【課題】高い屈折率を有し、レンズ等の光学部材用の樹脂を形成しうる単量体として用いることができる化合物を提供する。
【解決手段】下記式（２）で示される構造を有するスピロ骨格、及び、（メタ）アクリロイル基を有する硫黄含有化合物。その好ましい例は、下記の一般式（１）で示される。




（式中、Ｒは水素原子又はメチル基であり、ｋ、ｌ、ｍ、ｎは各々独立に０〜２の整数であり、ｋ＋ｌ＝１又は２、ｍ＋ｎ＝１又は２であり、ｐ、ｑは各々独立に０〜２の整数である。） （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基のＨが下記一般式（１）の酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、ヒドロキシ基、ラクトン環、エーテル基、エステル基、カルボニル基、シアノ基、環状の−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、環状の−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、カーボネート基から選ばれる密着性基を有する繰り返し単位とを共重合してなる樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


【効果】ポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高解像性で、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好な上、酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 （もっと読む）

【課題】優れた露光マージン及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する繰り返し単位及び式（ＩＩ）で表される化合物に由来する繰り返し単位を有する樹脂を含むフォトレジスト組成物。［Ｒ^１及びＲ^３１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいＣ_１−６アルキル基を表す。Ｚ^１は、単結合又は＊−［ＣＨ₂］_ｓ３−ＣＯ−Ｌ^４−基を表す。Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３及びＬ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｔは、骨格に−ＳＯ_２−を含む複素環基を表す。］
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【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、露光により酸を発生する含フッ素高分子化合物（Ｃ’）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する樹脂成分であり、含フッ素高分子化合物（Ｃ’）が、露光により酸を発生する構成単位と、含フッ素アクリル酸エステル構成単位とを有する。 （もっと読む）

【課題】優れた露光マージン及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表される化合物に由来する繰り返し単位を有する樹脂を含むフォトレジスト組成物。［Ｒ^１及びＲ^３１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいＣ_１−６アルキル基を表す。Ｚ^１は、単結合又は＊−［ＣＨ₂］_ｓ３−ＣＯ−Ｌ^４−基を表す。Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３及びＬ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｚ²は、２価のＣ_１−１７飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｎ（Ｒ^３２）−で置き換わっていてもよい。Ｔは、骨格に−ＳＯ_２−を含む複素環基を表す。］
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【課題】パターン上の現像欠陥を低減できる化学増幅型レジスト組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が変化する樹脂、（Ｃ）塩基性化合物、（Ｄ）界面活性剤、（Ｅ）溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物の製造方法において、（Ａ）成分の溶液と（Ｂ）成分の溶液を準備し、（Ｂ）成分の溶液をフィルターでろ過する工程、（Ａ）成分の溶液と（Ｂ）成分の溶液を混合する工程を含むことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物の製造方法及びその方法により得られた化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、ｐＨが９未満の中性現像液もしくはｐＨが９〜１２の範囲にあるアルカリ水溶液で現像処理が可能な、優れた現像性と高耐刷性を両立した感光性平版印刷版材料を与えること。
【解決手段】バインダーポリマー、光重合開始剤およびこれを増感する化合物と、下記一般式Ｉで示される分子内に、重合性二重結合基が結合した１，３，４−チアジアゾール基を２個以上有する多官能性モノマーを含んでなる感光層を有する感光性平版印刷版材料を用いる。
【化１】
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【課題】 本発明は、ゴム組成物に関し、フィラーの分散性、省エネルギー性、耐摩耗性および製造コストをバランス良く両立することができるゴム組成物およびその原料として好適な変性ジエン系ゴムに関する。
【解決手段】 本発明は、ジエン系ゴムをエポキシ化し、さらに有機硫黄化合物でエピスルフィド化した変性ジエン系ゴムおよび該含ケイ素変性ジエン系ゴムとその他のジエン系ゴムおよびシリカ又は／及びカーボンブラックを含んでなることを特徴とするゴム組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】氷上性能及びドライ操縦安定性を両立したタイヤ用ゴム組成物、及びそれを用いたスタッドレスタイヤを提供する。
【解決手段】ゴム成分及びシリカを含有し、上記ゴム成分が、共役ジエン化合物、又は共役ジエン化合物及び芳香族ビニル化合物と、特定の一般式で表される第一化合物とを共重合して得られる共重合体、並びに、エポキシ化ジエン系ゴムを含み、上記エポキシ化ジエン系ゴムのエポキシ化率が０．５〜５０モル％であるタイヤ用ゴム組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザー露光によって露光後経時安定性のよい発色画像が得られる発色感光性組成物及び平版印刷版原版を提供する。また、赤外線レーザー露光によって露光後経時安定性のよい発色画像が得られるシアニン色素を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子内にアクリロイル基、メタクリロイル基、及びビニル基から選ばれる重合性基を少なくとも２つ有するシアニン色素、（Ｂ）ラジカル発生剤、及び（Ｃ）エチレン性不飽和基を有するモノマーを含有することを特徴とする発色感光性組成物、及び該組成物を含む画像記録層を有する平版印刷版原版、並びに特定構造のシアニン色素。 （もっと読む）

【課題】ゴム成分とカーボンブラック及び／又はシリカとの相互作用に特に優れ、これら充填材の分散性をより改善することができ、低発熱性や耐摩耗性などに優れたタイヤを与えることができるゴム組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）求核反応性を有する有機金属活性末端をもつ共役ジエン系重合体の該活性末端に、変性剤として、特定の構造を有するシラン化合物及び／又はその部分縮合物を反応させてなる変性共役ジエン系重合体１０質量％以上を含むゴム成分と、その１００質量部に対し、（Ｂ）シリカ及び／又はカーボンブラックを合計量で２０〜１２０質量部含むと共に、（Ｃ）一般式（２）
Ｑ−Ａ−Ｂ ・・・（２）
（式中、Ｑは双極性の窒素原子含有部分、Ｂはオキサゾリン部分、チアゾリン部分、アルコキシシラン部分又はアリルスズ部分を示し、ＡはＱとＢとの間に橋かけを形成する連結原子又は基を示す。）
で表される化合物を含むゴム組成物である。 （もっと読む）

【課題】光重合性が高く、光照射により高重合率に達する架橋システムを実現する多官能性モノマーを与えることを目的とし、さらに耐薬品性に優れ、重合時の体積収縮が低減された架橋皮膜を与える多官能性モノマーとこれを用いた光硬化性組成物を得ること。
【解決手段】分子内に、重合性二重結合基が結合した１，３，４−チアジアゾール基を２個以上有する一般式Ｉで示される多官能性モノマーを使用する。
【化１】
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【課題】ベーストレッドに、変性共役ジエン系重合体とカーボンブラックとを含むゴム組成物を用いてなるタイヤであって、耐亀裂成長性と低発熱性の両方を向上させたタイヤを提供する。
【解決手段】（Ａ）シス−１，４−結合量が７５％以上であり、且つ窒素原子を含む変性基を有する変性共役ジエン系重合体１０質量％以上を含むゴム成分と、その１００質量部に対して、（Ｂ）カーボンブラック１０〜６０質量部を含有するゴム組成物を、ベーストレッドに用いたことを特徴とするタイヤである。 （もっと読む）

【課題】広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを与える新しい化合物の提供。
【解決手段】式（１）で表される２価の基を含む化合物。［Ｑ^１〜Ｑ^４は、−ＣＲ^１＝又は−Ｎ＝を表す。Ｔ^１は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−又は−ＮＲ^２−を表す。Ｙ^１は、単環系芳香族炭化水素基、単環系芳香族複素環等を表す。Ｄ^１及びＤ^２は、単結合又は２価の連結基を表す。Ｇ^１及びＧ^２は、２価の脂環式炭化水素基を表す。該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基等で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換わっていてもよい。］
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【課題】１，３，４−チアジアゾール基を有する新規なモノマーおよびこれを重合することで得られる新規なポリマーを与えることを目的とし、水、アルコール等の極性溶媒に可溶性であり、コーティング材料として基体との間で高い接着性を示す水酸基を有する重合体とこれを得るためのモノマーを与える。
【解決手段】下記一般式Ｉで示されるチアジアゾール誘導体およびこれを重合して得られるポリマー。
【化１】
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【課題】良好な解像度を示すリソグラフィ用レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ−Ａ）で表される塩。


［Ｑ^１及びＱ^２は、Ｆ又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は、置換基を有していてもよい飽和炭化水素基、；Ｙ^１’は、置換基を有していてもよい脂肪族、脂環式、芳香族炭化水素基、でＹ^１’は、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基を含まない；Ｒ^a1〜Ｒ^a13は、Ｈ、ハロゲン原子又は置換基、あるいは環を形成していてもよく、Ｒ^a1〜Ｒ^a13のうち１以上の基が、ビニル基、アクリロイル基等を表す；Ｚは単結合または２価の連結基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）及びマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の樹脂用モノマーを提供する。
【解決手段】式（ａ）で表される化合物。［Ｘ^ａ及びＸ^ｂは硫黄原子を表す。Ｒ^ａ１、Ｒ^ｂ１、Ｒ^ｃ１及びＲ^ｄ１は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を表す。ｍは１又は２の整数を表す。Ｗは炭素数３〜３６の脂肪族環を表す。Ｘ^ｘは単結合又は炭素数１〜１７の２価の飽和炭化水素基を表す。Ｒ^ｘは水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。］
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【課題】優れたパターンの解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる化合物及びそれを用いたレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ−Ｐｂ）で表される化合物。


［式中、Ｘ^Ｐｂは、単結合又は−Ｏ−；Ｒ^Ｐｂは、単結合、２価の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基、該脂肪族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子またはカルボニル基で置換されていてもよい；Ｙ^Ｐｂは重合性基；Ｚ^Ｐｂは有機基；Ｘ^Ｐｃは、単結合又はアルキレン基；Ｒ^Ｐｃは、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子またはカルボニル基で置換されていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】高解像性、高感度、良好なラインエッジラフネスが得られる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により、側鎖に酸を生じる繰り返し単位（Ａ）、及び、アルカリ可溶性基を有する繰り返し単位（Ｃ）、を有する樹脂（Ｐ）であって、該樹脂（Ｐ）が、ヘテロ原子を含んでもよい複数の芳香環構造を有し、該複数の芳香環構造が縮環、又は互いに単結合で連結されている構造部位（Ｘ）を有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】露光により発生した酸の拡散制御性に優れた樹脂組成物層を形成でき、露光量が少ない場合であっても基板上に多種類の高分子を高密度、かつ安定して正確に形成できるバイオチップの製造に適した樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合体と、（Ｂ）光の作用によりスルホニルアニオンが発生する感放射線性酸発生剤であって、該スルホニルアニオンが光学純度１０％ｅｅ以上のビシクロ化合物である感放射線性酸発生剤とを含有するバイオチップ製造用樹脂組成物。 （もっと読む）