【課題】優れた形状、ラインエッジラフネス及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】酸発生剤と樹脂とを含有する化学増幅型フォトレジスト組成物であって、前記樹脂が、酸の作用によりカルボキシル基及びヒドロキシ基を生じかつラクトン環を有さないモノマーに由来する構造単位（ｂ１−３）を含む樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物及び化学増幅型フォトレジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物を用いて、支持体上に形成したレジスト膜を、選択的に露光し、現像してホールパターンを形成した後に、ベーク処理を行った場合に、該ホールの寸法値が、該ベーク処理前の該寸法値と比較して、１０％減少し始めるベーク処理温度（Ｔｆ）が１００℃以上であり、且つ、前記ポジ型レジスト組成物を用いて、支持体上に形成したレジスト膜を、選択的に露光し、現像してホールパターンを形成した後に、全面露光を行い、次いでベーク処理を行った場合に、該ホールの寸法値が、該ベーク処理前の該寸法値と比較して、１０％減少し始めるベーク処理温度（Ｔｆ’）が、前記Ｔｆよりも１８℃以上低い。 （もっと読む）

【課題】水残り欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の少ないパターンを形成することが可能であり、さらにＬＷＲの優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】主鎖に多環構造を有し、かつ該多環構造が酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する部位を有する繰り返し単位（a）を含む樹脂（ＨＲ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 強度および耐環境特性に優れた撥水性超分子組織体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の撥水性超分子組織体は、フラーレン構造体が層状に組織化されており、上記フラーレン構造体は、フラーレン誘導体が組織化された二分子膜構造からなり、フレーク構造の粒子状の形状を有し、上記フラーレン誘導体のそれぞれは互いに重合されていることを特徴する。 （もっと読む）

ａ）下記構造式（Ｉ）（ここで、Ｒ^２は、直鎖状または分岐状のＣ６〜Ｃ２００飽和アルキル残基、または直鎖状または分岐状の１箇所または数箇所が不飽和のＣ６〜Ｃ２００アルケニル残基を意味し、Ｒ^１、Ｙ、ｎ、およびｍは、請求項１に示された意味を有する）の重合性物質に由来する１つまたは複数の構造単位を２０．０〜９９．９重量％、ｂ）重合性第四級アンモニウム化合物に由来する１つまたは複数の構造単位を０．１〜２０．０重量％、およびｃ）１つまたは複数のさらなる重合性物質に由来する１つまたは複数の非イオン性構造単位を０〜６０．０重量％含むコポリマーを記載する。このコポリマーは、例えば、化粧用、皮膚科用、または医薬用調剤の製造に有利に適している。
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【課題】高解像性のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、一般式（１）［式中、Ｐはａ価の有機基を表し、ａは２〜２０の整数を表し、Ｙはアリーレン基又は炭素原子数１〜１２のアルキレン基を表し、Ｘは酸の作用により解裂され得る特定の結合基を表す。］で表されるコア部と、該コア部に結合し、かつ、アニオン重合法によって得られるポリマー鎖からなるアーム部とを有するポリマーを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］
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【課題】使用に際し、人の健康を害したり、環境への悪影響を与えることがない貴金属抽出剤及び酸抽出剤を提供する。
【解決手段】一般式


（式中のＲ¹及びＲ²は、それぞれ炭素数２〜１２の脂肪族炭化水素基）で表わされる循環単位で構成された質量平均分子量１，０００以上の含リン重合体からなる貴金属又は酸抽出剤とする。 （もっと読む）

【課題】 超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィにおいて、現像前のレジスト表面が親水性と疎水性の凸凹構造を持つことによる撥水化を抑制し、ムラなく均一に現像が進行するようにすることで、抜け性の向上による高解像性とアウトガス低減を同時に実現するパターン形成を可能とするリソグラフィ用基板被覆方法、及びその方法に用い得るポジ型レジスト組成物を提供すること。
【解決手段】 リソグラフィプロセスにおいて基板上に膜を被覆する工程と、該膜上にトップコート層を設ける工程を含むリソグラフィ用基板被覆方法であって、前記膜が、活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いて形成されることを特徴とする、リソグラフィ用基板被覆方法。 （もっと読む）

【課題】 ゲル化せずに安定した品質が得られる絶縁膜形成用重合体の重合方法、また、低誘電率、高耐熱性、高機械強度を兼ね備えた有用な有機絶縁膜用材料、また、低誘電率、かつ高耐熱性、高機械強度に優れた有機絶縁膜及びその有機絶縁膜を有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 重合性不飽和結合を含む基と、アダマンタン構造を最小単位とするカゴ型構造を有するカゴ型構造化合物を、少なくとも２段階以上の多段階反応により重合する方法であって、各段階の反応において、該１段階前の反応より、反応温度を１℃以上低温で重合することを特徴とする、絶縁膜形成用重合体の重合方法。前記重合方法で重合して得られた絶縁膜形成用重合体を含む有機絶縁膜用材料。前記有機絶縁膜用材料を、加熱、活性エネルギー線照射、又は加熱と活性エネルギー線照射により、架橋反応させて得られる有機絶縁膜。前記有機絶縁膜を具備する、電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】費用対効果が高く、複数のホログラフィ像を記録することができ、且つ外部刺激に対して制御下での観測可能な応答を伴うセンサの製造を可能とするホログラフィック記録媒体を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係るホログラフィック記録媒体は、ポリマーマトリックスと、光環化付加による橋かけ環の形成により二量化する化学基とを含み得る。前記二量化可能な化学基は、（ｉ）光環化付加による橋かけ環の形成により二量化し、且つ（ｉｉ）ポリマーマトリックス全体にわたり分散し、その分散密度は、（１）二量化可能な化学基の一部を二量化することによるホログラムの記録と、（２）外部刺激の存在に対してポリマーマトリックスが応答したときのホログラムの光学特性の変化が検出されるのを可能とするのに十分な密度である。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）、液浸露光、二重露光において、ラインエッジラフネス、現像欠陥が改良された、ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定構造の基によって保護された酸基を有し、酸の作用により分解して酸基を生成する繰り返し単位を有する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物。 （もっと読む）

青色レーザーによる照射で光屈折性を示すように構成された光屈折性組成物を含む光学素子。この光屈折性組成物は、少なくとも本明細書において定められているとおりの式（Ｉａ）、（Ｉｂ）および（Ｉｃ）からなる群から選択された部分を含む反復単位を含むポリマーを含む。
【化１】


および
【化２】


［式中、式（Ｉａ）、（Ｉｂ）および（Ｉｃ）の各Ｑは、独立して、アルキレン基またはヘテロアルキレン基を表し、（Ｉａ）、（Ｉｂ）および（Ｉｃ）のＲａ_１−Ｒａ_８、Ｒｂ_１−Ｒｂ_２７およびＲｃ_１−Ｒｃ_１４は、それぞれ独立して、水素、Ｃ_１−Ｃ_１０アルキルおよびＣ_４−Ｃ_１０アリールからなる群から選択され、ここで、前記Ｃ_１−Ｃ_１０アルキルは直鎖状または分枝状であってもよい］
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【課題】ＬＥＲが改良され、且つレジスト膜形成時のディフェクトが非常に少ない、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂の製造方法、該樹脂を含有するポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、酸解離性溶解抑制基を有するモノマーを重合溶媒に溶解し、重合開始剤を用いて重合させることにより、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂を製造する際に、重合開始剤を少なくとも２種用いて重合することを特徴とする、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂の製造方法、（Ａ）その製造方法で製造された、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する光酸発生剤を含有するポジ型感光性組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＲ、パターン倒れ、現像欠陥が改良されたポジ型レジスト組成物の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を含有し、リビングラジカル重合で製造されたことを特徴とする、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。式中、Ｘ_ａ１は水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基を表す。Ｒは単環の脂環基を含有する酸分解性基を表す。

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【課題】 共重合活性の高いオレフィン系モノマーと反応性乳化剤の共重合体とその製造方法を提供する。
【解決手段】 配位重合触媒の存在下、オレフィン系モノマーと反応性乳化剤を共重合させる際、分子中に存在する共重合可能な官能基を適切に選択した反応性乳化剤（共重合活性の高い反応性乳化剤）を使用することにより、高効率でオレフィン系共重合体が得られる。 （もっと読む）

【課題】ポリオレフィン系樹脂を基材し、該基材とカチオン交換樹脂層との密着性が高く、折り曲げを多数繰り返し行った場合にも、基材とカチオン交換樹脂層との剥離を生じることがなく、優れた耐久性を示し、しかも格別の工程や装置を用いることなく安価に製造することができるカチオン交換膜を提供する。
【解決手段】ポリオレフィン系樹脂製の基材とこれを被覆する炭化水素系カチオン交換樹脂層よりなるカチオン交換膜において、前記炭化水素系カチオン交換樹脂は、架橋構造を有しているとともに、α−アルキルスチレン、α−アルキルスチレンダイマー及びα−アルキルスチルベンからなる群より選択された少なくとも１種のモノマーに由来する単位を有しており、繰り返し折り曲げ試験に供したとき、前記基材と炭化水素系カチオン交換樹脂層とが剥離するまでの回数が１００回以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物であるポジ型レジスト組成物。


【効果】レジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、矩形性の高いパターンを与えることができ、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

有機複合材料（１２）は電気活性材料と有機リン光性色素を含有する。電気活性材料及び有機リン光性色素は、両者を混合し（１６）、硬化に十分な量の放射線又は熱を加えたとき、リン光性色素が架橋した電気活性材料に共有結合するように、官能化されている。有機複合材料を製造する方法も提供される。本発明はあらゆる光マネージメントシステムの大量生産に適当である。１実施形態は発光ダイオードである。 （もっと読む）

【課題】カルシウムイオンを捕捉する部位のみならず、亜鉛イオンを捕捉する部位をも有し、炭酸カルシウムの合成のために好適に用いることのできる生体模倣型のポリマーを提供すること。
【解決手段】下記構造式（Ａ）で表される構成単位Ａ及び下記構造式（Ｂ）で表される構成単位Ｂからなる分子鎖を有するコポリマー。
【化１】


［式（Ａ）及び（Ｂ）中、Ｒ_１は水素原子又はアルキル基を示し、Ｒ_２は窒素原子及び硫黄原子のうち少なくとも一方を有し置換基を有していてもよい複素環からなる基を示す。］ （もっと読む）

【課題】得られるパターン形状が良好で、焦点深度にも優れ且つ液浸露光時に接触する水への溶出物の量が少ない液浸露光用感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、水を介してレジスト被膜を露光する液浸露光に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物であって、ラクトン環を有するノルボルネオールの（メタ）アクリレート単位を含有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となるアルカリ不溶性又はアルカリ難溶性の樹脂と、感放射線性酸発生剤と、を含有する。 （もっと読む）