【課題】波長１９３ｎｍにおける屈折率が１．７２以上であり、かつ、パターンニング可能なレジスト膜を形成することが可能な感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）（但し、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２〜Ｒ^４は、水素原子、炭素数１〜６の直鎖状アルキル基等を示し、Ｒ^５〜Ｒ^１０は、水素原子、炭素数１〜６の直鎖状アルキル基等を示し、ｎ＝０、１、又は２である）で表される繰り返し単位を含む重合体（Ａ）と、感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有する感放射線性組成物である。
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【課題】現像時の膨潤が小さいフォトレジスト組成物を構成する高分子化合物および、その材料として有用である新規なアクリル酸エステル誘導体の提供。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒ^１およびＲ^２は直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基を表すか、または、Ｒ^１とＲ^２が一緒になって、直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基を表す。Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ水素原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、または直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基を表すか、または、Ｒ^３とＲ^４が、一緒になって、直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基、酸素原子、または硫黄原子を表す。Ｒ^５は水素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基を表す。Ｗは直鎖状、分岐状、または環状のアルキレン基を表す。ｎは０または１を表す。）で示されるアクリル酸エステル誘導体。 （もっと読む）

【課題】短波長光による記録において記録容量が大きく、かつ感度が高いデジタルボリュームホログラフィに好適な光記録用化合物の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉ−１）で表される光記録用化合物。


一般式（Ｉ−１）中、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｘ¹¹は、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲ¹¹¹−または−ＣＲ¹¹²Ｒ¹¹³−を表し、Ｒ¹¹¹、Ｒ¹¹²およびＲ¹¹³は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、Ｚ¹は置換基を表し、ｎ１は０〜４の範囲の整数を表す。Ｙ¹は、一般式（Ｉ−１）で表される化合物の電荷を中和するイオン性種を表す。Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｘ¹¹およびＺ¹の少なくとも１つは重合性基を含む。 （もっと読む）

【課題】広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを与える新しい化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物。Ｐ_１−Ｅ_１−（Ｂ_１−Ａ_１）_ｋ−Ｄ_１−Ａｒ−Ｄ_２−（Ａ_２−Ｂ_２）_ｌ−Ｅ_２−Ｐ_２ （１）。［Ａｒは芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する２価の基を表し、Ａｒ基中の芳香環に含まれるπ電子の数Ｎ_πは、１２以上である。Ｐ^１及びＰ^２は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性基（ただし、Ｐ^１及びＰ^２のうち少なくとも１つは、重合性基を表す）を表す。］ （もっと読む）

【課題】レジストに必要な透明性や酸反応性を損なうことなく、装置汚染の原因となる溶出や脱ガスの恐れが少ない酸発生側鎖としてのスルホニウム塩含有側鎖を含有する樹脂、及び該樹脂の構成成分としてのモノマーの提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表されることを特徴とするモノマー。
【化１６】


・・・一般式（１）
前記一般式（１）において、Ｒ_１及びＲ_３は、−Ｈ基及び−ＣＨ_３基のいずれかであり、各々同一でも異なっていても良い。前記一般式（１）において、Ｒ_２は、フェニル基及びアダマンチル基のいずれかを示す。前記一般式（１）において、Ｑ_１は、炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】高効率かつ長寿命の有機発光素子を提供する。
【解決手段】陽極２と陰極６と、陽極２と陰極６との間に挟持され少なくとも第一の有機化合物層（正孔注入層３）と、第二の有機化合物層（正孔輸送層４）と、第三の有機化合物層（発光層５）とがこの順に含まれる積層体と、から構成され、
第１の有機化合物層（正孔注入層３）にアリールアミンポリマーが含まれ、第２の有機化合物層（正孔輸送層４）にアリールアミン骨格を有する（メタ）アクリル酸エステルポリマーが含まれることを特徴とする、有機発光素子１０。 （もっと読む）

【課題】イオン性導電材料等として有用な化合物を提供する。
【解決手段】アニオン部分が、基(A)及び(B)：


（式中、Y₁、Y₂、Y₃、Y₄及びY₅は、カルボニル基等を表し；Zは、電気親和性基を表し；置換基R_A、R_B、R_C及びR_Dの各々は、一価若しくは二価の有機基であるか、またはポリマー鎖の一部であり、置換基R_C及びR_Dの少なくとも一方は、過フッ素化基である）の１個から構成される複素環式芳香族アニオン塩。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦやＫｒＦなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特に改善されたラインエッジラフネスと微細パターンまで倒れないポジ型レジスト組成物及び該組成物に用いる新規なスルホニウム塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉｂ）で示される構造単位を有する重合体化合物。
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【課題】新規な含硫黄化合物、それを用いた高い屈折率と高いアッベ数とを有することのできる硬化物を与える放射線硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示される新規な含硫黄化合物と、エチレン性不飽和基を有する化合物を反応させることにより得られる含硫黄エチレン性不飽和基含有化合物；その重合体。
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本発明は，共重合体の全質量に対して２０〜９５質量％の少なくとも一つの親水性モノマーに由来する構造単位と，共重合体の全質量に対して５〜８０質量％の一般式Ｉ
【化１】



（式中のＲ¹，Ｒ²及びＲ³は互いに独立して水素又はアルキル−を表わし，ＹはＯ又は水素又はアルキル−から選択したＲ⁴を有するＮＲ⁴を表わし，ＸはＯ，Ｓ，ＳＯ又はＳＯ₂を表わし，ＳはＣＨＲ⁵又は（ＣＨＲ⁵ＣＨＲ⁵Ｏ)_iＣＨ₂から選択した構造単位を表わし，ここで，全てのＲ⁵は互いに独立して水素又はアルキル−，ｎ及びｉは互いに独立して１〜１０の整数，ｍは２〜６の整数を表わす）の少なくとも一つのモノマーに由来する構造単位とを含み，前記共重合体が，共重合体の全質量に対して１〜５９質量％の水含有量を有する共重合体に関する。さらに，本発明は，眼科用組成物に関する。
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【解決すべき課題】アリールボレート化合物と酸性化合物との組み合わせを用いる歯科用化学重合触媒において、重合活性のみならず、保存安定性にも優れた化学重合触媒を提供する。
【解決手段】（Ａ）アリールボレート化合物；（Ｂ）酸性化合物；（Ｃ）＋IV価または＋Ｖ価のバナジウム化合物；（Ｄ）下記一般式（１）：
【化２２】


式中、Ｘ^１，Ｘ^２及びＸ^３は、それぞれ、水素原子、または、水酸基、アル
コキシ基及びアルキル基からなる群より選択された置換基である、
で表されるフェノール系化合物；からなることを特徴とする。 （もっと読む）

有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）装置は、平面パネル表示（ＦＰＤ）適用について、液晶表示（ＬＣＤ）の最も有望な代替物の１つである。ＯＬＥＤ技術は、ホールもしくは電子の輸送材料としてまたはエミッタとしてのいずれかで使用される有機半導体に基づく。ＯＬＥＤ調製物における性能および寿命の共通の問題に対する研究により、改善された電荷輸送分子、ならびにトリアリールアミン‐およびポリ（パラ‐フェニレン）‐のような、ポリマーが開発された。このような有用な材料としては：（１）増強されたガラス転移温度を保有する環状トリアリールアミン‐誘導体；（２）低分子量のホール‐輸送分子および溶液からの取り出しおよびその後の架橋をプロセスするためのペンダントオキセタン基を伴うホール‐輸送ポリマーに基づくトリアリールアミン；ならびに（３）規定される電子化学特性を伴うフルオレニル基で区分されるポリ（パラ‐フェニレン）が挙げられる。ＯＬＥＤおよび他の有機電子装置におけるホール輸送ポリマーとして有用であるポリマー前駆体が提供される。 （もっと読む）

【課題】光学フィルム用途として十分な紫外部の吸収特性を有し、加熱加工時に着色が少なく、更にセルロースエステル系樹脂との混錬性に優れた紫外線吸収性光学フィルムを提供する。
【解決手段】分子内に含窒素部分構造を持つエチレン性不飽和モノマーからの特定の紫外線吸収性ポリマーと窒素を含有する特定の紫外線吸収剤を含有する光学フィルム。紫外線吸収剤は塩化メチレン溶媒中で２９０〜４００ｎｍの波長領域の分光吸収を測定した時に、前記の紫外線吸収性ポリマーよりも最大吸収波長が５ｎｍ以上短い紫外線吸収剤。 （もっと読む）

【課題】増感色素として有用な、新規な重合性化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物。一般式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を表す。Ｘ^１は、エチレン性二重結合を少なくとも１つ有する一価の置換基を表す。ｎは０または1を表す。
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【課題】反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベンゼン環上に、−ＣＨ_２−Ｙ−Ｚ¹で表される基（Ｙは、単結合または２価の連結基である。Ｚ¹は、任意の置換基を表す）を有する繰り返し単位と、特定の酸分解性繰り返し単位とを含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】微細パターンの形成において、解像力に優れ、かつサーマルフロープロセスにおいてパターンの制御性に優れるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｃ）熱により分解し、分子量が低下する樹脂、を含有するポジ型感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】硬化性組成物として用いる場合に、単独での重合もしくは他の重合性化合物（アクリレート、メタアクリレート、スチレン等）との共重合において高い重合性を有するヘテロ環含有重合性化合物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）(a)分子内に少なくとも一つのヘテロ環と少なくとも一つのビニル基を有する化合物と、(b)分子内に少なくとも一つの水酸基を有するアクリレート化合物またはアクリルアミド化合物とを反応させて得られるヘテロ環含有重合性化合物と、（Ｂ)重合開始剤を含有することを特徴とする硬化性組成物により上記目的が達成される。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される構造を有し２４８ｎｍの波長に吸収を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベンゼン環上に、−ＣＨ_２−Ｙ−Ｚ¹で表される基（Ｙは、単結合または２価の連結基である。Ｚ¹は、非酸分解性基を表す）を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】
屈折率１．６０付近で低比重、高強度、高耐熱性の良好な物性を兼ね備えている材料を提供する。
【解決手段】
（ａ）アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、およびビニル基からなる群より選択されるいずれかの基と、β−エピチオプロピル基とをそれぞれ１分子中に１個以上有する化合物と、（ｂ）スチレン骨格を有する化合物とからなる光学材料用組成物、さらに（ｃ）チオール基を１分子中に１個以上有する化合物を含む光学材料用組成物、および該光学材料用組成物を重合硬化させてなる光学材料、そして該光学材料からなる光学レンズおよび光学材料の製造方法により上記課題を解決し、本発明に至った。 （もっと読む）