【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）で、レジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂と、式（Ｂ１）で表される酸発生剤と、溶剤とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^２は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基等；Ｒ^３は、式（ｂ）で表されるスルホラン環基；Ｒは、ヒドロキシ基、アルコキシ基又は脂肪族炭化水素基；＊は、Ｒ^２との結合手を表す。］ （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能、及び、コーナー・プロキシミティ（Ｃｏｎｅｒ ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）性能に優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）カチオン部に窒素原子を含み、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩化合物、及び、（Ｄ）溶剤
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。



一般式（Ａ１）において、Ｒ_３は酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｒ_４は水素原子又は−ＣＯ_２Ｒ_５で表される基を表す。Ｒ_５は、ヘテロ原子を含んでもよい、１価の炭化水素基を表す。Ｒ_６は、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又はシアノ基を表す。 （もっと読む）

【課題】パターン形成性、ＭＥＥＦ性能及びエッチング耐性に優れる感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、重合体及び化合物を提供すること。
【解決手段】式（１）を有する重合体及び酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】高い耐熱性を有する硬化物を与える耐収縮性の硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される２，２’−位が２価の置換基又は原子で連結された１，１−’ビナフチル骨格に、重合性の置換基が導入された重合性化合物と、当該重合性の置換基を重合反応させることのできる重合開始剤と、を含む耐硬化収縮性の硬化性組成物を使用する。


上記一般式（Ｉ）中、（Ｒ）ｍ又は（Ｒ）ｎは、それぞれｍ個又はｎ個の同一又は異なる置換基を意味し、当該置換基は、それらが結合するナフタレン環における置換可能な炭素原子のいずれに結合してもよく、Ｘは、二価の置換基又は原子である。 （もっと読む）

【課題】低発熱性に優れ、貯蔵弾性率（Ｇ’）の高いゴム組成物および転がり抵抗が小さい低発熱性、耐摩耗性に優れたタイヤ。
【解決手段】天然ゴム及び合成ジエン系ゴムの少なくとも１方のゴムからなるゴム成分（Ａ）１００質量部に対して、１千〜３０万の重量平均分子量（ゲル透過クロマトグラフィーによるポリスチレン換算）を有する低分子量芳香族ビニル化合物−ジエン化合物共重合体（Ｂ）を５〜１２０質量部を含んでなり、前記共重合体（Ｂ）が０〜８０質量％の芳香族ビニル化合物からなり、ジエン化合物の部分のビニル結合量が０〜８０質量％であって、その末端に架橋性官能基を少なくとも１つ有する共重合体であるゴム組成物。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｘ、ＹはＣＨ又は窒素原子、ｍは１又は２、Ｒ¹は水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｎは０又は１である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、酸の拡散を抑える効果が高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好である。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはＥＢ描画によるフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＢ温度が低温であっても、感度等に優れ、ＬＷＲ、ＤＯＦ等のリソグラフィー性能が高度にバランスし、エッチング耐性をも十分に満足する化学増幅型レジスト用の感放射線性樹脂組成物、そのパターン形成方法、その重合体、及び化合物を提供する。
【解決手段】［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】優れたフォーカスマージンで、レジストパターンを製造できるレジスト組成物及び該レジスト組成物に有用な樹脂などを提供する。
【解決手段】以下の〔１〕及び〔２〕の提供。〔１〕式（ａａ）で表される構造単位を有する樹脂及び当該構造単位を誘導する化合物。


［式（ａａ）中、Ｔ^１は、置換基を有していてもよい炭素数４〜３４のスルトン環基。Ｒ^aは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基。Ｚ^１は、＊−Ｘ^１−ＣＯ−（但し、Ｘ^１は、炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基）で表される基などを表す。］〔２〕前記樹脂と、酸発生剤と、溶剤とを含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】電極間の電気的な接続に用いられた場合に、導通信頼性を高めることができる異方性導電材料及びＢステージ状硬化物、並びに該異方性導電材料又はＢステージ状硬化物を用いた接続構造体を提供する。
【解決手段】異方性導電材料及びＢステージ状硬化物を構成する異方性導電材料はそれぞれ、少なくとも３種の硬化性化合物と、導電性粒子とを含有する。上記硬化性化合物は、エポキシ基又はチイラン基と（メタ）アクリロイル基とを有する光及び熱硬化性化合物と、エポキシ基又はチイラン基を有し、かつ（メタ）アクリロイル基を有さない熱硬化性化合物と、エポキシ基及びチイラン基を有さず、かつ（メタ）アクリロイル基を有する光硬化性化合物とを含む。上記光及び熱硬化性化合物の重量平均分子量は１０万未満である。異方性導電材料の硬化を進行させたＢステージ状硬化物は、海島構造を有する。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂及び式（Ｂ１）で表される塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ａ^１は、単結合、脂肪族炭化水素基等；Ａ^２は炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基；環Ｗ^１は炭素数４〜３６の脂肪族環；環Ｗ^２は、炭素数４〜１８のラクトン環；Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｌ^b1は、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基；Ｙは置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基；Ｚ⁺は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】カチオンを有するカチオン性繰り返し単位（Ａ）、
前記カチオンとイオン対を形成するアニオンを有し、かつ活性光線又は放射線の照射により前記カチオンから解離して酸を発生するアニオン性繰り返し単位（Ｂ）、及び
酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位（Ｃ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高屈折性、高アッベ数、高耐熱性、高光線透過率、低吸水性を有する樹脂材料を提供すること。
【解決手段】脂肪族多環構造を有する繰り返し単位を含むポリマーであって、前記繰り返し単位内において主鎖を構成する原子から酸素１原子または硫黄１原子を介して前記脂肪族多環構造が結合しており、かつ、前記繰り返し単位がスルホニル基を環骨格の構成基として含む脂肪族環を有していることを特徴とするポリマー。 （もっと読む）

【課題】低い電圧で変形（変位）することが可能な刺激応答性化合物およびそれを用いたアクチュエータを提供すること、また、刺激応答性化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の刺激応答性化合物は、一対のアルキル鎖と一対のアルキル鎖の間を架橋する架橋部と一対のアルキル鎖の少なくとも一方に結合した液晶性官能基とを有し、架橋部は回転軸として機能する結合を有し、かつ、該結合の一端に位置する第１の基と結合の他端に位置する第２の基とを有するユニットＡと、第１の基の第１の結合部位に配置された第１のユニットＢと、第２の基の第１の結合部位に配置された第２のユニットＢとを有し、架橋部は第１の基の第２の結合部位において一方のアルキル鎖と結合し、第２の基の第２の結合部位において他方のアルキル鎖と結合しており、第１のユニットＢと第２のユニットＢとが酸化還元反応によって結合することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高屈折性、高アッベ数、高耐熱性、高光線透過率、低吸水性を有する樹脂材料を提供すること。
【解決手段】脂肪族多環構造を有する繰り返し単位を含むポリマーであって、前記脂肪族多環構造の環骨格を構成する２以上の原子が前記ポリマーの主鎖を構成しており、かつ、前記繰り返し単位がスルホニル基を環骨格の構成基として含む脂肪族環を有していることを特徴とするポリマー。 （もっと読む）

【課題】高発光効率の有機ＥＬ素子を製造する新規重合体とそのモノマーを提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される芳香族化合物。式中、Ｘは、Ａｒ^１，Ｚ及びＡｒ^２の任意の位置に置換する。ｎは２以上の整数である。
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【課題】変形率が高く、かつ、方向性のある変形が可能な刺激応答性化合物およびそれを用いたアクチュエータを提供すること。
【解決手段】本発明の刺激応答性化合物は、回転軸として機能する結合を有するユニットＡと、ユニットＡの第１の結合部位に配置された第１のユニットＢと、ユニットＡの第２の結合部位に配置された第２のユニットＢと、第１のユニットＢに第１の連結基を介して結合した液晶性を有する第１のユニットＣと、第２のユニットＢに第２の連結基を介して結合した液晶性を有する第２のユニットＣとを有し、第１のユニットＢと第２のユニットＢとは、酸化還元反応によって結合するものであり、第１のユニットＣおよび第２のユニットＣは、複数のベンゼン環を備え、複数のベンゼン環の少なくとも１つのベンゼン環は、互いにメタ位となる位置に結合した、ベンゼン環を含む官能基を有していることを特徴とする （もっと読む）

【課題】優れた解像度のパターンを形成することが可能なレジスト組成物の樹脂用の化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ａ^１は、単結合又は＊−（ＣＨ_２）_ｍ−ＣＯ−Ｏ−を表し、＊は−Ｏ−との結合手を表し、ｍは１〜４の整数を表す。Ｂ^１は、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｂ^２は、−ＣＨ_２−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。環Ｗ^１は、置換基を有していてもよい芳香環を表す。］
（もっと読む）

【課題】高湿高温の条件で保管した場合の耐性（耐湿熱性）に優れた光学フィルム、及び、該光学フィルムの作製に好適な組成物を提供する。
【解決手段】本発明の組成物は、式（Ａ）で表される化合物、酸化防止剤及び光重合開始剤を含むことを特徴とする。


［式（Ａ）中、Ｘ¹は、−Ｓ−等を表す。Ｙ¹は、芳香族炭化水素基等を表す。Ｑ¹及びＱ²は、水素原子等を表す。Ｄ¹及びＤ²は、−ＣＯ−Ｏ−等を表す。Ｇ¹及びＧ²は、脂環式炭化水素基等を表す。Ｌ¹及びＬ²は、１価の有機基等を表す。］ （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を含む化合物（Ａ）と、−ＳＯ_２−を含む環式基を有し、かつ酸解離性溶解抑制基を有さない化合物（Ｈ）とを含有し、化合物（Ａ）及び化合物（Ｈ）以外に酸発生剤成分を含有しないポジ型レジスト組成物；化合物（Ｈ）は、一般式（３−１）で表される基を含有する化合物であることが好ましい［式中、Ａ’は酸素原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよい炭素数１〜５のアルキレン基、酸素原子または硫黄原子であり、ａは０〜２の整数であり、Ｒ^８はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、水酸基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基またはシアノ基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基である］。
［化１］
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【課題】優れたラインエッジラフネス及び露光マージンを有するパターンを形成することが可能なレジスト組成物の樹脂用のモノマーを提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ａ^１は、２価の連結基を表す。Ｘ^１は、炭素数２〜３６の複素環基を表し、該複素環基に含まれる−ＣＨ_２−は、−ＣＯ−又は−Ｏ−で置き換わっていてもよい。Ｒ^２は、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１〜２４の炭化水素基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜４のアシル基又は炭素数２〜４のアシルオキシ基を表す。ｍは、０〜１０の整数を表す。］
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