【課題】ラフネスがより低減され、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】α位の炭素原子に水素原子以外の原子又は置換基が結合していてもよいアクリル酸エステルから誘導される、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）及び−ＳＯ_２−含有環式基を含む構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）と、一般式（ｃ１）で表される化合物（Ｃ１）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物。一般式（ｃ１）中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基；Ｙ^１は２価の脂肪族炭化水素基；Ｒ^１は水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化アルキル基である。ｐは１〜１０の整数、Ａ^＋は有機カチオンを表す。
［化１］
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【課題】良好な長期安定性の燃料電池を実現する高分子電解質膜が得られるフッ素系ポリマー、該フッ素系ポリマーが得られるフッ素系ポリマー前駆体、該フッ素系ポリマーの製造方法、該フッ素系ポリマーを用いた燃料電池部材および長期安定性に優れた固体高分子型燃料電池を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示される構造単位と下記式（２）又は下記式（３）で表される構造単位とを有することを特徴とするフッ素系ポリマー。




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【課題】電気特性を損なうことなく、耐久性が高く、かつ塗布成膜可能な新規な有機半導体材料となり得る重合性化合物、この重合性化合物及び重合開始剤を含有する重合性組成物、前記重合性化合物又は重合性組成物を重合して得られる高分子、この高分子を構成材料とする半導体装置を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で示される重合性化合物、この重合性化合物及び重合開始剤を含有する重合性組成物、前記重合性化合物又は重合性組成物を重合して得られる高分子、この高分子を構成材料とする半導体装置。


〔式中、Ｘ_１及びＸ_２はＯ等を、Ａ_１及びＡ_２は特定のの芳香族基を、Ｙ_１〜Ｙ_６は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−等を、Ｚ_１及びＺ_２は炭素数２〜１０のアルケニル基等を表す。〕 （もっと読む）

【課題】有機ＦＥＴなどの有機デバイスとしての用途に有用な有機ナノポーラス材料を作製し得るブロック共重合体を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるカルボン酸基含有重合体における任意の−ＣＯＯＨ基に、特定の水酸基含有オリゴチオフェン誘導体をエステル化反応させてなるブロック共重合体単独、又は該ブロック共重合体と、下記一般式（１）で表されるカルボン酸基含有重合体とを含み、ブロック共重合体におけるオリゴチオフェン含有エステル基と、ブロック共重合体及びカルボン酸基含有重合体の合計中における全カルボン酸との割合が１００：０〜３５超：６５未満（モル比）であることを特徴とする液晶性有機半導体ポリマー。
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【課題】 その硬化物が高屈折率であって、光学材料として利用可能な低粘度の新規（メタ）アクリル酸エステルとその樹脂組成物、及び硬化物を提供すること。
【解決手段】 本発明で提供される（メタ）アクリル酸エステルは、フルオレンに対しスピロ炭素で環状構造が結合したスピロ環化合物であり、フルオレンを含む平面とスピロ炭素に結合する環状構造内の原子を含む平面が異なる平面に存在することから結晶性を引き下げつつ高屈折率な重合性モノマーを供給できる。 （もっと読む）

【課題】ゴム成分と充填剤との親和性の向上を図りつつ、より高い低転がり抵抗性と耐摩耗性とを兼ね備えた空気入りタイヤを提供すること。
【解決手段】本発明の空気入りタイヤは、式（Ｉ）または式（ＩＩ）で表される複素環式ニトリル化合物である変性剤で変性されてなる、シス含量が４０％以上の共役系変性基を有するブタジエン系重合体を含むゴム成分と、窒素吸着比表面積が１００ｍ^２／ｇを超えるカーボンブラックとを含むゴム組成物を備えてなることを特徴とする。θ−Ｃ≡Ｎ・・・（Ｉ）、θ−Ｒ−Ｃ≡Ｎ・・・（ＩＩ） （もっと読む）

【課題】薄膜で基板上に反射防止膜を形成していない場合であっても、段差のある基板上であっても、良好なパターン形状を有し、パターン変動幅の小さいレジスト膜を形成可能であり、かつ、良好な感度を有し、焦点余裕度及び露光余裕度にも優れた新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、下記式（１）で表される構造単位を有する感放射線性樹脂組成物であり、感放射線性酸発生体を含有することが好ましい。
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【課題】高いΔｎを示す重合性液晶の提供。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合性化合物である。式中、Ｐ¹及びＰ²は、重合性基；ｍ１及びｍ２は、１〜１０の整数；Ａは、５〜１８員環の芳香族炭化水素環又は５〜１８員環の芳香族複素環を含む２価基；Ｌ³及びＬ⁴はそれぞれ、炭素原子数１〜１０のアルキル基、又は炭素原子数１〜１０のアルコキシ基；ｋ１及びｋ２はそれぞれ、０〜４の整数；Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴はそれぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ−、又は−ＳｉＲ⁰Ｒ⁰⁰−；ｎ１及びｎ２はそれぞれ、０又は１を表し、但し少なくとも一方は１であり、Ｌ^1a、Ｌ^1b、Ｌ^2a及びＬ^2bはそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、又は−ＯＣＮを表し、但し、ｎ１が１で且つＬ^1a及びＬ^1bの双方が水素原子であり、及びｎ２が１で且つＬ^2a及びＬ^2bの双方が水素原子の時、並びにｎ１が１で且つＬ^1a及びＬ^1bの双方が水素原子であり、及びｎ２が０の時に限り、Ｘ²及びＸ³の双方が−Ｏ−で表される化合物、並びにＸ²及びＸ³の一方が−Ｏ−であり且つ他方が−ＮＨ−又は−ＮＲ−で表される化合物を除く。
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【課題】広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを与える新しい化合物の提供。
【解決手段】式（１−１）又は式（１−２）で表される２価の基を含む化合物。［Ｚ１及びＺ２は、水素原子などを、Ｑ１及びＱ２は、−ＣＲ１Ｒ２−、−Ｓ−、−ＮＲ２−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を、Ｇ１及びＧ２は、２価の脂環式炭化水素基を表す。］
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【解決手段】（Ａ）高分子化合物又は高分子化合物の混合物による膜がアルカリ性現像液に不溶性であり、酸の作用により可溶性に変化する高分子化合物又は高分子化合物の混合物、
（Ｂ）酸発生剤、
（Ｃ）酸の作用を抑制するための塩基性化合物、
（Ｄ）溶剤
を含有し、
上記（Ｃ）成分は、塩基性活性点として２級又は３級アミン構造を持つ側鎖を有する繰り返し単位を持つ高分子化合物であると共に、上記（Ａ）成分である高分子化合物の一部又は全部である電子線用又はＥＵＶ用化学増幅ポジ型レジスト組成物。
【効果】本発明によれば、超微細パターンを要求されるレジストパターンの形成において、上記化学増幅ポジ型レジスト組成物を用いることで、塩基の存在を均一にでき、ラインエッジラフネスの改善、更には温度依存性の抑制ができ、高解像度が期待できる化学増幅ポジ型レジスト組成物を提供できる。 （もっと読む）

【課題】現像時の膨潤が小さい高分子化合物の原料として有用なアクリル酸誘導体、該アクリル酸誘導体を含有する原料を重合して得られる高分子化合物、該高分子化合物を含有するＬＷＲが改善されたフォトレジスト組成物、並びに前アクリル酸エステルの製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式で示されるアクリル酸エステル誘導体。
【化１】


（式中、Ｒ^１は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】得られるパターンの解像度及びラインエッジラフネスが良好なレジスト組成物、これを実現する化合物及び樹脂を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂ならびにこの樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を有していてもよいＣ₁〜Ｃ_６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す；Ａ^１は、単結合又は２価のＣ₁〜Ｃ₁₇飽和炭化水素基を表し、前記２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】高い屈折率を有しながら室温では液体であることにより、容易に光学部材を形成することのできる新規な（メタ）アクリレート化合物を提供。
【解決手段】フルオロベンゼンチオールに、発煙硫酸を加えジフルオロチアントレンを得る工程、ビス［（ヒドロキシアルキル）スルファニル］チアントレンを得る工程、及びビス［（ヒドロキシアルキル）スルファニル］チアントレンに（メタ）アクリル酸ハライドを反応させる工程を経て製造される、下記式（１）で示される（メタ）アクリレート化合物。
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【課題】高屈折率の光学部材を容易に形成できる室温で液体の硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）又は（２）で示される硫黄含有ラジカル重合性化合物を含有する光学部材。
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【課題】低い電圧で変形（変位）することが可能な刺激応答性化合物およびそれを用いたアクチュエータを提供すること、また、刺激応答性化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の刺激応答性化合物は、回転軸として機能する結合を有するユニットＡと、前記ユニットＡの第１の結合部位に配置された第１のユニットＢと、前記ユニットＡの第２の結合部位に配置された第２のユニットＢと、前記第１のユニットＢに結合した第１のユニットＣと、前記第２のユニットＢに結合した第２のユニットＣと有し、前記第１のユニットＢと前記第２のユニットＢとは、酸化還元反応によって結合するものであり、前記第１のユニットＣおよび第２のユニットＣは、液晶性を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを与える組成物を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物と、式（２０）で表される化合物等を含有する組成物。


Ｐ^１１−Ｅ^１１−（Ｂ^１１−Ａ^１１）_ｔ−Ｂ^１２−Ｇ（２０） （もっと読む）

【課題】変形率が高く、かつ、方向性のある変形が可能な刺激応答性化合物、刺激応答性化合物重合体およびそれを用いたアクチュエータを提供すること、また、刺激応答性化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の刺激応答性化合物は、ビチオフェンと、前記ビチオフェンのα位に結合した２つの１，３−ベンゾジチオーリル基と、前記ビチオフェンのβ位に結合した２つの液晶性を有する液晶性官能基とを有し、液晶性官能基は、重合性官能基を有していることを特徴とする。重合性官能基は、ビニル基またはアクリル基であるのが好ましい。液晶性官能基は、複数の環構造を有しているのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大し、且つ、露光により酸を発生する基材成分（Ａ’）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ’）が、一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）と、露光により酸を発生する構成単位（ａ０−２）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物［式中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基であり、Ｒ^２は２価の連結基であり、Ｒ^３は、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基である。］
。
［化１］
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【課題】優れた解像度及び露光マージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物用の樹脂を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位及び式（ＩＩ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂を含むフォトレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１及びＲ^３１は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいアルキル基；Ｘ^１は複素環基を表し、該複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、炭化水素基等で置換されていてもよい；Ｔは骨格に−ＳＯ_２−を含む複素環基を表し、該複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基等で置換されていてもよい；複素環基に含まれる−ＣＨ_２−は−ＣＯ−、−Ｏ−等で置き換わっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】優れた露光マージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物用の樹脂を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位及び式（ＩＩ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂を含む樹脂。
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