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Fターム[4J100BC08]の内容

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Fターム[4J100BC08]に分類される特許

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【課題】 感度、絶縁性、耐化学性などの性能に優れているだけでなく、特に透過度および貯蔵安定性を顕著に向上させて、LCD製造工程の層間絶縁膜を形成することに適合した感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 本発明は感光性樹脂組成物に関するものであって、特にa)i)不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、またはこれらの混合物、ii)化学式(1)〜(8)からなる群から選択される1種以上のエポキシ基含有不飽和化合物、およびiii)オレフィン系不飽和化合物を共重合させた後、未反応単量体を除去して得られたアクリル系共重合体;b)1,2−キノンジアジド化合物;およびc)溶媒を含む感光性樹脂組成物に関する。 (もっと読む)


【課題】 フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。
【解決手段】 液浸露光されるフォトレジスト膜に被覆される上層膜を形成するための重合体であって、該重合体はフッ素原子を含む基をその側鎖に有する繰り返し単位が全体の繰り返し単位の30〜100モル%含まれており、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が2,000〜100,000であり、アルカリ可溶性である。 (もっと読む)


【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトアプリケーションのリソグラフィー工程に使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、DOFが改善され、且つ液浸露光時の、レジスト膜表面から液浸液への発生酸の溶出が低減されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ラクトン構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物に於いて、該樹脂が、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する構造を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】 透明性、耐候性等が良好であり、かつ高い光学特性を維持できる光学素子を得られる事。
【解決手段】 樹脂を成形板にしたときの透過率をT、この成形板に放射強度35W/m/nm(365nm)、距離250mmで紫外線を1時間照射後の透過率をTとしたときに、T>Tとなる光学素子用樹脂及び、これを成形して得られる光学素子。 (もっと読む)


【課題】乾燥ムラや風ムラの改善と界面活性剤特にフッ素系界面活性剤転写の低減を両立した界面活性剤(好ましくはフルオロ脂肪族基含有共重合体)を含む塗布組成物を提供する。
【解決手段】フルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位A及び、少なくとも1種のモノマーに相当する繰り返し単位Bを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体を含有する塗布組成物において、該繰り返し単位Bのみを重合して得られる重合体のガラス転移点が300K以上である塗布組成物。 (もっと読む)


【課題】 低沸点成分の含有量の極めて少ないフォトレジスト用樹脂溶液を簡易に且つ安全に得ることのできるフォトレジスト用樹脂溶液を得る。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法は、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位Aと、極性基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位Bとを少なくとも含有するフォトレジスト用樹脂がレジスト用溶媒に溶解しているフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法であって、重合後ポリマーを貧溶媒に沈殿させ、固液分離した後に湿結晶を水で洗浄し、レジスト用溶媒に溶解後、蒸留により低沸点成分を除去することを特徴とする。レジスト用溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルの混合溶媒を使用できる。 (もっと読む)


【課題】 残存モノマー含有量の極めて少ないフォトレジスト用高分子化合物溶液を簡易な手段で効率よく得る。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト用高分子化合物溶液の製造方法は、酸によりアルカリ可溶となる基を有する単量体と、極性基含有脂環式骨格を含む基を有する単量体とを少なくとも含む単量体混合物を重合に付す重合工程と、重合により生成したポリマーを、水に対して分液可能な有機溶媒(A)と水(B)と水溶性有機溶媒(C)とを用いた抽出操作に付し、生成したポリマーを有機溶媒層に、残存モノマーを水層に分配する抽出工程を含む。重合工程において、単量体混合物をグリコールエーテルアセテート系溶媒、グリコールエーテル系溶媒、及びカルボン酸アルキルエステル系溶媒からなる群より選択された少なくとも1種の有機溶媒中で滴下重合法により重合させてもよい。 (もっと読む)


本発明の実施態様は、一般に、液浸リソグラフィプロセスに有用な非自己現像型及び現像型のノルボルネン系ポリマー、このようなポリマーの製造方法、このようなポリマーを使用する組成物、及びこのような組成物を使用する液浸リソグラフィプロセスに関する。より詳細には、本発明の実施態様は、液浸リソグラフィプロセスにおける現像層及びこのような現像層を被覆するためのトップコート層を形成するのに有用なノルボルネン系ポリマー及びそのプロセスに関する。
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【課題】 解像性に優れたパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物用として好適な高分子化合物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位(a1)と、下記一般式(a2−1)または(a2−2)[式中、Zは脂肪族環式基を表し;nは0または1〜3の整数を表し;mは0または1を表し;Rはそれぞれ独立して水素原子、炭素数1〜5の低級アルキル基、フッ素原子またはフッ素化低級アルキル基を表し;R、Rはそれぞれ独立して水素原子または炭素数1〜5の低級アルキル基を表す。]で表される構成単位(a2)とを含むこと特徴とする高分子化合物。
【化1】
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【課題】硬化物の光学的透明性が高く、耐光性、耐熱性、機械特性に優れる樹脂組成物およびこれを用いた光学部材を提供する。
【解決手段】(A)重量平均分子量が1,000以上7,000以下であるエポキシ基含有(メタ)アクリル共重合体、(B)室温(25℃)で液状であるエポキシ硬化剤、および(C)エポキシ硬化促進剤、を含有してなる、室温(25℃)で液状であり、加熱によって硬化する樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】金属表面等の極性の高い表面に対する密着性、疎水性および耐熱性に優れ、レジスト用の溶剤に対する溶解性が良好な共重合体および該共重合体を含むレジスト組成物を提供する。
【解決手段】脂環式骨格を有する単量体と、ラクトン骨格を有する単量体と、脂環式骨格を有する単量体よりも高い極性を持ち、かつラクトン骨格を有する単量体よりも低い極性を持つ他のビニル系単量体とを重合して得られる共重合体を用いる。 (もっと読む)


本発明はその表面で化学的に官能化されていて、こうしてその上に親水性部分を有する球形の単疎水性ポリマーから形成されるポリマーマイクロおよびナノカプセルに関する。このカプセルは香料を吸収することができ、かつ場合により両親媒性コポリマーでコートされている。このカプセルは賦香材料の徐放を提供し、かつ基材上の香料の直接性を改善する芳香デリバリーシステムの製造を可能にする。 (もっと読む)


【課題】 本発明の課題は、弾性塗料塗膜への密着性良好であり、外装用としては、雨、紫外線などに対する耐候性、耐水性の良好なトップコート塗料を提供すること、及び該トップコート用塗料に好適な共重合体エマルジョンを提供することである。
【解決手段】水への溶解度が1重量%超の親水性ラジカル重合性モノマー(a)0.1〜10重量%、及び水への溶解度が1重量%以下の疎水性ラジカル重合性モノマー(b)90〜99.9重量%を水性媒体中で重合してなる、ガラス転移温度が0〜50℃の共重合体エマルジョン。
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【課題】 感度、透過率、絶縁性、耐化学性、平坦性、コーティング性などの性能に優れているだけでなく、特に無機質材料との接着性が顕著に向上して、LCD製造工程の層間絶縁膜を形成するのに適合する感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 本発明による感光性樹脂組成物は、a)i)不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、またはこれらの混合物、ii)エポキシ基含有不飽和化合物、iii)オレフィン系不飽和化合物、およびiv)シラン系単量体を共重合させて得られたアクリル系共重合体;b)1,2−キノンジアジド化合物;およびc)溶媒を含む。 (もっと読む)


【課題】高解像性で、DOFを向上できるポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)が、一般式(a1−01)および一般式(a1−02)で表される構成単位のうちの少なくとも1種(a1)を有し、かつ露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)として、一般式(b−1)で表されるカチオン部を有するオニウム塩系酸発生剤(B1)を含有するポジ型レジスト組成物。
【化1】


[式中、Yは脂肪族環式基;nは0または1〜3の整数;mは0または1;Rは各々独立して水素原子、低級アルキル基、フッ素原子またはフッ素化低級アルキル基;R、Rは各々独立して水素原子または低級アルキル基を表す。]
【化2】


[式中、R11はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、または水酸基;R12、R13は各々独立してアリール基またはアルキル基;n’は0または1〜3の整数を表す。] (もっと読む)


【課題】高解像性で、DOFを向上できるポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)が、一般式(a1-01)で表される構成単位および一般式(a1-02)で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも1種の構成単位(a1)を有し、かつ露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)が、一般式(b-3)又は(b-4)で表されるアニオン部を有するオニウム塩系酸発生剤(B1)を含有するポジ型レジスト組成物。


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【課題】プロトン伝導体から含水溶液への酸成分の溶出を抑制し、イオン伝導性能を損なわないプロトン伝導体を提供する。
【解決手段】酸残基が連結基を介して共有結合により主鎖に結合しており、かつ、2種類以上の架橋性基で架橋している、プロトン伝導体。主鎖が炭素−炭素結合であり、メソゲンと、ケイ素−酸素結合を有する架橋構造と、炭素−酸素結合または炭素−炭素結合を有する架橋構造とを有するプロトン伝導体。当該プロトン伝導体の電極膜接合体、燃料電池への適用。 (もっと読む)


【課題】 含フッ素系ポリマーの特徴を有し、プラスチック材料、金属、繊維、木材などの表面に耐候性、耐酸性、耐溶剤性、耐熱性などを付与して表面を改質し、更にその効果を長期に亘って持続できる密着性を有する塗膜の形成や、基材表面へ確実に固定化できる優れた水密性や機密性を備えたシーリング材などに好適に使用することができ、、硬化の方法も容易な作業性に優れた塗料を得ることができる重合体やこれを含む組成物、これを用いる被膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 側鎖にアクリロイルオキシ基と、フルオロアルキル基および/またはフルオロアルキレン基とを有し、重量平均分子量が1,000以上50,000以下、フッ素原子の含有量が1.0×10-2モル/g以上、2.2×10-2モル/g以下の重合体(I)。 (もっと読む)


【課題】 透明性、耐熱性が良く、かつ耐候性の良好な光学素子用樹脂及びこれを用いた光学素子を提供する。
【解決手段】 エステル部分が炭素数5〜22の脂環式炭化水素基を有するメタクリル酸エステルまたはアクリル酸エステル、メタクリル酸メチル、マレイミド構造を持つ単量体を成分として含む単量体混合物を重合した樹脂であって、紫外線カーボンアークランプを用いて波長350〜410nmの紫外線を、放射強度35W/m/nm(365nm)、距離250mmで、300時間照射後の透過率変化が1%以下である光学素子用樹脂。 (もっと読む)


耐熱分解性や耐着色性などの耐熱性に優れると同時に、屈折率が精密に制御された光学部品、特に光導波路の形成に好適な硬化型樹脂組成物を提供すること。(A)多環式脂環族炭化水素骨格と2個以上の末端ラジカル重合基を併有するモノマー、(B)パーフルオロアルキレン骨格と2個以上の末端ラジカル重合基を併有するモノマー、および(C)光重合開始剤または/および熱重合開始剤を必須成分とする硬化型樹脂組成物。この硬化型樹脂組成物を光硬化または/および熱硬化して形成される光学部品、特に光導波路。 (もっと読む)


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