【課題】基板上での光学構成要素の接着を目的とする無色で清澄な光学高分子組成物を提供すること。
【解決手段】通信用オプトエレクトロニクスで使用する光学高分子組成物であって、熱重合および熱硬化したトリメチロールプロパントリアクリレートと、二環式炭化水素アクリレートと、１，４−ブタンジオールジアクリレートと、トリアクリル官能基を有する多面体シルセスキオキサンオリゴマとを含む光学高分子組成物。組成物は、開始剤および触媒を含まず、光学的に清澄で、きずが無なく、熱的に安定である。 （もっと読む）

【課題】優れた熱的特性及び光学的特性を有し、光ファイバ等の光学用プラスチックとしての有用性なα−（ω−アルケニル）アクリル酸エステル系環化重合体及びそのための単量体を提供する。
【解決手段】１．α−（４−ペンテニル）アクリル酸メチル類を重合して得られる環化重合体、もしくは２．α−(３−ブテニル)アクリル酸メチル類を重合して得られる環化重合体。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイ等に用いられる硬化性組成物であって、外部圧力を受けたときの変形量が大きく（即ち、基板作成時の圧着力不均一を吸収することができ）、高圧力下でも復元率が著しく低下しない（即ち、復元率の圧力依存性が少ない）硬化物を形成しうる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】微小硬度計による負荷−除荷試験において、下記指標式（１）及び（２）を満たす硬化物を形成しうる硬化性組成物。
｜Ｈ₁−Ｈ₂｜／｜Ｐ₁−Ｐ₂｜≧０．３５ （１）
｜Ｒ₁−Ｒ₂｜／｜Ｐ₁−Ｐ₂｜≦１５ （２）
（式（１）中、Ｈ₁、Ｈ₂はそれぞれ上断面積が４０±５μｍ²、１５０±５μｍ²のスペーサーの総変形量（μｍ）を示す。式（１）（２）中、Ｐ₁、Ｐ₂はそれぞれ上断面積が４０±５μｍ²、１５０±５μｍ²のスペーサーにかかる圧力（ｍＮ／μｍ²）を示す。式（２）中、Ｒ₁、Ｒ₂はそれぞれ上断面積が４０±５μｍ²、１５０±５μｍ²のスペーサーの弾性復元率（％）を示す。） （もっと読む）

【課題】電子材料用途に適した、低屈折率で塗布性に優れ、電子材料特有の高温領域での耐熱性、膜硬度、耐溶剤性の全てを満たす硬化物又は硬化膜を与える硬化性低屈折率樹脂組成物が求められていた。
【解決手段】（ａ）脂環式骨格を有する（メタ）アクリル酸エステルおよび（ｂ）フッ素原子を含有する（メタ）アクリル酸エステル、（ｃ）（ｃ−１）構造中にヒドロキシル基を１個有する（メタ）アクリル酸エステルおよび（ｃ−２）構造中にカルボキシル基を１個有する単官能不飽和基含有化合物からなる群から選択される、両方又はいずれか一方を共重合させることによって得られる共重合体（Ａ）。 （もっと読む）

【課題】ポリビニルアルコールを使用しなくても、水溶性ポリマーのみでレジストパターンを微細化することができ、さらに水溶性、被膜強度、平滑性などに優れた被膜形成用樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】式（I）：


(式中、Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、Ｘは酸素原子、ＮＨ基または硫黄原子、Ｒ^２は水酸基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキレン基、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基を示す)
で表されるアミノ基含有モノマー２０〜８０重量％および式（II）:


（式中、Ｒ^１は前記と同じ。Ｒ^５はカルボン酸エステル基、芳香族基、複素環含有基またはカプロラクタム基を示す）
で表されるビニル基含有化合物２０〜８０重量％を含有するモノマー組成物を重合させてなる被膜形成用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】現像時のパターン崩壊が抑制され、マスクエラー因子が低減されたポジ型レジスト材料の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂であって、下記一般式（１）及び（２）で示される繰り返し単位をそれぞれ１種以上含むことを特徴とする重合体。


（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を、Ｒ³はジフルオロメチル基、又はトリフルオロメチル基を表す。Ｘは３級アルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】高解像度であり、且つパターン倒れマージンに優れた化学増幅型レジストとして有用なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明のポジ型感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位と、下記一般式（２）で表される繰り返し単位と、を含むアルカリ不溶性樹脂、（Ｂ）感放射線性酸発生剤及び（Ｃ）フェノール性化合物を含む。
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【課題】 ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等に使用されるレジスト組成物を用いたサーマルフロープロセスにおいて、レジストパターンサイズの制御性に優れたサーマルフロー用ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、これに適した高分子化合物およびサーマルフロー用に適したポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含むサーマルフロー用ポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、水素原子を有するアルカリ可溶性基（ｉ）の水素原子が、下記一般式（１）で表される酸解離性溶解抑制基（Ｉ）により置換されている構成単位（ａ１）を含む高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするサーマルフロー用ポジ型レジスト組成物。
【化１】


［式中、Ｚは脂肪族環式基を表し；ｎは０〜３の整数である。］ （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等に使用されるレジスト組成物を用いたサーマルフロープロセスにおいて、レジストパターンサイズの制御性に優れるサーマルフロー用に適したポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）と、酸発生剤成分とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）成分は、第三級アルキル基を含む酸解離性溶解抑制基を有する（メタ）アクリレート構成単位（ａ０）と、ラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）とを含む高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度、焦点深度、ドライエッチング耐性及びＰＥＢ温度依存性に優れ、特にドライエッチング耐性に優れた化学増幅型レジストである感放射線性樹脂組成物及びそれに使用される共重合体を提供する。
【解決手段】（ａ）ナフタレン骨格を有する繰り返し単位と、（ｂ）下記一般式（１）〜（４)で示される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも一種と、（ｃ）アルカリ可溶性部位を有する炭素数５以上の繰り返し単位とを有し（但し、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ異なる構造の繰り返し単位である。）、重量平均分子量が１０００〜５０００００である共重合体。
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【課題】耐ヨウ素性及び耐溶剤性に優れ、導電性基板に接着し、プラスチックフィルムタイプの色素増感型太陽電池にも対応可能なフレキシブル性を持ち、かつスクリーン印刷可能な光硬化性組成物、及び該光硬化性組成物を用いて電解液を封止した色素増感型太陽電池を提供する。
【解決手段】イソボルニルアクリレート及びアルキル基の炭素数が４〜１８のアルキル（メタ）アクリレートを含むモノマー成分、飽和熱可塑性エラストマー、並びに光重合開始剤を含有する光硬化性組成物であって、イソボルニルアクリレートとアルキル（メタ）アクリレートとの重量比が２０：８０〜７０：３０であり、温度２０℃、剪断速度１ｓｅｃ^−１の条件下で測定した粘度が５〜４０００Ｐａ・ｓである光硬化性組成物、該光硬化性組成物をシーリング材として用いて電解液を封止した色素増感型太陽電池、及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルターやマイクロレンズを形成する際の露光工程において、下地基板からの乱反射光を効果的に抑制でき、かつ高度の耐熱性を有し、ドライエッチングでも膜荒れが発生しないハレーション防止膜を形成するのに適した熱硬化性組成物、それを用いてハレーション防止膜を形成する方法およびその方法により形成されたハレーション防止膜、ならびにそのハレーション防止膜を有する固体撮像素子を提供すること
【解決手段】オキシラニル基またはオキセタニル基を有する重合性不飽和化合物とそれ以外の重合性不飽和化合物の共重合体、および
２，４，２’，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの如き特定のベンゾフェノン系放射線吸収剤
を含有する熱硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびに該組成物から層間絶縁膜およびマイクロレンズを形成する方法を提供すること。
【解決手段】上記感放射線性組成物は、（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物から選択される少なくとも１種、（ａ２）特定のオキセタン基含有不飽和化合物、および（ａ３）特定のエーテル構造を有する不飽和化合物の共重合体、ならびに〔Ｂ〕１，２−キノンジアジド化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な疎密依存性を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｂ）桂皮酸から誘導される特定の繰り返し単位と、少なくとも一種の特定のポリスチレン構造を有する繰り返し単位とを含有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

紫外線および可視光線を用いて硬化することができる組成物が開示される。さらに、開示されている組成物は、以下に限定されないが、紙製品および天然繊維織物など繊維質基材への塗布に適する。さらに、該組成物を繊維質基材または繊維質基材の少なくとも一部に塗布し、その塗布した組成物を硬化して部分的または完全に硬化した組成物を得るための方法が開示される。その上、完全に硬化した組成物を組み込む、例えば紙を含む製造物品が開示され、かかる製造物品は、長期間浸水した際の、構造的完全性、印刷物および明るさの保持を含めた水への耐性を示す。これらの硬化性組成物を組み込む方法、プロセス、製造ライン、組立て、および工場もまた開示される。 （もっと読む）

【課題】レジスト樹脂用の原料モノマーに適したβ−ヒドロキシラクトンの（メタ）アクリル酸エステルおよび３級エステルタイプの（メタ）アクリル酸エステルを収率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】式（１）で表されるルイス酸触媒および重合禁止剤の存在下、特定の構造を有するアルコール（Ａ）と、（メタ）アクリル酸無水物（Ｂ１）および（メタ）アクリル酸と（メタ）アクリル酸以外のカルボン酸との無水物（Ｂ２）から選ばれる少なくとも１種の酸無水物（Ｂ）とを反応させて、（メタ）アクリル酸エステルを製造する方法。


（式（１）中、Ｍは、遷移金属などから選ばれた元素を表し、Ｒｆはフッ素化炭化水素基を表し、ｎはＭの原子価と同数の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造に於いて、露光ラチィチュード、ＰＥＢ温度依存性改良、プロファイル改良、スカム低減について、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される環構造を主鎖に有する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。
（もっと読む）

【課題】 基板を高精度に加工する光ナノインプリント技術に利用可能な、新規な光硬化樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 （メタ）アクリレートを主成分とする光硬化性樹脂材料と、反応性希釈剤と、光重合開始剤とを含んでいる。（メタ）アクリレートとしては骨格内にベンゼン環構造を含む構造であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物を提供することである。
【解決手段】 特定の繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、および（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造などの超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトパブリケーションプロセスに好適に用いられるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(Ａ)酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、(Ｂ)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）ラクトン基を有する分子量２０００以下の芳香族化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）