医療装置のための生体適合性コーティングが開示される。詳しくは、生体内医療装置から生物活性物質の放出を制御するように設計されたポリマーコーティングが開示される。本出願は、また、放出制御コーティングを有する血管ステント及びこれらのコーティングを製造するための関連方法を提供することを開示する。本発明の追加の実施態様には、開示された1つ又は複数のコポリマーで被覆されたステントとペプチド薬剤とが含まれる。患者においてステント植込み後再狭窄を治療又は阻止するための方法も提供される。 （もっと読む）

【課題】 レジストパターン形状が良好で、微細なレジストパターンを形成できる液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含む液浸露光用ポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分（Ａ）が、水素原子を有するアルカリ可溶性基（ｉ）を有し、かつ該アルカリ可溶性基（ｉ）の一部において、その水素原子が下記一般式（Ｉ）［上記式中、Ｚは脂肪族環式基を表し；ｎは０または１〜３の整数を表し；Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１〜５の低級アルキル基を表す。］で表される酸解離性溶解抑制基（Ｉ）で置換されている樹脂（Ａ１）を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
【化１】
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【課題】 屈折率、特に３００ｎｍ以下の波長の光源に対する屈折率が高く、かつ解像性にも優れたポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物用として好適な高分子化合物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 一般式（ａ０−１）［Ｒは水素原子または低級アルキル基、Ｒ^１〜Ｒ^７はそれぞれ独立して水素原子または低級アルキル基、Ｚは２価の環式基、Ｘはカルボニル基、ｓ，ｔ，ｕ，はそれぞれ独立して０または１〜３の整数、ｖは０または１、ｗは０または１〜３の整数。］で表される構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有することを特徴とする高分子化合物。
【化１】
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【課題】接着強度、透明性、皮膜強度、耐熱性、耐酸性、耐アルカリ性が良好で、更に長期保存が可能な熱硬化性の一液型カラーフィルター用保護膜組成物、および前記組成物を利用して製造された、平坦性、密着性及び膜強度に優れる保護膜を含むカラーフィルターを提供する。
【解決手段】熱硬化性の一液型カラーフィルター用保護膜組成物は、側鎖にエポキシ環の構造を有する１種または２種の（メタ）アクリレートと末端水酸基を有する（メタ）アクリレートの共重合による自己硬化性の共重合体及び有機溶剤を含む。 （もっと読む）

【課題】 解像性を向上させることができるレジスト組成物に関わる技術を提供する。
【解決手段】
酸解離性溶解抑制基を有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、下記一般式（Ａ０）
【化１】


［式中、Ｒは水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を示し（但し、Ｒ^１〜Ｒ^２が同時にアルキル基となる場合は除く）、Ｒ^５は低級アルキル基、又はハロゲン化低級アルキル基を示し、ｓ，ｔはそれぞれ独立して０又は１〜３の整数を示し、ｕは１〜３の整数を示し、Ｘは環式基を示す。］
で示される構成単位（ａ０）とを含む高分子化合物を用いてレジスト組成物とし、レジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】 ＬＥＲの低減されたパターンを形成できるポジ型レジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸解離性溶解抑制基を有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有し、かつ該構成単位（ａ１）が、下記一般式（ａ１−０）［式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立して低級アルキル基、Ｒ^３〜Ｒ^６はそれぞれ独立して水素原子または低級アルキル基、ｓは０または１〜３の整数、ｔは１〜３の整数、Ｘは脂肪族環式基であり、低級アルキル基および極性基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基を有していてもよく、Ｙは極性基。］で表される構成単位（ａ１−０）を含む高分子化合物。
【化１】
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【課題】 パターン形状、ドライエッチング耐性、露光後の加熱温度の変化に対する線幅安定性等に優れ、十分な感度を有し、解像度にも優れるレジスト組成物を得ることができるレジスト用重合体、および該重合体を得るためのレジスト用単量体を提供する。
【解決手段】 式（２）で表される構成単位を有する重合体であって、式（２）で表される構成単位のうち、式（２−１）で表される構成単位の比率が５０モル％以上であるレジスト用重合体。
【化１】


（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｒ¹ は、酸素原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表す。） （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像液に対する親和性が高く、かつ高解像性のレジストパターンを形成できるレジスト組成物、該レジスト組成物用として好適な高分子化合物、およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（Ａ０−１）、（Ａ０−２）、（Ａ０−３）または（Ａ０−４）［式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基である。］で表される構成単位で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも１種の構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有することを特徴とする高分子化合物。
【化１】
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【課題】 高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。
【解決手段】（Ａ）特定のスチレン骨格を有する繰り返し単位を２種含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）有機塩基性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、組成物および（メタ）アクリレートアミドアセタールの製造方法に関する。本発明はさらに、これらの（メタ）アクリレートアミドアセタールの重合によって形成される新規ポリ（メタ）アクリレート組成物および架橋コーティングでのそれらの封入に関する。 （もっと読む）

【課題】洗濯添加剤としての疎水的に変性されたポリマーの提供
【解決手段】本発明は、少なくとも以下のモノマー成分：
（Ｉ）２０ないし９９．９質量％、好ましくは５０％ないし９９質量％の式（１）
【化１】


に従う少なくとも１種のカチオン性モノマー、及び（ＩＩ）０．１ないし８０質量％の、開始剤の存在下で重合する疎水性不飽和ノニオン性モノマー；所望により、モノマー（Ｉ）及びモノマー（ＩＩ）のいずれとも異なる水溶性モノマー（ＩＩＩ）、及び所望により架橋剤（ＩＶ）から誘導される主鎖を含むポリマー化合物に関する。前記化合物は、洗濯プロセスにおける染料ブリード及び／又は染料転移の問題を克服するために特に有益である。
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【課題】優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性基（ｉ）として、アルコール性水酸基、カルボキシル基、およびフェノール性水酸基から選択されるいずれか一つの置換基が、下記一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒ_１は炭素数２０以下の脂肪族環式基であり、ｎは０または１〜５の整数を表す。）で示される酸解離性溶解抑止基（ii）で保護されていることを特徴とする高分子化合物を用い、本発明のフォトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を構成する。 （もっと読む）

【課題】液浸露光によるパターン形成において、表面ラフネス、ラインウイズスラフネスが改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び
（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型レジストであって、（Ｂ）成分の樹脂が、主鎖の少なくとも一方の末端にラクトン構造を有する基を有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線によるパターン形成用として、感度、解像力、パターン形状が良好であり、ラインエッジラフネスが小さく、更には、表面ラフネスが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び
（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法であり、ラインエッジラフネス、現像欠陥が改善されたポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により特定のアルカンスルホン酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥の問題が改善され、優れた線幅の面内均一性が得られ、かつ、ＬＷＲ性能にも優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定構造のノルボルナンラクトン構造をもつ繰り返し単位と特定の脂環炭化水素構造をもつ繰り返し単位とを有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、および、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路素子、集積回路製造用マスク等の製造に用いるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、感度、解像力、パターン形状が良好であり、ラインエッジラフネスが小さい、更には、表面ラフネスが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び
（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 光学補償機能を有する偏光板に用いられ液晶セルを光学的に補償する光学補償シート、とりわけ、大型の液晶表示装置に適用した場合でも、ムラを生じることなく、表示品位の高い画像を表示することができる光学補償シートを提供する。さらに上記特性に優れる光学補償シートを備えた偏光板及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 連続走行するウェブに光学異方性層を塗布した直後にウェブを囲むケーシングを有するドライヤにより、塗布面近傍の風の乱れを防止し乾燥中の塗布面側において塗布液中の溶剤蒸気を高い濃度で保ったまま乾燥を行い形成される光学補償シートであって、該光学異方性層がフルオロ脂肪族基を含有する特定構造のモノマーから導かれる繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族基含有ポリマーを少なくとも１種と液晶性化合物を含有することを特徴とする光学補償シート、その製造方法、該光学補償シートを備えた偏光板、及び液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は、スピロ環状ケタール基を有するフォトレジスト用ポリマーおよびこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】前記ポリマーおよびフォトレジスト組成物は、スピロ環状ケタール基が脱保護される反応の活性化エネルギーが低いため解像度および工程余裕度を改善でき、露光後べーク温度敏感度が低いため精密なパターンを具現できる。 （もっと読む）

本発明は、ポリマーの骨格に結合され、対イオンにより中和されている第四級アンモニウム基及び/又は第四級ホスホニウム基を含むポリマーにおいて、対イオンが、6個以上の炭素原子を含む脂肪族、芳香族、又はアルカリール炭化水素基を有する酸のアニオン性残基から成るところのポリマーである。本発明は更に、このポリマーの製造、防汚組成物中でのその使用法、及び該ポリマーを含む防汚組成物に関する。 （もっと読む）