本発明は、式（１）〜（４）の化合物が、発光層中のホスト材料若しくはドーパントとして及び/又は正孔輸送材料として、及び/又は電子輸送材料として使用される有機エレクトロルミネセンス素子、特別に、青色発光素子に関する。
【化１】

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【解決手段】下記一般式（１）で示されるスルホニウム塩を持つ繰り返し単位を有する高分子化合物を添加してなるレジスト材料。


（Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ²はフェニレン基、−Ｏ−Ｒ⁶−、又は−Ｃ（＝Ｏ）−Ｙ−Ｒ⁶−。Ｙは酸素原子又はＮＨ、Ｒ⁶はアルキレン基又はアルケニレン基、又はフェニレン基であり、カルボニル基、エステル基、エーテル基又はヒドロキシ基を含んでいてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴はアルキル基であり、カルボニル基、エステル基又はエーテル基を含んでいてもよく、又はアリール基、アラルキル基又はチオフェニル基。Ｘ^-は少なくとも１個のフッ素原子を有するイミド酸アニオン又はメチド酸アニオン。）
【効果】本発明のポリマー型スルホニウム塩の酸発生剤を添加したレジスト材料は、特に解像性に優れ、高感度でラインエッジラフネスが小さいという特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フィルム平面に対して斜め方向に最も屈折率が高く、その方向を任意に変化させることができるフィルムおよびフィルムの製造方法、並びにその利用を提供する。
【解決手段】垂直配向膜上にホモジニアス配向性の棒状重合性液晶化合物の層を形成させる。このとき、上記棒状重合性液晶化合物は、垂直配向膜界面において、傾斜配向する。また、このときの傾斜角は、上記垂直配向膜のラビング処理の程度により、容易に調整することができる。つまり、光学異方性層における屈折率楕円体の傾斜角を、任意に制御することができる。したがって、フィルム平面に対して斜め方向に最も屈折率が高く、その方向を任意に変化させることができる。 （もっと読む）

【課題】発光素子の封止に好適な適度な粘性を有する樹脂組成物であって、その硬化物がエポキシ樹脂と同等以上の屈折率を有し、耐熱性と耐光性に優れ、熱応力緩和性を有する樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 硬化性樹脂組成物が、屈折率１．５２以上の高屈折率アクリル系モノマーと非重合性カルバゾールを含有し、さらに必要に応じて重合性カルバゾールを含有する。高屈折率アクリル系モノマーとしては、フルオレン骨格、ビスフェノールＡ骨格、ビフェニル骨格、ナフタリン骨格又はアントラセン骨格を有するアクリレート又はメタクリレートを使用する。 （もっと読む）

【課題】被覆におけるケイ光ポリマーの使用方法を提供する。
【解決手段】被覆におけるケイ光ポリマーの使用方法：ここで、被覆組成物がケイ光化合物（ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、フルオランテン、アクリジン、カルバゾール、ピレン、クリセン、トリフェニレン、ペリレン及びそれらの置換芳香族誘導体、並びに、ナフチルメチルメタクリレート、ナフチルエチルメタクリレート、９−アントリルメタクリレート、９−アントリルメチルメタクリレート、２−（９−アントリル）エチルメタクリレート、１’−（９−アントリル）エチルメタクリレート、３−ヒドロキシ−２−メチレン−３−（１−ナフチル）プロピオン酸、Ｎ−ジベンゾスベレニルアクリルアミド、（９−フェナントリル）メチルメタクリレート及び９−ビニルフェナントレンからなる群から選択される）の存在下で、エチレン性不飽和モノマーを重合することによって得られるケイ光ポリマーを含む。 （もっと読む）

【課題】発光素子の封止に好適な適度な粘性を有する樹脂組成物であって、その硬化物がエポキシ樹脂と同等以上の屈折率を有し、耐熱性と耐光性に優れ、熱応力緩和性を有する樹脂組成物を提供する。
【解決手段】硬化性樹脂組成物が、式（１）で表されるフルオレン基含有アクリレート又はメタクリレートと、特定の単官能アクリレート又はメタクリレートを含有する。
【化１】


（式中、Ｘ：-(ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ)_n-又は-(ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ)_n-ＣＨ₂ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ₂Ｏ- 、ｎ＝１〜５
Ｒ：アクリル又はメタクリル ） （もっと読む）

【課題】様々な色の発光が高い発光効率で得られ、さらには長寿命である高分子発光材料を提供すること。また、製造工程が簡略化され、大面積化が実現できるとともに、耐久性に優れた有機ＥＬ素子および表示装置を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるイリジウム錯体から導かれる構造単位を含む重合体からなることを特徴とする高分子発光材料。


（Ｚ¹、Ｃ¹およびＣ²で形成される環、Ｚ²、Ｃ³およびＮで形成される環、ならびにＺ³およびＮで形成される環の少なくとも一つは重合性官能基または重合性官能基を有する置換基を有する。Ａはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、−ＳＣＮ、−ＮＣＳ、−ＯＣＮ及び−ＮＣＯからなる群から選ばれる原子または基を表す。） （もっと読む）

【課題】色純度の高い青色の発光が高い発光効率で得られ、さらには長寿命である高分子発光材料を提供することにある。また、製造工程が簡略化され、大面積化が実現できるとともに、耐久性に優れた有機ＥＬ素子および表示装置を提供することにある。
【解決手段】本発明の高分子発光材料は、下記一般式（１）で表されるイリジウム錯体から導かれる構造単位を含む重合体からなることを特徴とする。


（Ｚ¹、Ｃ¹およびＣ²で形成される環は、その環に直接結合した少なくとも一つのフッ素
原子などを有する。さらにＺ¹、Ｃ¹およびＣ²で形成される環、Ｚ²、Ｃ³およびＮで形成
される環、ならびにＺ³およびＮで形成される環の少なくとも一つは重合性官能基或いは
重合性官能基を有する置換基を有する。） （もっと読む）

【課題】表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造する。
【解決手段】表面に液状の放射線硬化性組成物が塗布されたシートＷに凹凸型を密着させ、この凹凸型表面の凹凸形状をシートの表面に転写形成する凹凸状シートの製造方法に使用される放射線硬化性組成物である。この放射線硬化性組成物は、所定の構造をもつアクリレート又はメタアクリレート、及び光重合開始剤を含む。 （もっと読む）

【課題】様々な色、特に色純度の高い赤色系の発光が高い発光効率で得られ、さらには長寿命である高分子発光材料、及び製造工程が簡略化され、大面積化が実現でき、耐久性に優れた有機ＥＬ素子および表示装置の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるイリジウム錯体から導かれる構造単位を含む重合体。


（式中、Ｒ¹〜Ｒ¹⁰は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基などを表す。Ｚ¹は、Ｃ、Ｎとともに五員または六員の含窒素複素環を完成するための原子群を表す。Ｌは、重合性官能基を有する、１価アニオンの２座配位子を表す。） （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の光学補償に寄与する光学異方性層等を安定的に作製するのに有用なポリマーを提供する。
【解決手段】フッ素原子を含む少なくとも一種の置換基を有する構成単位、及び下記一般式（Ａ）で表される構成単位を含むポリマーである。一般式（Ａ）中、Ｍｐは３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは円盤状置換基を表す。
一般式（Ａ）
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【課題】アクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸アルキルエステル、スチレンなどのビニル系モノマーに対して良好な共重合性を有し、着色性、透明性、耐折曲げ割れ性、および着色持続性に優れ、着色剤のブリードアウトが起こらない重合体を形成し得る、新規な反応性アントラキノン系化合物を提供すること。
【解決手段】（メタ）アクリロイル基を有する所定構造の反応性アントラキノン系化合物、該化合物を用いて得られるメタクリル酸エステル系重合体などが提供される。この重合体は、フィルムなどの成形体に広範囲に利用される。 （もっと読む）

【課題】誘電率、金属拡散バリア性等の膜特性に優れた絶縁膜、およびそれを用いた電子デバイスを得るための膜形成用組成物の提供。
【解決手段】下記一般式で表される化合物の重合体を含有する膜形成用組成物。


式中、Ｑは、炭素原子で形成された環構造を含む基または炭素原子で形成されたカゴ構造を含む基を表す。ｌは１〜１０の整数を表し、ｍは０〜１０の整数を表し、ｎは１〜１０の整数を表す。Ｘは任意の置換基を表す。Ｙは炭素−炭素不飽和結合を有する基を表す。ＲはＯ，Ｎ，Ｓ，Ｐ等の原子を含有する官能基を有する基を表す。 （もっと読む）

【課題】多層レジストプロセス用、特には２層レジストプロセス用又は３層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、即ち透明性が高く、最適なｎ値、ｋ値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、ヒドロキシ基を有するビニルナフタレンとヒドロキシ基を有さない特定のオレフィン類の繰り返し単位とを共重合してなる重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。 （もっと読む）

【課題】耐溶剤性、耐熱性が高く種々の有機溶媒に可溶で、簡便な化学的酸化／還元処理により、高い透明性を示すことが可能な新規な置換ポリアセチレン化合物の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される、繰り返し単位をｎ個有してなるアセチレン系ポリマー。


（式中、ｎは、１０から１００００の整数。Ａは、ナフタレン基又はアントラセン基から選ばれる基、Ｂは、置換基Ｘによりｍ又はｐの位置が置換されているフェニル基を表す。置換基Ｘは、アルキル基、Ｒ^１−Ｏ−基、−Ｓ−Ｒ^２基、−ＮＲ^３Ｒ^４、シアノ基、カルボキシル基、Ｒ^５ＳＯ_２−、−ＣＯＯＲ^６基、−ＣＯＮ（Ｒ^７）（Ｒ^８）基及び−ＣＯＲ^９から選ばれる基（Ｒ^１、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^９はアルキル基、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^７、Ｒ^８は水素原子又はアルキル基）である。） （もっと読む）

【課題】高い純度の青色光の発光が高い発光効率で得られる高分子発光材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるイリジウム錯体から導かれる構造単位を含む重合体からなる高分子発光材料。


（Ｒ¹およびＲ²はアルコキシ基などを表し、Ｚ¹は炭素原子Ｃ¹〜Ｃ³とともに五員または六員の炭素環または複素環を形成する原子群を表し、Ａ¹は炭素原子などを表し、Ａ¹が炭素原子、置換基を有してもよい。Ｌは重合性官能基を有する１価アニオンの２座配位子を表す。） （もっと読む）

【課題】可視光領域の光吸収の変化を利用して酸化状態を検出することができる組成物を提供する。
【解決手段】式（１）で表される、繰り返し単位をｎ個有してなるアセチレン系ポリマー成分と、式（１）で表される、繰り返し単位をｎ個有してなるアセチレン系ポリマー成分を酸化して得られる成分とからなる組成物。


（式中、ｎは、１０から１００００である整数を示す。Ａは、ナフタレン基又はアントラセン基から選ばれる基である。Ｂは、ｍ又はｐの位置が置換基Ｘにより置換されているフェニル基、置換基Ｘは、アルキル基、Ｒ^１−Ｏ−基、−Ｓ−Ｒ^２基、−ＮＲ^３Ｒ^４、シアノ基、カルボキシル基、Ｒ^５ＳＯ_２−、−ＣＯＯＲ^６基、−ＣＯＮ（Ｒ^７）（Ｒ^８）基及び−ＣＯＲ^９から選ばれる基（Ｒ^１、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^９はアルキル基、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^７、Ｒ^８は水素原子又はアルキル基）である。） （もっと読む）

【課題】耐溶剤性、耐熱性が高く、種々の有機溶媒に可溶で、長い主鎖共役を有し、簡便な化学的酸化／還元処理により、高い透明性を示すことが可能な新規な置換ポリアセチレン化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で表される、繰り返し単位をｎ個有してなるアセチレン系ポリマー。


（式中、ｎは、10から10000である整数を示す。Ａは、ナフチル基、フェナントリル基、ピレニル基、又はアントリル基を表し、アルキル基、芳香族炭化水素基により置換されているアルキル基、Ｒ^１−Ｏ−基、−Ｓ−Ｒ^２基、−ＮＲ^３Ｒ^４、シアノ基、カルボキシル基、Ｒ^５ＳＯ_２−、−ＣＯＯＲ^６基、−ＣＯＮ（Ｒ^７）（Ｒ^８）基及び−ＣＯＲ^９から選ばれる基によりモノ置換又はジ置換されている（Ｒ^１、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^９はアルキル基、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^７、Ｒ^８は水素原子又はアルキル基である）。繰り返し単位は必ずしも互いに同一である必要はない。） （もっと読む）

【課題】高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さく、また、現像後の残渣が低減され、ＱＣＭ法等による測定における現像中の膨潤を抑えることができる。従って、特に超ＬＳＩ製造用又はフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】酸不安定基を有する（メタ）アクリル酸エステル系モノマーとベンゼン縮合環構造を有する特定の構造の（メタ）アクリル酸エステル系モノマーとの共重合により得られる高分子化合物を含有するポジ型レジスト材料。 （もっと読む）

【課題】高耐熱性、低吸水性、低誘電率、低誘電正接の硬化物を与えるポリビニルベンジル化合物を提供すること。
【解決手段】特定のフルオレン化合物の１種または２種以上、ビニルベンジルハライドおよび炭素数２〜２０のジハロメチル化合物をアルカリ存在下で反応させて得られる硬化性ポリビニルベンジル化合物である。ビニルベンジルハライドは、ｍ−ビニルベンジルクロライドおよびｐ−ビニルベンジルクロライドからなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。 （もっと読む）