【課題】本発明は、スピロ環状ケタール基を有するフォトレジスト用ポリマーおよびこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】前記ポリマーおよびフォトレジスト組成物は、スピロ環状ケタール基が脱保護される反応の活性化エネルギーが低いため解像度および工程余裕度を改善でき、露光後べーク温度敏感度が低いため精密なパターンを具現できる。 （もっと読む）

本発明は、ポリマーの骨格に結合され、対イオンにより中和されている第四級アンモニウム基及び/又は第四級ホスホニウム基を含むポリマーにおいて、対イオンが、6個以上の炭素原子を含む脂肪族、芳香族、又はアルカリール炭化水素基を有する酸のアニオン性残基から成るところのポリマーである。本発明は更に、このポリマーの製造、防汚組成物中でのその使用法、及び該ポリマーを含む防汚組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】多層の追記型光ディスクの半透明反射層と色素記録層の間で使用され、信号の書き込み時にレーザー光により、信号の読み取りエラーを発生させることのない紫外線硬化型樹脂層。
【解決手段】ラジカル重合性化合物を含有する紫外線硬化型組成物であって、（１）同一分子内にラジカル重合性の不飽和二重結合と多環式構造を有する化合物Ａ、及び（２）同一分子内にラジカル重合性の不飽和二重結合と式I


で表される３価の部分構造を有する化合物Ｂを含有し、ラジカル重合性化合物全体に対する前記化合物Ａ及び前記化合物Ｂの含有比率が、各々１０質量％以上であり、且つ前記化合物Ａと前記化合物Ｂの合計含有比率が４０質量％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】各種放射線を用いて微細加工に有用なレジストを調製するのに用いられる新規重合体、及びこれを含有するレジスト組成物を提供する。
【解決手段】以下の化学式（１）で表示される共重合体。
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【課題】水中および有機溶媒中に可溶または少なくとも分散可能な両親媒性コポリマー、特に制御されたフリーラジカル溶液重合または塊状重合で得られる両親媒性傾斜コポリマーと、この傾斜コポリマーを水へ溶解する方法。この傾斜コポリマーは表面処理技術、特に塗料、接着剤、膠剤および化粧品用配合物で使用できる。
【解決手段】ポリマー鎖上の任意の規格化位置ｘにモノマー（Ｍ_i）が存在する確率がゼロではないような少なくとも一つのモノマー（Ｍ_i）を有する。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光に適用した場合に、ドライ露光時に比較して感度の劣化が小さく、液浸液への酸の溶出が極めて少ない液浸露光に好適なレジストを提供する。
【解決手段】 （Ａ）フッ素原子を有する繰り返し単位を少なくとも１種含有しており、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、新規なラクトン化合物、ラクトン含有単量体、それを用いた高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】 一般式（１）で表されるラクトン含有単量体（式中、ＸはＣＨ_２、ＣＨ_２ＣＨ_２、Ｏ、Ｓ、ＮＲ^１を示す。Ｒ^１〜Ｒ^４は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示す。そのアルキル基の水素の一部あるいは全部がフッ素原子に置換されてもよく、さらにアルキル基の一部に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、炭素―炭素二重結合、カルボニル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基を含有する原子団を含んでもよい。Ｒ^５は単結合、ＣＨ_２、カルボニル基を表す。）。
【化１】


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【課題】良好な液浸リソグラフィーを行うことができ、またアルカリ現像時にレジスト膜の現像と保護膜の除去とを同時に一括して行うことができる方法、その為の保護膜およびその材料を提供する。
【解決手段】 式（１）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物およびそれを含む保護膜を用いる。


（式中、Ｒ¹、Ｒ²は水素原子又はメチル基、Ｒ³は炭素数１〜１２のアルキレン基又はアルキリジン基、Ｒ⁴、Ｒ⁵は炭素数１〜１２のアルキレン基。ａ，ｂ₁，ｂ₂は０＜ａ＜１、０≦ｂ₁＜１、０≦ｂ₂＜１、０＜ｂ₁＋ｂ₂＜１、０＜ａ＋ｂ₁＋ｂ₂≦１の範囲である。ｎは１又は２。） （もっと読む）

【課題】 新規なアルコキシ基含有環状化合物、これを含む重合性組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】 本発明のアルコキシ基含有環状化合物は、下記式（１）
【化１】


［式中、環Ｚは単環又は多環の非芳香族性環を示し、Ｒ¹Ｏ−基及びＲ²Ｏ−（Ｗ）_n−基は環Ｚを構成する原子に結合している置換基であって、Ｒ¹は炭素数１〜５の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を示し、Ｒ²は、水素原子又は下記式（２）
【化２】


（式中、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は、同一又は異なって、水素原子又は有機基を示す）
で表される基を示し、Ｗは２価の有機基を示す。ｎは０又は１を示し、ｍは１〜８の整数を示し、ｋは１〜５の整数等を示す］
で表される。 （もっと読む）

【課題】 高解像性のレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を製造するのに好適な化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される化合物［式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基であり；Ｘは硫黄原子または酸素原子であり；Ｙは、水素原子の一部がヘテロ原子を含む基で置換されていてもよい炭素数１〜２０の鎖状、分岐状または環状のアルキル基、もしくは該アルキル基の炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されている基である。］。
【化１】
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２５０ｎｍ以下のエキシマレーザーのレジスト材料用ベースポリマーに好適な含フッ素ポリマーを提供すること。下記式（３）で表される含フッ素ジエン化合物が環化重合したモノマー単位を有する含フッ素ポリマー。ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２−Ｃ（ＣＦ_３）（Ｒ^５）−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ （３）ただし、Ｒ^５は−ＣＨＲ^７−Ｏ−Ｒ^８によりブロック化された水酸基または該水酸基を有する有機基であり、Ｒ^８は、置換基を有していてもよいシクロアルキル基などの環式飽和炭化水素、該環式飽和炭化水素を有する有機基を表す。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光時に於ける、プロファイル形状、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が改善された液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 側鎖に環構造を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤を含有する液浸プロセス用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 耐水性に優れるレジスト膜を形成可能なフォトレジスト用の高分子化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（Ｉ）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示す。Ａは炭素数１〜２０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。式中のカルボキシル基は塩に変換されていてもよい）
で表されるモノマー単位と、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を有するモノマー単位とを含む高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト組成物として用いた場合に、高感度、高解像度であり、ドライエッチング耐性が高く、現像時のディフェクトが少ないレジスト用重合体、レジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 特定のラクトン骨格を有する構成単位（Ａ）と、特定の酸脱離性基を有する構成単位（Ｂ）と、特定の親水性基を有する脂環構造を含む構成単位（Ｃ）を含有するレジスト用重合体であって、分子鎖末端の少なくとも一つが下記式（１−１）〜（１−４）からなる群より選ばれる少なくとも一種であるレジスト用重合体。
【化１】
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【課題】脂肪酸変性ポリウレタン樹脂（Ｂ）を高分子乳化剤として、重合性不飽和モノマー（Ａ）を乳化重合して水性樹脂分散体を安定に製造する方法を提供することにあり、さらに１液型でありながら常温でも容易に硬化させることができ、しかも透明性、光沢、仕上り性（艶、肉持ち感）に優れ、耐水性、耐候性、耐久性、耐食性等の性能にも優れた硬化被膜を形成できる水性樹脂組成物及び水性塗料組成物を提供する
【解決手段】水及び乳化剤の存在下で、重合性不飽和モノマー（Ａ）を乳化重合する水性樹脂分散体の製造方法であって、該乳化剤として、１分子中に水酸基を２つ以上含有する脂肪酸エステル（ｂ１）を含むポリオール（ｂ）、ポリイソシアネート化合物（ｃ）、及びカルボキシル基含有ジオール（ｄ）との反応によって得られる脂肪酸変性ポリウレタン樹脂（Ｂ）を用いてなることを特徴とする水性樹脂分散体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 製造時にゲルを生成することが少なく、得られる重合体の硬化物の強度や伸びが大きい加水分解性シリル基を有するビニル重合体の製造方法を提供すること、および該方法により得られる加水分解性シリル基を有するビニル重合体を含み、強度や伸びが大きい硬化物を与えるシーリング材組成物および接着剤組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 撹拌槽式連続反応器を使用して、反応器中の反応液は加水分解性エステル化合物からなる溶剤１〜３０質量部を含む反応溶媒を１〜５０質量部、ビニル単量体および該ビニル単量体の重合により生成した重合体の合計を１００質量部の割合で含む条件で、１２０〜３００℃の温度でビニル単量体を連続重合させる、加水分解性シリル基を有するビニル重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
ＡｒＦやＫｒＦなどのエキシマレーザーリソグラフィに適し、感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特にラインエッジラフネスに優れる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】
中心核に結合した３個以上の分岐を有し、少なくとも１個の分岐が以下の（１）〜（４）および（９）の繰返し単位からなる群から選ばれた少なくとも１種の繰返し単位を含有し、重量平均分子量が１，０００〜１００，０００であることを特徴とする星型ポリマー。









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【課題】 ＬＥＲの低減された高解像性のパターンを形成できるポジ型レジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物からなる酸発生剤、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】 酸解離性溶解抑制基を有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、下記一般式（ａ２−１）［式中、Ｒは水素原子又は低級アルキル基であり；Ａは２価の有機基であり；Ｂは１価の有機基であり；Ｘは硫黄原子又はヨウ素原子であり；ｎは１又は２であり；Ｙは少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。］で表される構成単位（ａ２）と、極性基含有脂肪族多環式基を含む（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ３）とを有する高分子化合物。
【化１】
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【課題】 一般に塗工液をはじきやすい材料、例えば、ポリオルガノシロキサンやポリフッ化ビニリデン等からなる表面層を有する基材に対して光硬化性塗工液あるいは硬化性樹脂組成物を比較的薄く塗布した際に、得られる塗布膜にはじきやピンホールなどの発生がなく、均一で薄い塗布膜を形成できるようにする。
【解決手段】 光硬化性塗工液は、固体状光重合性物質の微粒子が液状光重合性組成物中に分散してなるものである。微粒子の粒径は１ｎｍ〜１０μｍである。固体状光重合性物質としては、不飽和結合を有する有機カルボン酸の２価または３価金属塩が好ましい。また、液状光重合性組成物は、光重合性エチレン系不飽和化合物を含有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（Ｉ）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示す。Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す。但し、Ｒ¹、Ｒ²のうち少なくとも一方は炭化水素基である。Ｒ¹及びＲ²は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す）
で表される少なくとも１種のモノマー単位を含む高分子化合物。 （もっと読む）