【課題】気体透過膜の単量体として有用な、新規のアセチレン系化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


（ｌは１又は２であり、ｍは０、１又は２であり、ｎは０又は１であり、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれメチル基又は水素原子であって、ｎが１のとき、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４のうち少なくとも１つがメチル基であり、ｎが０のとき、Ｒ^１及びＲ^２のうち少なくとも１つがメチル基であり、Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３の有機基であって、上記有機基はハロゲン原子及び珪素原子のうち１つ以上の原子を含んでよい）で示される化合物。 （もっと読む）

【課題】複屈折の逆波長分散を効果的に発現させるシクロオレフィンコポリマーおよび該コポリマーからなるフィルムを提供する。
【解決手段】エチレン及び炭素数３〜２０のα−オレフィン化合物から選ばれる少なくとも１種の非シクロオレフィンモノマー（A）および特定のシクロオレフィンモノマー（B）、例えばｅｘｏ−１−ナフチルノルボルネンを付加重合させたシクロオレフィンコポリマー。該コポリマーからなるフィルム。 （もっと読む）

【課題】高耐熱、高機械強度、低誘電率、及び、良好な保存経時安定性を有する膜を形成することができる膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて得られる膜、並びに、前記膜を有する電子デバイスを提供すること。
【解決手段】式（１）で示される化合物、及び／又は、式（１）で示される化合物を少なくとも用いて重合した重合体を含むことを特徴とする膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて形成された膜、並びに、前記膜を有する電子デバイス。なお、式（１）中、Ａ^１は２〜４価の有機基を表し、Ａ^２はアルケニル基又はアルキニル基を表し、Ａｒは（２＋ａ１）価のアリール基を表し、Ｒは水素原子又は炭素数１〜３０のアルキル基を表し、ａ１は１〜４の整数を表し、ａ２は２〜４の整数を表す。
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【課題】高耐熱性、高屈折率が期待されるアントラセン骨格を有する重合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示される化合物を重合して得られる重合物。


｛式（１）において、ｎは１〜１０の整数を表し、Ｒ¹は水素原子又はメチル基を表し 、Ｒ²は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシメチル基、アリールオキシメ チル基又はアリルオキシメチル基のいずれかを示し、Ｘ、Ｙは同一であっても異なって いてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子のいずれかを表す。また、アントラセン環上の置換基Ｘは、５〜８位のうちいずれかの位置を占め、同じくＹは、１〜４位のうちいずれかの位置を占める。｝ （もっと読む）

【課題】発光波長が３５０ｎｍから４５０ｎｍの範囲にあるレーザー光での露光に適し安価な露光装置が適用でき、環境面での負荷が少なく、多量に処理を行っても安定した印刷性能を有し、耐刷性に優れる平版印刷版を与える平版印刷版材料およびそれを用いた平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、光塩基発生剤および特定構造で表される構成単位を有するポリマーを含有する画像形成層を有することを特徴とする感光性平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】溶媒溶解性が良好で、配向制御能や光学特性、光硬化性に優れる重合性組成物を提供すること。
【解決手段】重合性基としてハロゲン原子で置換されてもよい（メタ）アクリロイル基を有する重合性液晶化合物と、ラジカル光重合開始剤としてカルバゾール骨格及びアシルオキシムエステルを有する化合物とを含有することを特徴とする重合性組成物。 （もっと読む）

【課題】熱インプリントによる微細加工において、パーティクル状物の発生を抑制するために、耐熱劣化性に優れ、かつ流動化時の樹脂弾性率が低く微細パターン転写性の良好な熱インプリント用樹脂、当該樹脂を用いた熱インプリント用樹脂溶液、当該樹脂を用いた熱インプリント用射出成型体、当該樹脂を用いた熱インプリント用薄膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】空気中、昇温速度5℃/minでの示差走査熱量計測定において、酸化に伴う発熱ピークの発熱開始温度（酸化開始温度）が、当該樹脂のガラス転移温度＋35℃以上であり、窒素気流中、周波数1rad/secでの動的粘弾性率測定おいて、樹脂のガラス転移温度＋35℃での複素弾性率が0.24MPa未満である熱インプリント用樹脂。また、これを用いた熱インプリント用樹脂溶液、熱インプリント用射出成型体、熱インプリント用薄膜およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】高効率、高輝度、高寿命の光出力を有し、製膜時の膜欠陥の発生が少なく、安定した発光面を有する有機発光素子を提供する。
【解決手段】陽極と陰極と間に挟持される有機層から構成され、該有機層のうち少なくとも一層が、アクリル化合物を少なくとも一種類含むアクリル薄膜又は該アクリル薄膜を硬化したアクリル硬化膜で形成されることを特徴とする、有機発光素子。 （もっと読む）

本発明は、ａ）５〜９９．９質量％の、２０℃で＜２質量％の水溶性を有し、単官能性（メタ）アクリレートモノマー、スチレンおよびビニルエステルからなる群から選択される１つのモノマーもしくは複数のモノマー；ｂ）０〜７０質量％の、モノマーａ）と共重合可能な１つのモノマーもしくは複数のモノマー；ｃ）０〜２０質量％の、１つもしくは複数のジもしくはポリビニル性不飽和化合物；ｄ）０〜２０質量％の、２０℃で＞２質量％の水溶性を有する１つもしくは複数の極性モノマー；ならびにｅ）０．１〜９５質量％の少なくとも１つの活性剤を含む混合物を重合することによって得られるエマルジョンポリマーを記載し、ここで、成分ａ）〜ｅ）を合わせると１００質量％の混合物の重合性構成成分となり、乳化重合は、ｅ１）活性剤が式Ｉ（式中、Ｒ¹〜Ｒ⁷およびＸ基は、それぞれ説明で定義したとおりである）の化合物であり、ｅ２）活性剤ｅ）が共有結合によってエマルジョンポリマー中に組み入れられることを特徴とする。エマルジョンポリマーによって、保護されたポリマー固定活性剤を有するコア−シェルポリマーの形成が可能になり、例えば接着剤、注型用樹脂、フロアコーティング、反応性プラグ用材料、歯科用材料またはシーラント材料における二成分もしくは多成分系の可使時間を調節するために特に有利に使用できる。
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混合物を重合することによって得られるエマルジョンポリマー。本発明のエマルジョンポリマーは、レドックス開始剤系によって硬化し、調節可能な可使時間を有する二成分または多成分系を提供することを可能にし、この場合、好ましくはエマルジョンポリマーについて膨潤作用を有する２つの異なるモノマーを使用し、その一方の十分な膨潤作用を有するものを、系の使用時までエマルジョンポリマーとは別に貯蔵し、好ましくはペルオキシドとともに有機溶媒中で貯蔵する。系は、接着剤、注型用樹脂、フロアコーティングおよび他の反応性コーティング、シーラント材料、含浸材料、包埋材料、人工大理石および他の人造石を製造するための材料、反応性プラグの材料、歯科用材料、セラミック物品用の多孔性プラスチック型、または不飽和ポリエステル樹脂およびビニルエステル樹脂において使用できる。 （もっと読む）

【課題】接着強度、透明性、被膜強度、耐熱性、耐酸性、耐アルカリ性及び長期保存の特性が良好で、且つ特定波長の紫外線の吸光が可能なカラーフィルター用熱硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記構成単位を含む自己硬化性共重合体と有機溶媒とを含むことを特徴とするカラーフィルター用熱硬化性樹脂組成物。１．エポキシ基含有（メタ）アクリレート、２．水酸基含有（メタ）アクリレート、３．（メタ）アクリル酸、４．芳香族基含有（メタ）アクリレート （もっと読む）

【課題】良好な重合性と電荷輸送性を有し、成膜性や相溶性にも優れ、高密度な架橋膜形成可能な重合性化合物及び、耐摩耗特性に優れ、電気的特性が良好で画像欠陥が少なく、残像画像が発生することのない電子写真感光体の提供。
【解決手段】一般式（１）で表される重合性化合物、及び少なくとも下記成分Ａとして該重合性化合物を重合させて得られる硬化被覆組成物を表面に有する電子写真感光体。


（Ａｒ₁、Ａｒ₂はアルキル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環を表し、結合して環状構造Ａ₁を形成しても良い。Ａｒ₃〜Ａｒ₅は２価のアリーレン基又はヘテロ芳香環、Ｒ₁はアルキレン基、アリーレン基又はオキサアルキレン基、Ｘ₁は酸素原子又は硫黄原子、Ｚは重合性基、ｎ１は１又は２、ｎ２、ｎ３は０又は1を表す。） （もっと読む）

【課題】解像性に優れ、レジストパターンの波型の形状不良発生が少なく、ＳＷによるパターン変動を低減できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】酸に不安定な基が酸の作用により解裂した後はアルカリ水溶液に可溶となる樹脂を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物であって、該樹脂がヒドロキシスチレンの重合単位（Ｉ）と、脂環式基を有する（メタ）アクリレートの重合単位（II）とを含有し、さらにベンゾイルオキシ基を有するヒドロキシスチレン（III）の重合単位、およびナフタレン構造を側鎖に持つ（メタ）アクリレート（ＩＶ）の重合単位の１種以上を含有する組成物。 （もっと読む）

【課題】硬度、耐熱性などに優れたフルオレン骨格を有する新規なウレタン（メタ）アクリレートを提供する。
【解決手段】特定のフルオレン骨格を有する化合物｛例えば、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［３，４−ジ（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンなど｝と、イソシアネート基を有する（メタ）アクリル系化合物［例えば、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート（又は２−（メタ）アクリロキシエチルイソシアネート、１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートなどのモノ又はジ（メタ）アクリロイルオキシＣ_２−６アルキル−イソシアネートなど］とを反応させてウレタン（メタ）アクリレートを得る。 （もっと読む）

【課題】希釈剤や原料モノマーとして使用可能なフルオレン骨格を有する新規なウレタン（メタ）アクリレートを提供する。
【解決手段】特定のフルオレン骨格を有する化合物｛例えば、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］フルオレンなど｝と、イソシアネート基を有する一官能性（メタ）アクリル系化合物［例えば、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート（又は２−（メタ）アクリロキシエチルイソシアネートなどのモノ（メタ）アクリロイルオキシＣ_２−６アルキル−イソシアネートなど］とを反応させて１個の（メタ）アクリロイル基を有する一官能性のウレタン（メタ）アクリレートを得る。 （もっと読む）

【課題】電荷輸送能に優れ、側鎖にフルオレン残基を有する新規ベンゾフルベン誘導体モノマー、新規ベンゾフルベン誘導体とそれらを用いてなる組成物および電荷輸送材料を提供する。
【解決手段】式：


（Ａｒ¹、Ａｒ²は芳香環；Ｒ¹、Ｒ²は水素原子または芳香族を除くヘテロ環構造を有する基；ただし、Ｒ¹およびＲ²の少なくとも１つは芳香族を除くヘテロ環構造を有する基；Ｒ³、Ｒ⁴は水素原子、アルキル基、芳香族基、シアノ基またはエステル結合を有する有機基；Ｘ¹は単結合、−ＣＨ₂−、−Ｃ₂Ｈ₄−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−またはヘテロ原子）で示される構造単位を１０〜１００モル％含むジベンゾフルベン誘導体と、電子受容性化合物または電子供与性化合物とを含む組成物。 （もっと読む）

【課題】逆波長分散特性を示すフィルムを形成できる変性ＰＶＡを、安価に製造することができる製法を提供する。
【解決手段】溶剤に溶解させたビニルエステル系ポリマーを、この溶媒中において、加水分解及びアセタール化を行うことにより、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を少なくとも有する変性ＰＶＡを製造する。
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【課題】感度、解像度及び密着性の全てを従来よりも十分に満足するレジストパターンを形成する感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
上記目的を達成する本発明は、（Ａ）特定のスチレン及びその誘導体から得られる２価の基１０〜６５質量部と、特定の（メタ）アクリル酸エステル及びその誘導体から得られる２価の基５〜５５質量部と、（メタ）アクリル酸から得られる２価の基１５〜５０質量部とを有する１００質量部のバインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度であり、ラインウイズスラフネス及び疎密依存性が小さく、また、ＥＵＶ光による露光においても感度、溶解コントラストが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】側鎖に芳香環を有する特定の繰り返し単位を含有し、末端に特定の構造を有する樹脂及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】硬化前の粘度が低い光学ポリマー材料であって、硬化物の屈折率が高く、高温高湿下における屈折率変化の変化が少なく、かつ耐熱ショック性に優れた光学ポリマー材料及びそれを用いた光学部品を得る。
【解決手段】４つの（メタ）アクリロイル基を有するフルオレン化合物と、アリール基を有する（メタ）アクリレートとを含むこと特徴としており、−Ｍ−Ｏ−Ｍ−結合（Ｍは金属原子）及びアリール基を有する有機金属重合体及び、単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレートをさらに含んでいてもよい。 （もっと読む）