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【課題】位相差値の波長依存性をこれまでより一層抑制し、逆波長分散性を発現し得る新規な光学フィルム及び該フィルムを与え得る組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(1)で表される化合物と、式(2)で表される化合物とを含む組成物。
【化83】


2-E3-(D5-A4)f-D3-G1-D1-Ar-D2-G2-D4-(A5-D6)g-E4-P3 (2)
(式中、EWGはニトロ基等、R’/R”はアルキル基等、Aは2価の環状炭化水素基等、B〜Bは−O−等、E/E/Eはアルキレン基等、Eはアルキル基等、P〜Pはアクリロイル基含有基等、Arは2価の芳香族性を有する基、D〜Dは、−CO−O−等、A/Aは、2価の脂環式炭化水素基等、p、q、s、tは0〜4の整数、hは1〜4の整数、f及びgは1〜3の整数を表す。) (もっと読む)


【解決手段】一般式(1)で示されるスルホニウム塩を含有する高分子化合物。


【効果】上記繰り返し単位を含有する高分子化合物を感放射線レジスト材料のベース樹脂として用いた場合、高い解像性能を発揮し、パターンのLERが小さく仕上がる。 (もっと読む)


【課題】広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを与える新しい組成物を提供。
【解決手段】式(1)の化合物と式(2)の置換基を有する化合物とを含む組成物。


[式中、EWGは、ニトロ基等、p、q、s及びtは0〜4の整数、R’及びR”はC1〜4のアルキル基等、A及びA11は、5〜20員環の2価の環状炭化水素基等、B、B、B、B、B11及びB12は、−O−、−S−、−C(=O)−等、nは1〜4の整数、E及びE11は、炭素数1〜12のアルキレン基、Eは、水素、炭素数1〜12の鎖状又は環状アルキル基等、P及びP11は、水素原子又は式(P−1)〜(P−5)の基、mは1〜3の整数である。] (もっと読む)


【課題】室温付近でコレステリック相を示し、組成により赤〜緑〜青〜紫の広範囲にわたるコレステリック反射帯域の反射色を制御でき、基材上にコレステリック液晶相を呈する塗膜を直接形成し固定化することができる重合性液晶組成物を提供すること。
【解決手段】式(1)の化合物と特定の液晶性化合物とを含有する重合性液晶組成物。


[RはH等;Aは炭素数1〜12のアルキレン等;X及びYは独立して芳香族環又はシクロヘキサン環等;Zは独立して単結合、O、S、COO、OCO、CON(R1)又はN(R1)CO;R1は水素又はメチル;mは0〜3の整数を示す。] (もっと読む)


【課題】新規のジエン重合体を提供する。
【解決手段】重合体は、下記式(1)で表される繰り返し単位を有する。
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【課題】感度、解像度、LER、パターン形状、アウトガスに優れたレジスト組成物の提供。
【解決手段】(A)一般式(I)で表される繰り返し単位を含有する樹脂、及び(B)下記一般式(II)で表される化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。一般式中、各記号は所定の元素または基を表す。
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【課題】接続ピッチの微細化に対応可能な異方導電性樹脂組成物、及びこれを用いた異方導電性部材を提供すること。
【解決手段】本発明に係る異方導電性樹脂組成物は、棒状、かつ中空の導電性磁性粉体と、光重合性組成物を主成分とするバインダーとを含有し、光重合性組成物の活性光線照射前後の収縮率は、下記<数1>により算出した場合に7%以下のものとする。
<数1> 収縮率(%)=100×(dp−dM)/dp
式中のdpは、活性光線照射後の光重合性組成物の密度、dMは、活性光線照射前の光重合性組成物の密度を示す。 (もっと読む)


【課題】優れた耐久性を有し、少ない光照射量で配向制御ができる光配向膜及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】光配向膜は、下記一般式(1)で表される化合物を含む。


[但し、前記一般式(1)中、L、L、L及びLは、それぞれ、単結合、−O−、−O−CO−、−O−CO−O−、−CO−O−、−S−、−N(CH)−、−NH−、−N(CH)−CO−、−NH−CO−、−CO−N(CH)−及び−CO−NH−のいずれかであり、S及びSは、単結合及び置換されていてもよいアルキレン基のいずれかであり、Qは、重合性基であり、R及びRは、−F、−Cl、−Br、−CH、−OCH及び−CNのいずれかであり、P及びPは、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、0〜4の整数であり、mは、0〜3の整数であり、nは3以上の整数である。] (もっと読む)


【課題】有機電子材料、発光素子材料、光学材料として有用なピレン化合物及び高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記式(I)


で表されることを特徴とするピレン化合物及び高分子化合物。 (もっと読む)


【課題】モールド剥離性、エッチング耐性および耐溶剤性に優れたパターンを形成可能なナノインプリント用硬化性組成物およびこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】多環芳香族構造を有する重合性単量体(Ax)と、光重合開始剤(B)と、を含むことを特徴とするナノインプリント用硬化性組成物およびこれを用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】半導体素子デバイスなどにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有する膜が形成可能な、しかも誘電率、ヤング率などの膜特性に優れた膜を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表されるジビニルシロキサンビスベンゾシクロブテンとカゴ型シルセスキオキサン化合物の重合体であるシルセスキオキサン化合物を含む膜形成用組成物を塗布し、周波数5.8GHzのマイクロウエーブを照射して形成する。
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【課題】高感度および高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベース樹脂として、少なくともフェノール性水酸基の水素原子が下記一般式(1)で示される酸不安定基によって置換されている高分子化合物を含むものであることを特徴とするポジ型レジスト材料。
【化86】
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【課題】高感度および高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベース樹脂として、少なくともフェノール性水酸基の水素原子が下記一般式(1)で示される酸不安定基によって置換されている高分子化合物を含むものであることを特徴とするポジ型レジスト材料。
【化85】
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【課題】表面平滑性、非タック性(表面ベトツキ抑制)、及び、臭気抑制に優れる光硬化性コーティング組成物、並びに、前記光硬化性コーティング組成物を使用して得られるオーバープリント、及び、その製造方法を提供すること。
【解決手段】消臭能を有する化合物、重合性化合物、及び、光重合開始剤を含有することを特徴とする光硬化性コーティング組成物、並びに、前記光硬化性コーティング組成物を使用したオーバープリント、及び、その製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、優れた耐熱性を有し、高屈折率を示す硬化膜を形成しうる有機系の膜形成用組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】硬化後に400℃以上の熱分解温度を有する有機化合物と、アルミニウム化合物粒子、スズ化合物粒子、チタン化合物粒子およびジルコニウム化合物粒子からなる群より選ばれる少なくとも1種の金属化合物粒子とを含む膜形成用組成物。 (もっと読む)


【課題】光に対する感度が高く、パターンニング性に優れた樹脂組成物を提供する。特に、半導体素子の機能面側に接合して設けられ、前記半導体素子の前記機能面側に形成される空隙を定めるためのスペーサの形成や、半導体素子の保護膜、絶縁膜等の形成に好適に用いることが可能な樹脂組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ基を有するノルボルネン系重合体と、特定構造のオニウム塩である感光剤とを含むことを特徴とする。ノルボルネン系重合体は、付加重合体であるのが好ましい。感光剤の含有量は、ノルボルネン系重合体100重量部に対して、0.1〜10重量部であるのが好ましい。さらに、酸捕捉剤を含むのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】集光シートの輝度上昇フィルムを形成するための、屈折率が通常1.55以上であり、組成成分が廉価で、且つ、製造時に環境に対しても優しい、光学組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式[式中、RはO原子またはS原子であり、Rは(CO)の二価官能基であって、ここでnは1〜10の整数であり、RはH原子またはメチル基である]で示される第一の単量体と、アクリル基を有する第二の単量体とを、1:9〜9:1の重量割合で含有し、互いに重合可能である、光学組成物。
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【課題】剥ぎ取り性が良好な生産性の高いノルボルネン系重合体フィルムを提供する。
【解決手段】下記一般式(I)で表されるノルボルネン系化合物由来の繰り返し単位(1)を、全繰り返し単位のうち、0.01〜2.00モル%含むノルボルネン系重合体。
【化1】


(式中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、または置換基を有していてもよいアリール基を表す。ただし、R1、R2、R3、R4のうち少なくとも1つは前記アリール基を表す。) (もっと読む)


【課題】フルオレン骨格を有していても、ハンドリング性に優れた新規なフルオレン骨格含有二官能性(メタ)アクリレートを提供する。
【解決手段】前記(メタ)アクリレートを、下記式で表される化合物とする。


(式中、Rはシアノ基、ハロゲン原子又はアルキル基を示し、Rはプロピレン基などの分岐アルキレン基を示し、Rは水素原子又はメチル基を示し、Rはアルキル基を示し、kは0〜4の整数、mは1以上の整数である。) (もっと読む)


【課題】9,9−ビス(縮合多環式アリール)フルオレン骨格を有していても、ハンドリング性に優れた新規なフルオレン骨格含有多官能性(メタ)アクリレートを提供する。
【解決手段】前記(メタ)アクリレートを、下記式で表される化合物とする。


(式中、環Zはナフタレン環などの縮合多環式芳香族炭化水素環、Rはアルキル基などの置換基を示し、Rはアルキレン基を示し、Rは水素原子又はメチル基を示し、Rは炭化水素基、アルコキシ基などの置換基を示し、kは0〜4の整数、mは1以上の整数、nは0又は1以上の整数、pは1以上の整数である。) (もっと読む)


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