【課題】外部取り出し量子効率が高く、且つ、発光寿命が長い有機エレクトロルミネッセンス素子、該素子を備えた白色有機エレクトロルミネッセンス素子や、表示装置及び照明装置を提供することであり、また、該素子や前記白色素子の形成に有用な有機ＥＬ素子用化合物、該化合物を用いる重合膜の製造方法、更には、該重合膜を形成する工程を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子用化合物。
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【課題】より高いバリア性を有するバリア性積層体を提供する。
【解決手段】少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機層を有するバリア性積層体であって、有機層は下記一般式（１）で表される芳香族（メタ）アクリレートと低アクリル当量の多官能（メタ）アクリレートを含む重合性組成物を硬化してなり、かつ、有機層の膜厚は３００ｎｍ〜９００ｎｍである、バリア性積層体。 （もっと読む）

【課題】寿命が長く、高発光効率で、色純度の高い青色発光が得られる有機ＥＬ素子及びそれを実現するスチルベン誘導体の提供。
【解決手段】一般式（１）で表されるスチルベン誘導体。


［Ａｒ^１〜Ａｒ^５は置換若しくは無置換の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基、Ａｒ^６、Ａｒ^７は置換若しくは無置換のアルキル基、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基、Ｒ^１、Ｒ^２は水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基である。］ （もっと読む）

【課題】広波長域で一様の偏光変換が可能な新規光学フィルム、該光学フィルムを与え得る新規化合物、これらを利用した偏光板、表示装置、光学フィルムの製造方法の提供。
【解決手段】式（１）の化合物に由来する構造単位を含有する光学フィルム。


［Ｂ_１〜Ｂ_４は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ’−、−ＯＣＨ_２等、Ｅ_１及びＥ_２はＣ１〜２０アルキレン基、Ｐ_１及びＰ_２は上記（Ｐ−１）〜（Ｐ−５）の基、Ｒ’、Ｒ_１〜Ｒ_５はＣ１〜４アルキル基又はＨを表す。］ （もっと読む）

【課題】単環性または二環性の化合物よりもさらに高い耐熱性、高屈折率を有する三環性の化合物を含有し、光又は熱エネルギーにより容易に重合させることのできる重合性組成物を提供する。
【解決手段】９，１０−ビス（２−（メタ）アクリロイルオキシアルコキシ）−１，４−ジヒドロアントラセン化合物及びラジカル重合開始剤を含有してなる重合性組成物及び当該組成物を重合して得られる重合物。重合開始剤としては、熱ラジカル重合開始剤又は光ラジカル重合開始剤を用いることができる。 （もっと読む）

【課題】単環性または二環性の化合物よりもさらに高い耐熱性、高屈折率を有する三環性の化合物を含有し、光又は熱エネルギーにより容易に重合させることのできる重合性組成物を提供する。
【解決手段】１，２，３，４−テトラヒドロアントラセン−９，１０−ジ（メタ）アクリレート化合物及びラジカル重合開始剤を含有してなる重合性組成物及び当該組成物を重合して得られる重合物。重合開始剤としては、熱ラジカル重合開始剤又は光ラジカル重合開始剤を用いることができる。 （もっと読む）

【課題】吐出、貯蔵安定性に優れたカラーフィルター用インキ組成物を提供する。
【解決手段】インクジェット法でカラーフィルターを得るためのインキ組成物において、全溶剤中、沸点が２００〜３００℃の範囲である溶剤を７０〜９９重量％含有し、かつ、沸点が１５０℃未満である溶剤を１〜１０重量％含有すると共に、下記一般式（１）で表される不飽和化合物（Ａ）、４官能以上の多官能アクリレート化合物（Ｂ）及び顔料（Ｄ）を必須成分とし、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の重量の比率（Ａ）／（Ｂ）が１０／９０〜９０／１０の範囲であるインクジェットカラーフィルター用インキ組成物である。
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【課題】硬化性、耐ブロッキング性、成形特性に優れ、成形加工前後での色変化が少ないインク組成物を提供すること。
【解決手段】重合性モノマー、ラジカル重合開始剤及び式（Ｃ−１）で示される増感剤を含有し、重合性モノマーの６５重量％以上が、単官能（メタ）アクリレート類、単官能ビニルオキシ化合物、単官能Ｎ−ビニル化合物及び単官能（メタ）アクリルアミド類よりなる群から選択されたモノマーであるインク組成物。式中、ＸはＯ、Ｓ又はＮＲを表し、Ｒは水素原子、アルキル基又はアシル基を表し、ｎは０又は１を表し、Ｒ¹〜Ｒ⁸は水素原子又は一価の置換基を表し、Ｒ¹〜Ｒ⁴のうち隣接する２つが互いに連結して環を形成してもよく、Ｒ⁵又はＲ⁶とＲ⁷又はＲ⁸とが連結して環を形成してもよい。
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【課題】露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示し、超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適な化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、式（１）の基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量１，０００〜５００，０００の高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹、Ｒ²は水素原子、又はＲ¹とＲ²は互いに結合してメチレン基、エチレン基又は−Ｏ−を形成する。Ｒ³は単結合又はメチレン基、Ｒ⁴は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アセチル基、又は酸不安定基、ｍは１〜４の整数） （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、ラクトン環とフェノール性水酸基を同一分子内に有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】顔料が微細に分散され、経時安定性に優れた顔料組成物。
【解決手段】顔料及び分散剤を含有する顔料組成物で、分散剤が（ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位と（ｂ）イオン性基を有する繰り返し単位とを含む共重合体である顔料組成物。



（式中、Ｒ_１：Ｈ、メチル基、Ｌ_１は＊−ＣＯＯ−、＊−ＯＣＯ−、＊−ＣＯＮＨ−、＊−ＣＯＮＲ_３−（Ｒ_３はＨ又は炭素数１〜６のアルキル基。）、又はフェニレン基。＊は主鎖に連結する結合手。Ｌ_２は単結合、下記の連結基群から選ばれる１種又は２種以上を組み合わせてなる２価連結基。Ａｒは炭素数８以上の縮環型芳香環、芳香環が縮環したヘテロ環、又は二個以上連結したベンゼン環から誘導される１価基。）
（連結基群）
炭素数１〜１２のアルキレン基、炭素数２〜１２のアルケニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲ_７−（Ｒ_７はＨ又は炭素数が１〜６のアルキル基）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２− （もっと読む）

【課題】ソルダーレジストとして必要な、現像性、硬度、耐熱性、感度だけでなく、優れためっき耐性及び保存性を両立することができる感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。
【解決手段】本発明の感光性組成物は、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤及び下記一般式（１）で表される化合物を含有してなることを特徴とする。
【化５３】


ただし、前記一般式（１）中、Ｒは、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、アリール基、及びヘテロ環残基のいずれかを表す。Ｌは、２価の有機連結鎖を表し、２つの窒素原子及び炭素原子を介して環を形成する。 （もっと読む）

【課題】基材密着性、モールド剥離性およびエッチング耐性に優れるナノインプリント用組成物を提供する。
【解決手段】多環芳香族構造を有する繰り返し単位（ａ）を含む樹脂を含有することを特徴とするナノインプリント用組成物。（ａ）が下記一般式で表されることを特徴とする。


［式中、Ｒ1は水素原子、置換していてもよいアルキル基またはハロゲン原子を表し、Ｘは単結合または有機連結基を表し、Ｌは置換基を有していてもよい多環芳香族基を表す。］ （もっと読む）

【課題】室温付近でコレステリック相を示し、組成により赤〜緑〜青〜紫の広範囲にわたるコレステリック反射帯域の反射色を制御でき、基材上にコレステリック液晶相を呈する塗膜を直接形成し固定化することができる重合性液晶組成物を提供すること。
【解決手段】R−P−X−(A−Z)_m−Y［RはCH₂=C(R¹)-COO等の重合性基（R¹は水素又はメチ
ル）；Pは単結合又はアルキレン（任意の−CH₂−はO、S、CH=CH、CO、COO又はOCOで置き
換えられてもよい。）；Xは単結合、O、S、COO、OCO、CON(R³)、N(R³)CO又はOCOO（Ｒ³は水素又はメチル）；Aは芳香族環又は脂肪族環；Zは単結合、COO、OCO又はCH₂CH₂；mは０
〜３の整数；Yは式(3-1),(3-2)又は(3-3)で表される基を示す。]で表される化合物と、特定の液晶性化合物とを含有する重合性液晶組成物。
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液晶ディスプレイ装置に用いられる光学シートを開示する。この光学シートは、外部衝撃によって容易に損傷しないので取り扱いが容易であり、不良発生率が減少して生産コストの節減および生産効率の増大を図ることができ、損傷による輝度低下を防止することができる。 （もっと読む）

本発明は、ポリマー、架橋剤、および熱酸発生剤を含み、前記ポリマーが、構造（１）の少なくとも１つの単位、構造（２）の少なくとも１つの単位、および構造（３）の少なくとも１つの単位を含む、反射防止コーティング組成物であって、但しＲ_１からＲ_９は独立して、ＨおよびＣ_１〜Ｃ_６アルキルから選択され、Ｒ’およびＲ”は独立して、ＨおよびＣ_１〜Ｃ_６アルキルから選択され、ＸはＣ_１〜Ｃ_６アルキレンであり、ＹはＣ_１〜Ｃ_６アルキレンである組成物に関する。本発明はさらに、該反射防止コーティング組成物上にコーティングされたフォトレジストに画像形成するための方法に関する。

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【課題】誘電率、誘電正接が低く、優れた耐熱性および密着性を有する回路基板用樹脂組成物、及び、これを用いたプリプレグと積層板を提供すること。
【解決手段】分子内に１つのマレイミド基を含有する化合物（Ａ）と、分子内に２つ以上のスチリル基を含有する化合物（Ｂ）と、を含有し、前記化合物（Ａ）は、N−フェニルマレイミドであり、また、前記回路基板用樹脂組成物の硬化物の、１ＧＨｚにおける誘電率が、２．３以上、３．３以下であることを特徴とする回路基板用樹脂組成物、及び、これを用いたプリプレグと積層板である。 （もっと読む）

少なくとも２つの重合性（メタ）アクリレート基及び１つのフルオレノール（メタ）アクリレートモノマーを有する、少なくとも１つの（at one）芳香族モノマー又はオリゴマーを含む、微細構造化光学フィルム及び重合性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低温で再配向処理、重合が可能な重合性の化合物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（１）で表される化合物。


［式中、Ａ_１は２価の環状炭化水素基又は複素環基、Ｂ_１は、−ＣＲ_５Ｒ_６−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ_５−等、Ｄ_１は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＲ_１Ｒ_２−ＣＲ_３Ｒ_４−、−Ｏ−ＣＲ_１Ｒ_２−、−ＣＲ_１Ｒ_２−Ｏ−、−ＣＲ_１Ｒ_２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−等を表す。Ｒ_１〜Ｒ_６は、Ｈ又はＣ１〜４のアルキル基、Ｅ_１は、置換されていてもよいＣ１〜１２の炭化水素基、Ｇ_１はＨ、ハロゲン原子又は式（１）の右項で表されるＤ_１、Ａ_１、Ｂ_１、Ｅ_１、Ｐ_１であり、Ｐ_１Ｈ又は重合性基、Ｙ_１は、Ｈ、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、スルホン、カルボキシル等、ｍは０〜８の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】光学特性、耐熱性、密着特性及び加工性などに優れる光学部品用組成物を提供し、さらには、光学特性及び耐熱性に優れた光学部品を提供する。
【解決手段】熱又は活性エネルギー線により架橋反応し得る炭素−炭素二重結合を有する含窒素複素環基アルケニル基を有すを有する式（Ａ）で表されるヒドロキシアミド重合体及び溶剤を含む光学部品用組成物。


［式（Ａ）中、Ｘ、Ｙ、Ｚは基を示す。ｍ及びｎは、ｍが１以上の整数、ｎが０以上の整数、かつ、ｍ＋ｎが４以上の整数を示す。］ （もっと読む）