【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度であり、ラインウイズスラフネス及び疎密依存性が小さく、また、ＥＵＶ光による露光においても感度、溶解コントラストが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】側鎖に芳香環を有する特定の繰り返し単位を含有し、末端に特定の構造を有する樹脂及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】硬化前の粘度が低い光学ポリマー材料であって、硬化物の屈折率が高く、高温高湿下における屈折率変化の変化が少なく、かつ耐熱ショック性に優れた光学ポリマー材料及びそれを用いた光学部品を得る。
【解決手段】４つの（メタ）アクリロイル基を有するフルオレン化合物と、アリール基を有する（メタ）アクリレートとを含むこと特徴としており、−Ｍ−Ｏ−Ｍ−結合（Ｍは金属原子）及びアリール基を有する有機金属重合体及び、単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレートをさらに含んでいてもよい。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも２種類のアルカリ現像液に不溶または難溶性で、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂を含有し、その内の少なくとも１種が２４８ｎｍに吸収を有する基を側鎖に有する特定の繰り返し単位を含有する樹脂であり、 更に、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、および、有機塩基性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性、現像残渣のない化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベンゼン環上に、−Ｏ−ＣＨ（Ｌ）−Ｏ−Ｚ¹で表される基（Ｌは、水素原子、アルキル基、又はアラルキル基を表す。Ｚ¹は、ベンゼン環を１個有し、かつ２４８ｎｍに少なくとも吸収を有する基を表す。）を有するスチレン単位を含有する、アルカリ現像液に不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】薄膜かつ高遮光性を有するパターンをフォトリソグラフィー法で容易に形成でき、アルカリ現像後の未露光部分の残さを抑制し、パターン形状と感度がともに良好なカラーフィルター用感光性レジスト組成物を提供し、カラーフィルターおよび液晶表示装置の信頼性を高く、かつ歩留まりを向上させる。
【解決手段】少なくとも顔料（Ａ）、アクリル系ポリマー（Ｂ）、モノマー（Ｃ）、光開始剤（Ｄ）、および溶媒（Ｅ）を含有する感光性レジスト組成物において、該モノマー（Ｃ）が、ビスフェノールフルオレン型アクリレートおよび／またはビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のジアクリレートであることを特徴とする感光性レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れたジエン重合体およびその製造方法。
【解決手段】下記式（１）で表される単位を含む重合体および重合体の製造方法。


（ただし、上記式（１）において、Ｘ¹およびＸ²はそれぞれ独立に、元素の周期表第１６族の原子を表し；Ｙ¹およびＹ²はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、またはシリル基を表し、Ｙ¹とＹ²は互いに結合して環を形成していてもよい；Ａ¹、Ａ²、Ａ³、Ａ⁴、Ａ⁵、Ａ⁶、Ａ⁷、Ａ⁸、Ａ⁹およびＡ¹⁰はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトリル基、アルデヒド基、アルキル基、アラルキル基、アリール基、シリル基、シロキシ基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アミド基、イミド基、または炭化水素チオ基を表し；ｍは０または１を表し；ｎは１〜２０の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】新規なスピロ環含有ノルボルネン誘導体、この誘導体から得られるノルボルネン系開環重合体水素化物、これらを含有する光学樹脂材料、光学成形体を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で示されるスピロ環含有ノルボルネン誘導体とその利用。
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【課題】発光効率、発光寿命、及び製造性の改善された有機エレクトロルミネッセンス装置を提供する。
【解決手段】本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置１０は、ホールブロック層６と発光層５とを含む機能層７と、前記機能層７に電圧を印加する第１電極３及び第２電極８とを備え、前記ホールブロック層６が、ビニルピリジンモノマーと、前記発光層に含まれる電子輸送ユニットを含むビニルモノマーとの共重合体を含んでいることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における、高解像性、高感度、パターン形成後の現像欠陥を低減させることで、歩留まりを向上させることが可能なレジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の繰り返し単位を含有する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、並びに（Ｃ）溶剤を含有するレジスト組成物において、（Ｃ）溶剤として（Ｃ１）プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート及び、（Ｃ２）プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル、酢酸エステル、アルコキシプロピオン酸アルキル、鎖状ケトン及び、環状ケトンから選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とするレジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】印刷画像に生じるにじみやフェザリングを軽減し、印刷画像の保存性が良好であり、更に、記録媒体上で物理的外力に対して堅牢性を有するインクの構造体を形成する高分子化合物として好適なブロック共重合体を提供する。これを用いたインク、画像記録方法、画像記録装置を提供する。
【解決手段】ブロックセグメントを有するブロック共重合体であって、該ブロックセグメントが下記一般式（１）で表される基を有する繰り返し単位を有することを特徴とするブロック共重合体、これを用いたインク、画像記録方法及び画像記録装置。
−ＡＮＨＣＯＮＨＥ （１）
（式中、Ａは炭素原子数１から４５の直鎖状又は分岐状のアルキレン基を示し、Ｅは水素原子、又は炭素原子数１から４５の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を示す。） （もっと読む）

【課題】室温付近で液晶相を示し、溶媒溶解性に優れる組成物であって、かかる組成物を硬化して得られる重合膜に対し、重合膜を薄膜化しても充分な光学特性が得られ、均一な膜状態を維持し、耐熱性や配向制御及び光学特性に優れる組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で表される二官能（メタ）アクリレート化合物と、一般式（２）で表される末端にニトリル基を有する単官能（メタ）アクリレート化合物とからなり、それらの質量比率（前者／後者）が９０／１０〜４０／６０である重合性組成物。 （もっと読む）

【課題】光およびフォトレジスト自体の厚さによって生じる定常波を除去し、安定した超微細パターンを形成可能な有機反射防止重合体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】下記の一般式Ｉ等で表される重合体化合物。


例えば、２４８ｎｍ（ＡｒＦ）、１９３ｎｍ（ＡｒＦ）および１５７ｎｍ（Ｆ₂）レ−ザ−を利用するリソグラフィー工程においては下部膜の反射を防止することができ、且つ光およびフォトレジスト自らの厚さの変化によって生じる定常波を除去することができる。 （もっと読む）

【課題】高い螺旋誘起力を有し、液晶組成物に添加することで、液晶組成物の物理的性質、光学的性質を大きく損なうことなく必要なヘリカルピッチ長を達成することができる光学活性化合物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表される重合性光学活性化合物。
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【課題】ハイパーブランチポリマーを簡便かつ安定的に大量合成すること。
【解決手段】金属触媒存在下、リビングラジカル重合可能なモノマーを重合することによりハイパーブランチポリマーの合成に際して、リビングラジカル重合によって合成されたハイパーブランチポリマーを含む反応溶液に溶解度パラメータが１０．５以上である溶媒を混合して沈殿物を生成する沈殿物生成工程を行うようにした。これによって、吸着剤を用いることなく金属触媒、モノマーおよび副生物のオリゴマーなどの不純物を簡便に除去できるため、ハイパーブランチポリマーを簡便かつ安定的に大量合成することができる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性ポリマーの原料として有用な１，２，３，４−テトラヒドロアントラセン−９，１０−（メタ）アクリレート化合物を提供する。
【解決手段】次の式（１）で示される１，２，３，４−テトラヒドロアントラセン−９，１０−（メタ）アクリレート化合物。
【化１】


（式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２は、同一であっても異なってもよく、水素原子またはメチル基を示し、Ｘは、水素原子、アルキル基またはハロゲン原子の何れかを示す。） （もっと読む）

【課題】成膜性や他のモノマーとの相溶性にも優れ、高密度な架橋膜形成が可能であり、高密度な架橋膜形成時にも優れた電荷輸送性を示すアクリル酸エステル化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で表される連鎖重合性化合物。Ｚ_１、Ｚ_２は連鎖重合性基を表す。
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【課題】 高屈折率、光散乱性、環境特性に優れる光学材料を提供する。
【解決手段】 Ｎ−アクリロイルカルバゾール（Ａ）、多官能ポリエステルアクリレート（Ｂ）、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート（Ｃ）からなり、これらの成分を所定の比率で含む樹脂成分、あるいは上記成分（Ａ）〜（Ｃ）に加えて９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（Ｄ）を所定の比率で含む樹脂成分、および重合開始剤（Ｅ）を含むことを特徴とする光学樹脂用組成物およびそれを用いて製造した光学素子。 （もっと読む）

【課題】室温で十分安定したネマチック相を有し、かつ、均一なハイブリッド配向性を示す重合体を得ることを可能にする組成物を提供すること。
【解決手段】第１成分として特定の重合性液晶化合物と、第２成分として下記式で表される化合物から選ばれる１種以上の化合物（第１成分とは異なる）と、第３成分として特定の重合性化合物（第１成分及び第２成分とは異なる）とを含有する重合性液晶組成物。


［式中、Ｒ³およびＲ⁴は独立に水素または炭素数１〜１０のアルキルであり；Ｐ⁵は特定
の重合性基であり；ｑ³は０〜１の整数であり；ｊ³は１〜１０の整数である。］ （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、良好なサイドローブマージンを与えるポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）側鎖に２級ベンジル構造を有する繰り返し単位を含有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）三級アミン化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】室温を中心とした液晶相の広い温度範囲および良好な混和性等の性質を有する化合物、該化合物を含む組成物、ならびに該組成物の重合によって得られる光学異方性等に優れる重合体を提供すること。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物。


［Ｒ^aは（メタ）アクリロイルオキシ、オキシラン環、オキセタン環等の重合性基；Ａは
１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン等；Ｚは単結合、炭素数１〜２０のアルキレン等；Ｙは単結合、炭素数１〜２０のアルキレン等；ｍ、ｎは０〜５の整数である。］ （もっと読む）