【課題】微細化された顔料の分散安定性に優れ、コントラストに優れた着色被膜を形成し得る顔料分散組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）下記一般式（Ｉ）及び（II）のいずれか１種を含む高分子化合物（式中、Ｒ１−Ｒ２；Ｈ等、Ｘ１−Ｘ２；−ＣＯ−等、Ｌ１−Ｌ２；連結基、n,m,p,q,は整数を示す）（ｂ）側鎖に複素環を有する高分子化合物で被覆された加工顔料、及び、（ｃ）有機溶剤を含有することを特徴とする顔料分散組成物。
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【課題】低誘電率、低損失特性、及び優れた工程性を有する低損失絶縁材として有用である新規なノルボルネン系重合体、これを用いた絶縁材、印刷回路基板、及び機能性素子を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される繰り返し単位を少なくとも１種含む、ノルボルネン系重合体である。


（式中、Ｒ１〜Ｒ４の少なくとも一つは独立に置換または非置換のＣ４〜Ｃ３１の線状または分枝状のアラルキル基であり、残りのＲ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に水素あるいは置換または非置換のＣ１〜Ｃ３の線状または分枝状のアルキル基であり、ｎは２５０〜４００の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】露光マージンに優れるパターンを与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を含む樹脂と、酸発生剤とを含む化学増幅型ポジ型レジスト組成物。


（式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基を表す。Ｚは、単結合又は−［ＣＨ₂］_k−ＣＯ−Ｘ_４−基を表す。ｋは、１〜４の整数を表す。Ｘ_１、Ｘ_２、Ｘ_３及びＸ_４は、それぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。ｍは、１〜３の整数を表す。ｎは、０〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【化１】


放射線硬化性組成物及びインキジェットインキとの向上した適合性及びそれらの中での向上した溶解性を示し、且つ硬化後に光開始剤及びその残留物の抽出可能な量が少ない、基Ａ、Ｌ、Ｒ_１及びＲ_２が請求項１において規定される通りである式（Ｉ）に従う重合可能なノリッシュＩＩ型光開始剤ならびにそれを含有する放射線硬化性組成物及びインキジェットインキを開示する。
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【課題】高屈折率で、透明性、加工性、耐熱性、着色抵抗性などに優れる光学部品を提供する。
【解決手段】下記一般式で表される繰り返し単位を有する熱可塑性樹脂を含む光学部品。


［Ｒは水素原子、アルキル基、もしくはアリール基；Ｗは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−、−Ｓ−から選ばれる連結基；Ｌは−ＣＨ₂−、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、アリーレン基、もしくはこれらの組み合わせからなる連結基；Ａ¹は酸素原子、硫黄原子等；ｍ、ｎは０もしくは１を表す。］ （もっと読む）

【課題】外部取り出し量子効率が高く、発光寿命が長い有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置を提供する。
【解決手段】有機層の少なくとも一層が、下記一般式（１）で表される化合物の重合体を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
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【課題】広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを与える新しい化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物。Ｐ^１−Ｆ^１−（Ｂ^１−Ａ^１）_ｋ−Ｅ^１−Ｇ^１−Ｄ^１−Ａｒ−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｅ^２−（Ａ^２−Ｂ^２）_ｌ−Ｆ^２−Ｐ^２ （１）［式（１）中、Ａｒは芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する２価の基を表し、Ａｒ基中の芳香環に含まれるπ電子の数Ｎ_πは、１２以上である。Ｐ^１及びＰ^２は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性基（ただし、Ｐ^１及びＰ^２のうち少なくとも１つは、重合性基を表す）を表す。］ （もっと読む）

【課題】寿命が長く、高発光効率で、色純度の高い青色発光が得られる有機ＥＬ素子及びそれを実現するスチルベン誘導体の提供。
【解決手段】一般式（１）で表されるスチルベン誘導体。


［Ａｒ^１〜Ａｒ^５は置換若しくは無置換の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基、Ａｒ^６、Ａｒ^７は置換若しくは無置換のアルキル基、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基、Ｒ^１、Ｒ^２は水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基である。］ （もっと読む）

【課題】本発明は、設定した任意の量の重合性官能基を繰り返し単位中に有する重合体を提供することを目的とする。
【解決手段】芳香族環と共役した二重結合を有する共役アルケニル単量体より得られる重合体であって、繰り返し単位に芳香族環と共役した二重結合を有し、芳香族環と共役した二重結合の置換位置のオルト位、またはパラ位のいずれか少なくとも１つの位置に、酸素原子を介した有機基を有する共役アルケニル単量体より得られることを特徴とする重合体。 （もっと読む）

【課題】 従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度、露光余裕度、小さい疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、パターン形成方法、及び、このような高分子化合物を得るための新規重合性化合物を提供する。
【解決手段】 少なくともカルボキシル基の水素原子が下記一般式（２）で示される酸不安定基によって置換されている高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、パターン形成方法、及び、このような高分子化合物を得るための新規重合性化合物。
【化８４】
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【課題】硬化性、耐ブロッキング性、成形特性に優れ、成形加工前後での色変化が少ないインク組成物を提供すること。
【解決手段】重合性モノマー、ラジカル重合開始剤及び式（Ｃ−１）で示される増感剤を含有し、重合性モノマーの６５重量％以上が、単官能（メタ）アクリレート類、単官能ビニルオキシ化合物、単官能Ｎ−ビニル化合物及び単官能（メタ）アクリルアミド類よりなる群から選択されたモノマーであるインク組成物。式中、ＸはＯ、Ｓ又はＮＲを表し、Ｒは水素原子、アルキル基又はアシル基を表し、ｎは０又は１を表し、Ｒ¹〜Ｒ⁸は水素原子又は一価の置換基を表し、Ｒ¹〜Ｒ⁴のうち隣接する２つが互いに連結して環を形成してもよく、Ｒ⁵又はＲ⁶とＲ⁷又はＲ⁸とが連結して環を形成してもよい。
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本発明は、重合可能な光潜在性酸として有用である式（I）［式中、R₁、R₂及びR₃は、例えば水素、ハロゲン、CN、Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルキル、（CO）OR₈、（CO）R₄、又は（CO）NR₅R₆であり；Ｙは、O、S又はCOであり；Ｄ₂、Ｄ₃及びＤ₄は、例えば直接結合、O、S、NＲ₇、CO、O(CO)、（CO）O、S(CO)、(CO)S、NＲ₇(CO)、(CO)NＲ₇、SO、SO₂又はOSO₂、Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキレン、Ｃ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキレン、Ｃ₂〜Ｃ₁₂−アルケニレン、Ｃ₄〜Ｃ₃₀−シクロアルケニレン、Ar₁であり；Ar₁、Ar₂又はAr₃はフェニレンであり、R₄、R₅、R₆、R₇及びR₈は、例えば水素、Ｃ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルキル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂−アルケニル、Ｃ₄〜Ｃ₃₀−シクロアルケニル、フェニル−Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルであり、X^-は、式（IA）、（IB）又は（IC）であり、R₁₀は、例えばＣ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルキル、カンホリル、フェニル−Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキルであり；かつR₁₁、R₁₂、R₁₃、R₁₄及びR₁₅は、例えばＣ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルキルである］の化合物に関する。
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【課題】有機半導体デバイスの材料とするための、酸化されにくく、材料の劣化に問題がなく、また塗膜の均一性に問題のないアルキル基を有するペンタセン化合物を提供する。
【解決手段】下記に示すジイン構造化合物。
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【課題】レーザー彫刻に供した際の彫刻感度が高いレーザー彫刻用樹脂組成物を提供すること。また、彫刻感度が高く、レーザー彫刻により直接製版が可能な画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、及び該レリーフ印刷版原版を用いたレリーフ印刷版の製造方法、並びに該製造方法により得られたレリーフ印刷版を提供すること。
【解決手段】（Ａ）２つ以上のエチレン性不飽和結合を有し、そのうち２つのエチレン性不飽和結合間を連結する部位に炭素−硫黄結合を有する多官能重合性化合物、及び、（Ｂ）バインダーポリマーを少なくとも含有するレーザー彫刻用樹脂組成物、それを用いた画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版、並びにレリーフ印刷版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】位相差値の波長依存性をこれまでより一層抑制し、逆波長分散性を発現し得る新規な光学フィルム及び該フィルムを与え得る組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（１）で表される化合物と、式（２）で表される化合物とを含む組成物。
【化８３】


Ｐ₂-Ｅ₃-(Ｄ₅-Ａ₄)_f-Ｄ₃-Ｇ₁-Ｄ₁-Ａｒ-Ｄ₂-Ｇ₂-Ｄ₄-(Ａ₅-Ｄ₆)_g-Ｅ₄-Ｐ₃ （２）
（式中、ＥＷＧはニトロ基等、Ｒ’／Ｒ”はアルキル基等、Ａ_３は２価の環状炭化水素基等、Ｂ_１〜Ｂ_４は−Ｏ−等、Ｅ_１／Ｅ_３／Ｅ_４はアルキレン基等、Ｅ_２はアルキル基等、Ｐ_１〜Ｐ_３はアクリロイル基含有基等、Ａｒは２価の芳香族性を有する基、Ｄ_１〜Ｄ_６は、−ＣＯ−Ｏ−等、Ａ_４／Ａ_５は、２価の脂環式炭化水素基等、ｐ、ｑ、ｓ、ｔは０〜４の整数、ｈは１〜４の整数、ｆ及びｇは１〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】デジタル信号に基づいた走査露光による直接製版が可能であり、耐薬品性、耐アルカリ現像液性に優れ、且つ、露光により速やかに耐アルカリ現像液性が解除される現像ラチチュードが良好な赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版用原版を提供する。
【解決手段】Ｓｉ原子付着量が０．５〜８ｍｇ／ｍ^２である陽極酸化されたアルミニウム支持体上に、側鎖にスルホンアミド基を有する構造単位から選択される１種以上を有するアルカリ可溶性樹脂を含有する層と、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂及び赤外線吸収剤を含有し、露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大する層と、をこの順に設けてなる平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルム支持体上に少なくとも親水性層、光重合性の感光層をこの順に有するネガ型感光性平版印刷版に於いて、高いレーザー感度を有していながら、画質が良好であり、耐刷性の高い性能を持ったネガ型感光性平版印刷版を提供する。特に水現像または印刷機上現像が可能なネガ型感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルム支持体上に、少なくとも親水性層、光重合性の感光層をこの順に塗設してなるネガ型感光性平版印刷版であって、親水性層が少なくとも水溶性ポリマー及び無機微粒子を含有し、更に親水性層の膜面のｐＨ値が７．０以上にあるネガ型感光性平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】波長１９３ｎｍにおける屈折率が１．７２以上であり、かつ、パターンニング可能なレジスト膜を形成することが可能な感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）（但し、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２〜Ｒ^４は、水素原子、炭素数１〜６の直鎖状アルキル基等を示し、Ｒ^５〜Ｒ^１０は、水素原子、炭素数１〜６の直鎖状アルキル基等を示し、ｎ＝０、１、又は２である）で表される繰り返し単位を含む重合体（Ａ）と、感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有する感放射線性組成物である。
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【課題】現像時の膨潤が小さいフォトレジスト組成物を構成する高分子化合物および、その材料として有用である新規なアクリル酸エステル誘導体の提供。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒ^１およびＲ^２は直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基を表すか、または、Ｒ^１とＲ^２が一緒になって、直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基を表す。Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ水素原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、または直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基を表すか、または、Ｒ^３とＲ^４が、一緒になって、直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基、酸素原子、または硫黄原子を表す。Ｒ^５は水素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基を表す。Ｗは直鎖状、分岐状、または環状のアルキレン基を表す。ｎは０または１を表す。）で示されるアクリル酸エステル誘導体。 （もっと読む）

【課題】現像時の膨潤が小さいフォトレジスト組成物用高分子化合物、その材料として有用な重合性化合物およびその効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、ｎは０〜２を表す。Ｒ^１は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。Ｒ^２，Ｒ^３，Ｒ^４，Ｒ^５，Ｒ^６，Ｒ^７，Ｒ^８，Ｒ^９，Ｒ^１０は、炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｒ^２，Ｒ^３、Ｒ^３，Ｒ^４は連結して炭素数３〜６のアルキレン基を表してもよい。Ｗは、炭素数１〜１０のアルキレン基を表す。Ｙ^１とＹ^２は、それぞれ独立して、酸素原子または硫黄原子を表す。）で示される（メタ）アクリル酸エステル誘導体、及び該（メタ）アクリル酸エステル誘導体を少なくとも原料の１つとして重合することにより得られる高分子化合物。 （もっと読む）