【課題】 本発明の目的は、所望の化粧品特性を提供することを同時に可能にしながら、処方物内での分離の問題を回避する新規で特殊な高級分枝状コポリマーを提供することによって従来技術の欠点を克服することである。さらに、これらのポリマーは、親油性媒体の化粧組成物中で処方するのが容易である。
【解決手段】 本発明は、それぞれが少なくとも1個の分枝点を含む少なくとも2種のポリマー分枝を含む高級分枝状コポリマーに関するものであり、該コポリマーの1つの分枝が、アクリル酸イソボルニル、メタクリル酸イソボルニル、アクリル酸イソブチル、メタクリル酸イソブチル、およびアクリル酸2-エチルヘキシルからなる群から選択される少なくとも1種の第一の選択のモノマーを含み、該コポリマーの第二の分枝が、前記第一のモノマーと同一または異なり前記群から選択される第二の選択のモノマーを含む高級分枝状コポリマーに関する。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示す。Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。Ｒ¹及びＲ²は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す。式中に示されるカルボキシル基は塩の形態であってもよい）
で表されるβ−カルボキシ−α−不飽和アシルオキシ−γ−ブチロラクトン誘導体。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示す。Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。Ｒ¹及びＲ²は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す）
で表されるβ−カルボキシ−α−不飽和アシルオキシ−γ−ブチロラクトン誘導体。 （もっと読む）

本発明は、以下の
Ａ）式（Ｉ）及び（ＩＩ）［式中、Ｒ^１はそれぞれ互いに無関係に水素又はメチル基であり、Ｒ^２はそれぞれ互いに無関係に直鎖状又は分枝鎖状の脂肪族又は脂環式の基又は置換又は非置換の芳香族又は複素芳香族の基であり、かつｍ及びｎはそれぞれ互いに無関係に０以上の整数であるが、ｍ＋ｎ＞０を意味する］の化合物並びにＢ）式（Ｉ）及び（ＩＩ）の化合物とは異なる少なくとも１種のエチレン性不飽和モノマー（Ａ）を含有する混合物に関する。また本発明は前記混合物の重合法法、こうして得られる高透明ポリマー並びにその使用に関する。
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【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（Ｉ）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示す。Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す。但し、Ｒ¹、Ｒ²のうち少なくとも一方は炭化水素基である。Ｒ¹及びＲ²は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す）
で表される少なくとも１種のモノマー単位を含む高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】触媒組成物およびその調製に関する方法。ならびに非極性オレフィンモノマー、極性オレフィンモノマーおよびのその組み合わせを含むエチレン性不飽和モノマーを、触媒組成物の存在下で重合、ポリマーを調製する方法。
【解決手段】少なくとも一つのカチオン性金属対錯体を含む触媒組成物で、対の金属原子は少なくとも１．５オングストロームで２０オングストローム以下のスルースペース核間距離を有する特定構造の錯体を含有する触媒組成物、および触媒組成物を用いて重合したポリマーを提供する。 （もっと読む）

【課題】 広い温度範囲で高い制振性能を維持することができる、アクリル系粘弾性体材料を提供する
【解決手段】 １）単独重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下であるアクリル酸アルキルエステル、８０〜９９重量％、及び、２）メタクリル酸、又は、単独重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）が４０℃以上であるメタクリル酸エステル、１〜２０重量％を含むモノマー混合物であって、前記重量％はモノマー混合物中のモノマーの合計重量を基準とするモノマー混合物を共重合することで得られるポリマーを含むアクリル系粘弾性体材料が提供される。 （もっと読む）

【課題】高解像性、高感度であって、かつパターン倒れが抑制されたレジストパターンを形成できる高分子化合物および該高分子化合物を含むポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】脱保護エネルギーが３級エステルの保護基に比べて低い特定の構造単位（ａ１）、ラクトン含有環式基を含む（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される単位（ａ２）及び、単位（ａ１）と単位（ａ２）以外の単位であって、脂肪族環式基含有非酸解離性溶解抑制基を含み、かつ極性基を含まない、（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される単位（ａ３）を含む高分子化合物を用いてレジスト組成物とする。 （もっと読む）

【課題】 光拡散性樹脂、およびこの光拡散性樹脂を含む光拡散性光学材料組成物、さらにはこの光拡散性光学材料組成物を熱成形して得られる光拡散性光学物品を提供する。
【解決手段】 （メタ）アクリル酸エステルモノマーと芳香族ビニルモノマーとを含むモノマー組成物を重合して得られる共重合体の構成単位において芳香族ビニルモノマー由来の構成単位（Ｂモル）に対する（メタ）アクリル酸エステルモノマー由来の構成単位（Ａモル）のモル比（Ａ／Ｂ）が０．２５〜４．０である共重合体の芳香環の２５％以上７０％未満を水素化反応することによって得られる光拡散性樹脂。
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【解決手段】 一般式（１）又は（２）で表される含フッ素重合性エステル化合物。
【化１】


（Ｒ¹は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基、Ｒ²は二価の炭化水素基、Ｒ³は水素原子又は一価の炭化水素基、Ｒ²とＲ³は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。Ｒ⁴は水素原子、水酸基、又は一価の炭化水素基、Ｒ⁵は酸不安定基。）
【効果】 本発明は、新規な含フッ素重合性エステル化合物を提供し、該含フッ素重合性エステル化合物は、機能性材料、医薬・農薬などの原料として有用であり、なかでも感放射線レジスト組成物のベース樹脂を製造するためのポリマー単量体として非常に有用である。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物原料として有用な新規な（メタ）アクリル酸エステルの提供。
【解決手段】下記化学式に代表される新規なシアノ基含有（メタ）アクリル酸エステル。
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【課題】
多量の有機溶剤等を使用しなくても不飽和基を含有する水性樹脂分散体を安定に製造する方法を提供する。
【解決手段】
ジシクロペンテニル基を含有する重合性不飽和モノマー（Ａ）及び該モノマー（Ａ）と共重合可能なその他の重合性不飽和モノマー（Ｂ）を含むモノマー成分を含むモノマー混合物（Ｉ）を、水性媒体中に平均粒子径が５００ｎｍ以下になるように微分散させ、得られる乳化物を重合させることを特徴とする水性樹脂分散体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 ＤＯＦの広いポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分、および（Ｂ）露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）成分が、相互に構造が異なるｎ［ｎは４〜６の整数］種の構成単位からなる共重合体であり、該共重合体中の各構成単位の割合がいずれも０モル％超１００／（ｎ−１）モル％以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 高解像性を有するとともに、レジストパターンの矩形性、ＬＥＲ、ＤＯＦ、およびＥＬマージンの少なくとも１つを改善できるようにする。
【解決手段】フェノール性水酸基を有する構成単位（ａ１）と、ラクトン含有単環又は多環式基を有する構成単位（ａ２）と、酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ３）とを有する共重合体。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト樹脂として用いた場合に、解像性がよく、ラインエッジラフネスが小さく、ディフェクトおよびパーティクルの生成も少ないレジスト用重合体を提供する。
【解決手段】２−エチル−１，３，３，トリメチルビシクロ［２．１．１］ヘプタン−２−イル−メタクリレート，２−エチル−１，７，７，トリメチルビシクロ［２．１．１］ヘプタン−２−イル−メタクリレート，２−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−ｅｘｏ−２−イル−メタクリレート，２−エチル−エチルトリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−ｅｘｏ−８−イル−メタクリレート等、エステル酸素と特定位置の炭素との間の結合が酸素によって開裂し脂環構造が脱離しうる構造特性を与える特定物質と、２−または３−シアノ−５−ノルボルニルメタクリレート，１−メタクリロイルオキシ−３−ヒドロキシアダマンチル等の特定物質を反応させてなるレジスト用重合体。 （もっと読む）

【課題】 臭気、残留溶剤量が少なく、架橋可能な加水分解性シリル基を含有するメタアクリル酸エステル系重合体（Ａ）の重合に用いることができる溶媒を用いた製造方法の提供。
【解決手段】 架橋可能な加水分解性シリル基を含有するメタアクリル酸エステル系重合体（Ａ）の製造方法であって、エチルアルコール系溶媒中で（メタ）アクリル酸エステル単量体を主成分とする単量体を重合せしめる重合体（Ａ）の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 塗料、接着剤、粘着剤、インキ用レジン、レジスト、成型材料、光学材料等の構成成分樹脂の原料として有用な（メタ）アクリル酸エステル、該（メタ）アクリル酸エステルの重合体及び該重合体を用いたレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 式（１）の（メタ）アクリル酸エステル及びこれを単量体とする重合体及び該重合体をレジスト樹脂とすることにより上記課題は達成される。
【化１】


（式中、Ｒは水素原子またはメチル基であり、Ｒ１〜Ｒ４は、Ｒ１、Ｒ２の少なくとも一つとＲ３、Ｒ４の少なくとも一つとが一緒になって、それぞれが結合している炭素原子と共に環式炭化水素基を形成し、環を形成しない残りのＲ１〜Ｒ４は水素原子またはアルキル基を表わす。） （もっと読む）

【課題】触媒組成物およびその調製方法ならびにエチレン性不飽和モノマーからポリマーを調製するための該触媒組成物の使用を提供する。
【解決手段】少なくとも１つの金属対を含有するカチオン性金属対錯体であって、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｃｒ、Ｍｎから選択される第１の金属とＮｉ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｃｒ、Ｍｎから選択される第２の金属とが１．５〜２０オングストロームの核間距離を有する特定構造の錯体を含む触媒組成物。該触媒組成物を用いた極性および／または非極性エチレン性不飽和モノマーの重合法、およびこれにより製造される付加ポリマー。 （もっと読む）

【課題】 解像性やレジストパターン形状に優れるレジスト組成物用重合体、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。また、有機溶剤に対する溶解性に優れ、ディフェクトリスクを低減できるレジスト組成物用重合体、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 酸解離性溶解抑制基を含有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、アルキル基を有さない単環または多環式のラクトン残基を含有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）と、下記一般式（３）で表される構成単位（ａ３）とを含有することを特徴とするレジスト組成物用重合体。
【化１】
（もっと読む）

【課題】プラズマ重合により、より低い誘電率の膜を製造する方法およびより低い誘電率の高分子膜を提供すること。
【解決手段】式（１）で示される化合物のガスを含む混合ガスを減圧下の反応室に供給する工程と、反応室内に形成されたプラズマ中を通過させることにより反応室内に設置された基板表面に前記ガスを吹き付けて、前記有機化合物を骨格に含む高分子膜を基板表面上に成長させる工程とを含む高分子膜の製造方法。該製造方法により得られる高分子膜。


（ＰＣＡは炭素原子数７以上のポリシクロ脂肪族炭化水素基。ＡＬＫは炭素原子数１〜１０の二価の脂肪族炭化水素基。ｍは１または２。ｎは０または１。Ｒ１およびＲ２は炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数２〜６のアルケニル基、炭素原子数２〜６のアルキニル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数６〜１０のアリール基または炭素原子数６〜１０のアリールオキシ基。） （もっと読む）