【課題】２種の複屈折部材が積層された構成、あるいは特定の光学特性を有する微粒子が添加された構成をとらずとも、例えば単層でありながら、少なくとも可視光領域において波長が短くなるほど複屈折が小さくなる波長分散性（逆波長分散性）を示す、可とう性に優れた新規な光学フィルムを提供する。
【解決手段】共役ジエン単量体を重合して構築される共役ジエン単量体構造単位を必須成分として有する弾性有機微粒子（Ｇ）と、複素芳香族基を有するα，β−不飽和単量体単位を構成単位として有する重合体とを含む樹脂（Ａ）からなる。前記樹脂（Ａ）は主鎖に環構造を有するアクリル重合体を含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを与える新しい化合物の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物。［Ｚ^１及びＺ^２は、置換基を表す。Ｑ^１及びＱ^２は、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^１ａ）−、−Ｓ−又は−Ｃ（Ｏ）−を表す。Ｙは、＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ^２ａ、＝ＰＲ^３ａ、＝ＣＲ^４ａＲ^５ａ又は＝ＳｉＲ^６ａＲ^７ａを表す。Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、単結合又は連結基を表す。Ｂ^１及びＢ^２は、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表す。Ｄ^１及びＤ^２は、単結合又は又は連結基を表す。］
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【課題】H−官能Ｈ−引き抜きクラスの光開始剤、特に重合体Ｈ−引き抜きクラスの光開始剤、より特定的にはゴム結合型Ｈ−引き抜きクラスの光開始剤の調製において有用である前駆物質化合物を提供する．
【解決手段】下記の構造で表わされるSiH−官能性アリールケトン。
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【課題】狭分散で、分子量が制御された多分岐ポリマーを提供する。
【解決手段】多分岐ポリマーは、式（ＩＩＩ）で表される構造を有する。式中、Ｃは炭素原子を表し、Ｘ^４及びＸ^５は、周期表第１４族〜１６族のいずれかの原子を含む連結基を表し、Ｙ^４は活性ハロゲン原子を有する官能基を表し、Ｒ^１４は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、ハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ６アルコキシル基を表し、ｎ^７、ｎ^８は、それぞれ独立して０又は１以上の整数を表す。ｍ^３は３又は４を表し、式：−（Ｘ^４）ｎ^７−Ｙ^４−Ｑ^４で表される基同士は、同一であっても相異なっていてもよい。Ｑ^４は、重合性不飽和結合により誘導される繰り返し単位を有するアーム部を表す。
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【課題】高感度であり、感光波長域が広く選択できることから種々のレーザーを含めた光源が利用できる感光性組成物、及び耐刷力に優れ加熱処理の必要のないネガ型印刷版を提供する。
【解決手段】（１）側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有する重合体（但し、側鎖に複素環を含む連結基を介してビニル基が置換したフェニル基を有する重合体は含まない）、分子内にビニル基が置換したフェニル基を２個以上有するモノマー、光ラジカル発生剤及び光ラジカル発生剤を増感させる増感剤を含有することを特徴とする感光性組成物。
（２）バインダー樹脂（但し、側鎖に複素環を含む連結基を介してビニル基が置換したフェニル基を有する重合体は含まない）、分子内にビニル基が置換したフェニル基を２個以上有するモノマー及び光ラジカル発生剤を含有することを特徴とする感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】変性時の反応速度を向上することができる変性剤および該変性剤を用いた変性共役ジエン系重合体の製造方法を提供する。また、該製造方法で製造した変性共役ジエン系重合体、該変性共役ジエン系重合体を配合したゴム組成物、および該ゴム組成物を用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】有機金属型の活性部位を分子中に有する共役ジエン系重合体の該活性部位に反応させる変性剤であって、窒素含有ヒドロカルビルオキシ基を有するケイ素化合物からなることを特徴とする変性剤である。また、該変性剤を用いた変性共役ジエン系重合体の製造方法、該製造方法を用いて製造した変性共役ジエン系重合体、該変性共役ジエン系重合体を配合したゴム組成物、および該ゴム組成物を用いた空気入りタイヤである。 （もっと読む）

本発明は式（Ｉ）の新規な化合物であって、その式中、Ｒ^１及びＲ^１’は互いに独立してＨ又は置換基、ハロゲン又はＳｉＲ^６Ｒ^４Ｒ^５であり；Ｒ^２及びＲ^２’は同一又は異なってよく且つＣ_１−Ｃ_２５アルキル、Ｃ_３−Ｃ_１２シクロアルキル、Ｃ_２−Ｃ_２５アルケニル、Ｃ_２−Ｃ_２５アルキニル、Ｃ_４−Ｃ_２５アリール、Ｃ_５−Ｃ_２５アルキルアリール又はＣ_５−Ｃ_２５アラルキルから選択され、そのそれぞれが非置換であるか又は置換されており、且つ請求項１に規定される条件下で、Ｒ２及び／又はＲ２’もハロゲン又は水素であってよく；Ｘは式（Ｉａ）及び式（Ｉｂ）から選択される二価の連結基であり；Ｙ及びＹ’は独立して式（Ｉｃ）、式（Ｉｄ）、式（Ｉｅ）、式（Ｉｆ）、式（Ｉｇ）から選択され；ｎ及びｐは独立して０〜６の範囲であり；その際、更なる記号は請求項１に規定される通りである前記化合物、並びに対応するオリゴマー及び（コ）ポリマーに関する。本発明による化合物は半導体として有用であり且つ有機溶媒への優れた溶解性及び優れた皮膜形成能を有する。更に、本発明によるポリマーが有機電界効果トランジスタ、有機光電素子（太陽電池）及びフォトダイオードにおいて使用される時、高効率のエネルギー変換、優れた電界効果移動度、良好なオン／オフ電流比及び／又は優れた安定性が確認され得る。
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本発明は、３またはそれ以上のアジュバントと共有的に結合するポリマー骨格を含むアジュバント‐ポリマー構築物を提供し、そこで３またはそれ以上のアジュバントが、ペンダント側鎖にそれぞれ存在し、当該アジュバントが、直接的またはスペーサー基を介してのいずれかでポリマー骨格と結合する。
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【課題】広い波長域において一様の偏光変換が可能なフィルムを与えることができる組成物を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物及びカイラル剤を含む組成物。


［式（１）中、Ａｒは芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する２価の基を表し、Ａｒ基中の芳香環に含まれるπ電子の数Ｎ_πは、１２以上である。Ｄ^１及びＤ^２は、２価の有機基を表す。Ｇ^１及びＧ^２は、２価の脂環式炭化水素基を表す。Ｅ^１、Ｅ^２、Ｂ^１及びＢ^２は、２価の有機基を表す。Ａ^１及びＡ^２は、２価の脂環式炭化水素基又は２価の芳香族炭化水素基を表す。ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。］ （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｘは−ＮＨ−又は−Ｓ−である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制できる。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、側鎖に、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基含有エステル基を有する構成単位（ａ０−１）を有し、質量平均分子量（Ｍｗ）が１００００以下の高分子化合物（Ａ１−１）と、高分子化合物（Ａ１−１）が有する構成単位と同一の構成単位（ａ０−１）を有し、Ｍｗが、高分子化合物（Ａ１−１）のＭｗの１．５倍以上である高分子化合物（Ａ１−２）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】屈折率が高くて熱安定性に優れた重合体を提供すること。
【解決手段】下記一般式で表される繰り返し単位を含む重合体。


（式中、Ｒ¹，Ｒ²はヘテロアリール基、Ｒ³は水素原子、アルキル基もしくはアリール基、Ｒ⁴，Ｒ⁵は二価連結基または単結合、Ｘ¹，Ｘ²，Ｘ³は酸素原子、硫黄原子もしくはＮ−Ｒ⁶、Ｒ⁶は水素原子またはアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】屈折性とアッベ数がともに高い成形体を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する含硫黄環状構造含有ポリマーを用いる。


（Ｒ¹〜Ｒ⁴は水素原子、アルキル基、あるいは酸素原子または硫黄原子を含有する置換基を表し、Ｒ¹〜Ｒ⁴のいずれかひとつが硫黄を環構成原子のひとつとする含硫黄環構造を含有する置換基であるか、Ｒ¹〜Ｒ⁴が互いに結合して硫黄を環構成原子のひとつとする含硫黄環構造を形成しているかの、いずれかである。ｍは０または１を表す。） （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含むアクリル酸エステル構成単位及び／又はメタクリル酸エステル構成単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）及び／又は酸解離性溶解抑制基を含むメタクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１’）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、高分子化合物（Ａ１）中の、該アクリル酸エステルから誘導される構成単位の割合が１５〜８０モル％であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】側鎖の末端に「−ＳＯ_２−を含む環式基」を含有する構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物（Ａ１）と、酸発生剤成分（Ｂ）と、フッ素原子を有していてもよい酸解離性溶解抑制基含有基を含み、かつ少なくとも１つのフッ素原子が含まれる構成単位（ｆ１）を有する含フッ素樹脂成分とを含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】低ＬＵＭＯであり、高い電荷輸送性を有し、しかも溶媒に対する高い溶解性を示す重合体を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する重合体。


［式中、Ａｒ^０は、置換基を有していてもよい芳香環又は置換基を有していてもよい複素環を示し、Ｘ^１及びＸ^２は、同一又は異なり、酸素原子又は硫黄原子を示す。］ （もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、（Ａ）成分は、側鎖の末端に「−ＳＯ_２−を含む環式基」を含む構成単位（ａ０）を有し、かつ、その構造中に酸解離性溶解抑制基を含む高分子化合物（Ａ１）を含有し、（Ｂ）成分は、一般式（ｂ１−１）［式中、Ｒ^０は置換基を有していてもよい炭素数１〜１２の炭化水素基である。ただし、−ＳＯ_３⁻における硫黄原子に隣接する炭素原子にはフッ素原子は結合していない。Ｚ^＋は有機カチオンである。］で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有するポジ型レジスト組成物。
［化１］
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【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、芳香族基を有する構成単位（ａ０）、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む（メタ）アクリル酸エステル構成単位（ａ５）及び酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】優れた感度で、ＬＷＲの小さい、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、該高分子化合物の構成単位の合成に利用できる化合物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含み、かつ前記構成単位（ａ０）における酸解離性溶解抑制基が、下記一般式（ａ０−０−１）で表される基を含む。［式（ａ０−０−１）中、Ｒ^１’及びＲ^２’はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｙ^１は単結合又は二価の連結基であり、Ｒ^３はその環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基である。］
［化１］
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【課題】 工業的に安価で簡便な新規なトリチオカーボネート化合物の製法を提供すること。
【解決方法】 一般式（１）で表されるトリチオカーボネート化合物とする。式（１）中、Ｒが、置換基を有していてもよく、その炭素鎖中にヘテロ原子又は環構造を含有していてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。ジチオールを塩基性条件下で二硫化炭素と反応させたのち、アリルハイラドと反応させることにより、一般式（１）で表されるトリチオカーボネート化合物を製造することができる。
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