して高度な透明性を有する。 （もっと読む）

【課題】 他のモノマーとの重合性に優れ、通常の重合手段で容易に合成可能なスチレン誘導体と、このスチレン誘導体を用いた加熱前はアルカリに可溶で、加熱後は優れた耐アルカリ性を示すポリマー、及びその製造方法の提供。並びに、このポリマーを用いた、現像前はアルカリ可溶性で現像性、保存安定性に優れ、現像後に耐アルカリ性、絶縁性に優れるパターン形成材料及び高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法の提供。
【解決手段】 下記一般式（１）及び下記一般式（２）のいずれかで表されるスチレン誘導体を得る。このスチレン誘導体によりポリマーを合成し、このポリマーによりパターン形成材料を形成するとともに、このパターン形成材料により永久パターンを形成する。
【化５８】


【化５９】
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【課題】 遠紫外線に対して優れた透明性と高感度を有し、基板との密着性が良く、エッチング耐性を持ち、微細パターン加工可能な放射線感光材料用の樹脂を提供すること。
【解決手段】 加熱された溶媒中に、極性基含有脂環式官能基を有するモノマー（Ｃ）及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を有するモノマー（Ｄ）及びラジカル重合開始剤を添加し、共重合させる工程、及び生成した樹脂を沈殿により精製する沈殿精製工程を経ることにより、極性基含有脂環式官能基及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を１分子中にそれぞれ少なくとも１つ以上有する半導体集積回路用遠紫外線感光材料用樹脂（Ａ）を得る。 （もっと読む）

【課題】通常、不活性かつ非重合性のオレフィン性不飽和有機分子を含むマクロモノマーの提供。
【解決手段】本発明の不活性かつ非重合性のオレフィン性不飽和有機分子を含むマクロモノマーは、コバルト連鎖移動触媒の使用により慣用のモノマーとホモ重合または共重合することができる、オレフィン性不飽和有機分子または非重合性の有機分子を用いた方法により得ることができる。該マクロモノマーは、片方の末端に官能基およびもう片方の末端に二重結合を含む。 （もっと読む）

【課題】架橋効率が高く、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が小さいためパターン崩壊やラインエッジラフネスが低減される、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作成における微細パターン形成材料として好適なレジスト材料を提供する。
【解決手段】 少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物を含むものであることを特徴とする化学増幅型ネガ型レジスト材料。
【化４５】
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【課題】本発明の目的は、ＡｒＦエキシマレーザー用に適するフォトレジストポリマーを提供することにあり、詳しくは、生産効率がよく品質の安定したフォトレジスト用ポリマーの製造方法を提供することにある。
【解決手段】少なくとも酸によって分解してアルカリ可溶となる構造と、半導体基板に対する密着性を有する極性基を含有する脂環式炭化水素基を有するフォトレジスト用高分子化合物の製造において、単量体を重合開始剤により重合し、その重合溶液を貧溶剤に添加し、生成した高分子化合物の沈殿を、濾過操作を使用せずに、デカンテーションにより未反応単量体を除くことを特徴としたフォトレジスト用高分子化合物の製造方法による。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトアプリケーションのリソグラフィー工程に使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、通常露光での現像欠陥性能が改善され、液浸露光に適用した場合のＤＯＦとプロファイルの劣化が改善され、水に対する追随性が良好で、且つスカムの発生が抑制されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｆ）特定の界面活性剤を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 製膜性及び透明性に優れた刺激応答性材料を提供すること。
【解決手段】少なくとも1種の式（１）：
【化１】


で表される脂環式ビニルエーテルと、少なくとも１種の式（２）：
【化２】


で表されるオキシエチレン鎖含有ビニルエーテル、又は少なくとも１種の式（３）：
【化３】


で表される長鎖アルキル基含有ビニルエーテルを主鎖に有する脂環式ビニルエーテル共重合体。 （もっと読む）

波長２２０ｎｍ以下での透明性に優れ、かつ感放射線性酸発生剤としたとき、感度、解像度、パターン形状、ＬＥＲ、保存安定性等に優れた性能を発現しうるスルホニウム塩化合物、並びに当該化合物を感放射線性酸発生剤とするポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
スルホニウム塩化合物は一般式（１）で表される。


〔但し、Ｒ^１はハロゲン原子、アルキル基、１価の脂環式炭化水素基、アルコキシル基、−ＯＲ^３基（但し、Ｒ^３は１価の脂環式炭化水素基。）等を示し、Ｒ^２は（置換）アルキル基を示すか、２個以上のＲ^２が相互に結合して環構造を形成し、ｐは０〜７、ｑは０〜６、ｎは０〜３であり、Ｘ⁻はスルホン酸アニオンを示す。〕
ポジ型感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）該スルホニウム塩化合物からなる感放射線性酸発生剤および（Ｂ）酸解離性基含有樹脂を含有する。
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本発明のレジスト用重合体は、シアノ基を有する特定の構成単位と酸脱離性基を有する構成単位とラクトン骨格を有する特定の構成単位とを含有するものであり、ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー、電子線リソグラフィー等においてレジスト樹脂として用いた場合に高感度、高解像度であり、レジストパターン形状が良好であり、ラインエッジラフネスの発生、マイクロゲルの生成が少ない。 （もっと読む）