【解決手段】下記一般式（ａ）及び（ｂ）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｒ¹はＨ又はＣＨ₃、Ｒ²はヒドロキシ基、酸不安定基で置換されたヒドロキシ基であり、Ｒは炭素数１〜１８のアルキレン基であり、ＲとＲが結合するベンゼン環の２個の炭素原子とで炭素数３〜２０の環を形成するが、該環は芳香族環を含んでいてもよく、Ｒ³は酸不安定基である。ｍは１又は２であり、ａ、ｂは、０＜ａ＜１．０、０＜ｂ≦０．８の範囲である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料によれば、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さく、また、現像後の残渣が低減されたものである。 （もっと読む）

【課題】光安定性を向上させるとともに、当該特性を長時間に亘って維持することが可能な光学素子用樹脂組成物、光学素子、集光装置及び光ピックアップ装置を提供すること。
【解決手段】少なくとも脂環式炭化水素系重合体を含む光学素子用樹脂組成物であって、
ラジカル数が１０¹⁴スピン／ｇ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストパターン形成の際、同時に感光性有機反射防止膜を形成するための感光性有機反射防止膜用の組成物及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】感光性有機反射防止膜形成用の組成物は、エポキシ基及び酸発生剤（ＰＧＡ）によって分解が起こる酸分解型熱架橋剤を０．５〜５質量％と、アントラセンを含有するアクリレート単量体またはアントラセンを含有するメタアクリレート単量体を含む共重合体樹脂を１０〜２２質量％と、光酸発生剤を０．１〜１質量％と、その余の溶媒と、を含む。この感光性有機反射防止膜形成用の組成物で形成した感光性有機反射防止膜は、フォトレジストによりフォトレジストパターンを形成するための現象工程において、同時に現象される。 （もっと読む）

【課題】屈折率変調、波長選択性および耐久性に優れた体積型ホログラム記録材料用組成物、ホログラム記録媒体、体積型ホログラムの製造法を提供。
【解決手段】ガラス転移温度が４０から２００℃であり、数平均分子量が１万から１００万である、式（I)で表されるバインダーポリマー（Ａ）、ラジカル重合性物質（Ｂ）、ラジカル重合開始剤（Ｃ）を含む体積位相型ホログラム記録材料用のフォトポリマー組成物。式中のＲ_kおよびＲ_lは、Ｈ、飽和もしくは不飽和の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素芳香族炭化水素。
（もっと読む）

【課題】耐光性・耐熱性が低下するのを抑える。
【解決手段】本発明に係る光学素子としての対物レンズ１０は、所定の脂環式炭化水素系共重合体に添加剤を混合した光学素子用樹脂組成物を成形して得られた光学素子であって、前記脂環式炭化水素系共重合体が、前記脂環式炭化水素系共重合体３質量部を４０℃でシクロヘキサン１００質量部に溶解させ、前記シクロヘキサンに対し体積比で１０倍のアセトンを前記脂環式炭化水素系共重合体と前記シクロヘキサンとの溶液に加えて前記脂環式炭化水素系共重合体を沈殿させたときに、溶解成分として溶媒中に残留する前記脂環式炭化水素系共重合体由来の成分量が、前記シクロヘキサンに溶解させる前の前記脂環式炭化水素系共重合体量に対して４重量％以下である。 （もっと読む）

【課題】光学特性、耐熱性、接着性、密着性および耐吸湿性のいずれにも優れた環状オレフィン系重合体を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される繰り返し単位を含む環状オレフィン系重合体。


一般式（１）中、Ｒ^１は置換基を表し、Ｌは単結合または２価の連結基を表す。ただし、ＬとＯＨの結合によりアルコールが形成される。ｐは、０または１の整数、ｑは０〜３の整数、ｒは１〜４の整数を表す。Ｒ^１、Ｌは互に結合して５〜７員の環を形成していても良い。 （もっと読む）

【課題】黒表示状態の液晶層を、より高い精度で光学的に補償し、幅広い視野角において光漏れを防止するとともに、光学異方性層及びその製造方法と、該光学異方性層からなる光学補償素子を用いることにより高視野角、高コントラストで高画質な長寿命の液晶表示装置及び液晶プロジェクタの提供。
【解決手段】重合性液晶化合物を含み、該重合性液晶化合物に対する溶媒としてアミド化合物を用い、更に前記溶媒にエーテル系化合物及びセロソルブ系化合物の少なくともいずれかが全溶媒に対して、１〜５０質量％含まれることを特徴とする重合性組成物、該重合性組成物を含む光学異方性層、光学補償素子及び液晶表示装置である。光源からの照明光が照射される液晶表示装置と、該液晶表示装置によって光変調された光をスクリーン上に結像させる投影光学系とを備え、前記液晶表示装置が本発明の液晶表示装置である液晶プロジェクタ。 （もっと読む）

【課題】光学特性、耐熱性、接着性、密着性および耐吸湿性のいずれにも優れた環状オレフィン系重合体を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含む環状オレフィン系重合体。


一般式（１）中、Ｒ^１は置換基を表し、Ｒ^２は置換されていてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、Ｌは単結合または２価の連結基を表す。ただし、Ｌ、ＯおよびＲ^２の結合はエーテル結合である。ｐは、０または１の整数、ｑは０〜３の整数、ｒは１〜４の整数を表す。Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^２とＬが結合する環骨格の炭素原子、または２つのＲ^２は互いに結合して５〜７員の環を形成していても良い。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイ等に用いられる硬化性組成物であって、外部圧力を受けたときの変形量が大きく（即ち、基板作成時の圧着力不均一を吸収することができ）、高圧力下でも復元率が著しく低下しない（即ち、復元率の圧力依存性が少ない）硬化物を形成しうる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】微小硬度計による負荷−除荷試験において、下記指標式（１）及び（２）を満たす硬化物を形成しうる硬化性組成物。
｜Ｈ₁−Ｈ₂｜／｜Ｐ₁−Ｐ₂｜≧０．３５ （１）
｜Ｒ₁−Ｒ₂｜／｜Ｐ₁−Ｐ₂｜≦１５ （２）
（式（１）中、Ｈ₁、Ｈ₂はそれぞれ上断面積が４０±５μｍ²、１５０±５μｍ²のスペーサーの総変形量（μｍ）を示す。式（１）（２）中、Ｐ₁、Ｐ₂はそれぞれ上断面積が４０±５μｍ²、１５０±５μｍ²のスペーサーにかかる圧力（ｍＮ／μｍ²）を示す。式（２）中、Ｒ₁、Ｒ₂はそれぞれ上断面積が４０±５μｍ²、１５０±５μｍ²のスペーサーの弾性復元率（％）を示す。） （もっと読む）

【課題】光学異方性Δｎが高くても、室温で液晶相を示して結晶が析出せず、有機溶剤に対する溶解性に優れ、塗布性や配向性に優れ、かつ重合後の透明性に優れる重合性液晶化合物、並びに該重合性液晶化合物の重合物又は共重合物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表される重合性液晶化合物。


（式中、Ｒ₁及びＲ₂は水素原子、メチル基又はハロゲン原子を表し、環Ａ〜Ｃはベンゼン環、ナフタレン環等を表し、環Ａ〜Ｃのうち少なくとも一つが縮合環であり、Ｘ〜Ｚは炭素原子数１〜６のアルキル基等を表し、Ｌ₁〜Ｌ₃は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ（ＣＨ₂）_j−（但しｊ＝１〜８）等を表し、ｎは０又は１を表し、ａ〜ｃは、重合性液晶化合物が少なくともＸ、Ｙ及びＺのいずれかを１つ以上有することとなる数を表す。） （もっと読む）

【課題】高周波（ギガヘルツ）帯域用途に適した低比誘電率及び低誘電損失の特性を有し、かつ基板を構成する金属材料等に対する接着性を有する熱硬化性樹脂組成物を用いた高性能高周波電子部品分野に適用できる電子部品を提供すること。
【解決手段】ビニルベンジル系化合物とポリカルボジイミド化合物とを含有することにより、高周波（ギガヘルツ）帯域用途に適した低比誘電率及び低誘電損失の特性、及び基板を構成する金属材料に対する接着性を有し、かつ、高周波帯域において伝送特性と長期信頼性に優れる熱硬化性樹脂組成物を用いた高性能高周波電子部品分野に適用できる電子部品である。 （もっと読む）

【課題】ビニルベンジル基を有する化合物とポリフェニレンエーテル樹脂とを併用して得られる樹脂組成物において、高周波領域における誘電特性に加え、金属箔との密着性、耐熱性、難燃性に優れた樹脂組成物及び前記樹脂組成物を用いたプリプレグ、及び前記プリプレグを用いた積層体を提供する。
【解決手段】ポリフェニレンエーテル樹脂と下記式（１）で示されるビニルベンジル基を有する化合物等とを含有する樹脂組成物を用いる。
（もっと読む）

【課題】感度、解像度、焦点深度、ドライエッチング耐性及びＰＥＢ温度依存性に優れ、特にドライエッチング耐性に優れた化学増幅型レジストである感放射線性樹脂組成物及びそれに使用される共重合体を提供する。
【解決手段】（ａ）ナフタレン骨格を有する繰り返し単位と、（ｂ）下記一般式（１）〜（４)で示される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも一種と、（ｃ）アルカリ可溶性部位を有する炭素数５以上の繰り返し単位とを有し（但し、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ異なる構造の繰り返し単位である。）、重量平均分子量が１０００〜５０００００である共重合体。
（もっと読む）

【課題】半導体素子の製造工程中におけるリソグラフィー用フォトレジストを使用する超微細パターンの形成工程において、下部膜層の反射を防止してＡｒＦ光およびフォトレジスト自体の厚さの変化によって生じる定在波の除去法および、このような有機反射防止重合体を含む反射防止用の組成物、これを利用した反射防止膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】特定のアクリレート系又はメタアクリレート系単量体を基本構造とする共重合体を、半導体の製造工程中、超微細パターンの形成時に反射防止膜に使用する。 （もっと読む）

【課題】 優れた光学的特性（例えば、高屈折率、高透明性（可視光線に対する透明性）など）を有し、かつ基板に対する高い密着性、ハードコート性、高耐熱性などの特性を有する硬化物を得るのに有用な重合性組成物を提供する。
【解決手段】 前記重合性組成物を、フルオレン骨格を有する特定の多官能性（メタ）アクリレート［９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシエトキシフェニル）フルオレンなど］、重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物（例えば、（メタ）アクリロイルオキシアルキルトリＣ_1-4アルコキシシラン）、および光酸発生剤で構成する。前記組成物は、光重合性を高めるため、さらに、光ラジカル開始剤を含んでいてもよい。 （もっと読む）

【課題】 ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、および（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有するレジスト組成物。
（もっと読む）

【課題】高透明性、高耐熱性を有し、しかも生産性に優れた光導波路形成用樹脂フィルムに特に有用な光学材料用樹脂組成物、該樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルム及びこれを用いた光導波路の製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）ベースポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する光学材料用樹脂組成物であって、（Ａ）ベースポリマーが、（ａ−１）ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物若しくはそれらの誘導体から選ばれる少なくとも１種及び（ａ−２）ビスフェノールＦ、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物若しくはそれらの誘導体から選ばれる少なくとも１種を共重合成分の構成単位として含むことを特徴とする光学材料用樹脂組成物である。 （もっと読む）

本発明は、酸素または硫黄ベース求核試薬のアルキル金属塩の存在下、相間移動触媒、特に臭化テトラブチルアンモニウムまたは塩化トリオクチルメチルアンモニウムを用いた無溶媒条件下での、ブチルエラストマー、特にハロブチルエラストマーの改質に関する。本発明での使用のための好適な求核試薬には、適切な水酸化物塩基での中和によって製造される、第三ブチル酢酸、ステアリン酸、安息香酸、４−（ジメチルアミノ）安息香酸、アントラセン−９−カルボン酸、リノール酸またはそれらの混合物の金属塩が含まれる。 （もっと読む）

【課題】ＩＰＳモードおよびＯＣＢモードの液晶ディスプレイに適した偏光子支持基材としての偏光子保護性能と位相差機能とを兼ね備えたフィルムを提供する。
【解決手段】マレイミド窒素に結合する水素原子が１価の芳香族基で置換されたマレイミド類（ａ）１〜９９モル％、ならびにアクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステルからなる群より選ばれる少なくとも１つのモノマー成分（ｂ）１〜９９モル％を含む共重合体を溶融押出キャスティングにより製膜した後、少なくとも一方向に延伸されてなるフィルムであり、特定の位相差特性及び三次元の屈折率バランスを有する延伸フィルム。 （もっと読む）

【課題】スルホン酸基を有するポリマーがフラーレンを介して架橋されており、水やメタノールに不溶性であって、燃料電池用固体電解質として好適に用いることができるプロトン伝導体とその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明によれば、側鎖又は主鎖に芳香環を有するポリマーが少なくとも１つの芳香環においてフラーレン核にて置換されており、少なくとも１つの芳香環においてスルホン酸基を有すると共に、上記ポリマーが芳香環に置換されたそのようなフラーレン核の少なくとも一部を介して架橋されてなるフラーレン化ポリマースルホン酸からなることを特徴とするプロトン伝導体が提供される。 （もっと読む）