【課題】 二次電池電極用組成物の配合安定性に優れ、該組成物を集電体に塗布した際の耐ブロッキング性、耐折れ割れ性、結着力に優れた二次電池電極用バインダーの提供。
【解決手段】 エチレン系不飽和カルボン酸のリチウム塩０．０１〜１０重量％、脂肪族共役ジエン系単量体５〜６０重量％およびこれらと共重合可能な他の単量体３０〜９４．９９重量％から構成される単量体を乳化重合して得られた共重合体ラテックスからなる二次電池電極用バインダー、および該二次電池電極用バインダーと二次電池電極用活物質を主として含有する二次電池電極用組成物。 （もっと読む）

開始剤の存在下に水性重合媒体中イオン性基を有する少なくとも１つのフッ素化モノマーを第１の重合ステップで重合させる工程であって、フッ素化イオノマーの分散した微粒子を提供する重合工程と、フッ素化イオノマーの分散した微粒子および開始剤の存在下に水性重合媒体中イオン性基を有する少なくとも１つのフッ素化モノマーを第２の重合ステップで重合させてフッ素化イオノマーの粒子の水性分散液を形成する工程と、第２重合ステップを始める前に第１の重合ステップを浮遊処理する工程とによるフッ素化イオノマー粒子の水性分散液の製造方法。 （もっと読む）

異相共重合体を製造するための方法が提供される。本方法には、防汚剤を、第１重合反応器と直列に作動する第２重合反応器に導入することが含まれる。防汚剤は、多成分防汚剤であってもよいし、かつ／又はコーティング剤であってもよい。いずれかの防汚剤を供給することにより、重合中の反応器の汚れが抑制されることによって、Ｆｃ値が約１０％〜約５０％の異相共重合体の製造が可能となる。
（もっと読む）

【課題】ヘイズ値を抑制しつつ可撓性に優れ、かつ、フィルムの脆さが改善された光学フィルムを提供する。
【解決手段】光学フィルムは、一般式（１）で表わされるスチレン−マレイン酸共重合体、


スチレン・ブタジエン・アクリレート共重合ゴム成分、メタクリル酸エステル系の分散剤を含有し、屈折率楕円体がｎｚ≧ｎｘ＞ｎｙの関係を有する。 （もっと読む）

【課題】レジスト材料の溶解性が良好であり、優れたリソグラフィー特性を示し、良好な形状のレジストパターンを形成できるアルコール系有機溶剤を用いたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とが、有機溶剤（Ｓ）に溶解してなり、前記有機溶剤（Ｓ）がアルコール系有機溶剤であり、前記樹脂成分（Ａ）が、側鎖に、ＯＨ基を有する炭素数４〜６の環状エーテルを有する構成単位（ａ０−１）、側鎖に、ＯＨ基を有するアルキレン基または脂肪族環式基を有する構成単位（ａ０−２）、および酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

ポリ（トリメチレンエーテル）グリコールの（メタ）アクリル酸エステルを用いる方法および生産物が提供される。製造することができる生産物は、ポリ（トリメチレンエーテル）グリコールの（メタ）アクリル酸エステルと特定のモノマーの反応生成物から製造することができるセラミック材料、パーソナルケア製品、インク、塗料、布地および他の物品を含む。 （もっと読む）

【課題】ラジカル重合性不飽和単量体の効率的なリビングラジカル重合ができるラジカル重合性オリゴマーおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】分子中に下記構造式で示される化学構造


（ここで、ｐは１〜２００の整数、Ｘはニトリル基、フェニル基およびその誘導体、ピロリドン基、アクリル酸基またはアクリルアミド基で示される化学構造、Ｙは重合開始剤の遊離基、Ｚはα−メチルスチレンダイマーの遊離基を表す。）を含むラジカル重合性オリゴマー。 （もっと読む）

【課題】不織布、フィルム、シーラント、工業材、透明射出、ブロックポリマー、アロイ、改質材などに好適に使用でき、具体的には衛生材料、土木材料、自動車部材、家電製品、食品容器、包装材、雑貨などの用途に広く使用可能であるポリオレフィンを提供する
【解決手段】炭素原子数３ないし８のα-オレフィンから選ばれる１種のα-オレフィンから導かれる繰り返し単位（Ｕ₁）と、所望により炭素原子数２ないし２０のα-オレフィンから選ばれる少なくとも１種のオレフィンから導かれる前記繰り返し単位（Ｕ₁）以外の繰り返し単位（Ｕ₂）を含有するポリオレフィンであって、（ｉ）2,1-挿入と1,3-挿入とがいずれも０.２％以下であり、（ii）ゲルパーミエイションクロマトグラフィーにより求めた分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１〜３の範囲にあり、（iii）デカン可溶部量が２重量％以下であることを特徴とするポリオレフィン。 （もっと読む）

１つの反応器、好ましくは気相反応器内でオレフィン重合反応のためのチーグラー・ナッタ触媒系からフィリップス触媒系に移行させる方法を記載する。本方法は、（ａ）チーグラー・ナッタ触媒系の存在下で行う第１のオレフィン重合反応を停止し；（ｂ）それぞれ第１及び第２のポリオレフィンフラクションを生成させる触媒成分（Ａ）及び（Ｂ）を含む更なる触媒系の存在下で第２のオレフィン重合反応を行い、ここで、第１のポリオレフィンフラクションのＭ_ｗは第２のポリオレフィンフラクションのＭ_ｗよりも小さく、触媒成分（Ａ）の初期活性は触媒成分（Ｂ）の初期活性よりも高く；そして（ｃ）フィリップス触媒系の存在下で第３のオレフィン重合反応を行う；工程を含む。この方法により、それぞれのオレフィン重合反応の後に反応器を空にする必要がなく、第１のものに続くそれぞれのオレフィン重合反応において得られるポリオレフィンの所望の品質を得るために必要な移行時間が、迅速で信頼できる製造の変更を可能にするのに十分に短い。 （もっと読む）

【課題】配向性、耐熱性、成形加工性に優れた液晶フィルムが得られる新規な液晶性化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物。


（式（１）中、Ｒ_１は水素またはメチル基を表し、Ｌ_１およびＬ_２はそれぞれ個別に単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−のいずれかを表し、Ｍ_１は式（２）、式（３）または式（４）を表し、ｎはそれぞれ０〜１０の整数を示す。また、Ｍ_２は式（７）から選ばれる基を表す。）
−Ｐ_１−Ｌ_３−Ｐ_２−Ｌ_４−Ｐ_３− （２）
−Ｐ_１−Ｌ_３−Ｐ_３− （３）
−Ｐ_３− （４）
（式（２）、式（３）および式（４）中、Ｐ_１およびＰ_２はそれぞれ個別に式（５）から選ばれる基を表し、Ｐ_３は式（６）から選ばれる基を表し、Ｌ_３およびＬ_４はそれぞれ個別に単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−を表す。） （もっと読む）

【課題】本発明は、取り扱い性及び保存性に優れるとともに、著しく高い架橋度を有し、かつ耐久性や柔軟性等の各種物性に優れる均一な塗膜を与えることができるうえ、通常塗膜を形成する際に必要な架橋剤の添加及び塗布後の架橋処理を必須としなくても該塗膜を形成することができる塗料用組成物、このような塗料用組成物を用いてなる被覆物品並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、液体媒体中に架橋含フッ素エラストマーが分散してなることを特徴とする塗料用組成物である。 （もっと読む）

【課題】柔軟性、耐熱性、耐薬品性および耐キンク性に優れ、かつ、透明性にも優れる中空成形体を提供する。
【解決手段】シンジオタクティックプロピレン重合体（Ａ）９０〜１０重量部と、プロピレン・α-オレフィン共重合体（Ｂ）１０〜９０重量部（ただし、（Ａ）と（Ｂ）との合
計を１００重量部とする。）とを含むプロピレン系重合体組成物からなる中空成形体。 （もっと読む）

本発明は、超吸収ポリマーと、100nm以下の直径を有するセルロース系ナノフィブリルとを含む超吸収ポリマー複合材を提供する。複合材は、粒子または発泡体の形態であってもよい。複合材および超吸収ポリマー複合材を備える吸収性物品を生成するための方法もまた提供される。
（もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大してネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、１個または２個のフッ素原子を有する酸を発生する光酸発生剤と、（Ｃ）溶剤とを含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】耐ラジカル性を高めた高分子電解質膜を、製造工程を増やすことなく製造すること。
【解決手段】フッ素系高分子電解質膜の前駆体を乳化重合および凝析により製造する過程において、乳化剤、重合開始剤および凝析剤の少なくとも一つにCe、Tl、MnおよびYbからなる群から選択される金属を含む化合物を含有させる。これにより、製造工程を増やすことなく該金属を含む化合物を高分子電解質膜に均一に含ませることができ、該電解質膜の耐ラジカル性を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】レジスト重合体を提供する。
【解決手段】式ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２Ｃ（Ｘ^Ａ）（Ｃ（Ｏ）ＯＺ^Ａ）（ＣＨ_２）_ｎａＣＲ^Ａ＝ＣＨＲ^Ａで表される化合物の重合により形成された繰り返し単位（Ａ）を含むレジスト重合体（ただし、Ｘ^Ａは水素原子、シアノ基または式−Ｃ（Ｏ）ＯＺ^Ａで表される基を示し、Ｚ^Ａは水素原子または炭素数１〜２０の１価有機基を示し、ｎａは０、１または２を示し、Ｒ^Ａは水素原子または炭素数１〜２０の１価有機基であって、２個のＲ^Ａは同一であってもよく異なっていてもよい。）。 （もっと読む）

【課題】洗剤用途に用いられた場合に従来より一層改善された再汚染防止能を有する重合体組成物およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明にかかる共重合体は、スルホン酸基含有単量体と分子内にカルボキシル基を１つ有するカルボキシル基含有単量体を含む単量体成分を過酸化水素の存在下で重合して得られるスルホン酸基含有共重合体であって、該共重合体中のスルホン酸基含有単量体由来の構造（Ｓ）の組成が、５を超えて６０質量％以下（酸型換算）であり、カルボキシル基含有単量体由来の構造（Ｃ）の組成が４０質量％以上９５質量％未満（酸型換算）であり、上記構造（Ｓ）と構造（Ｃ）の組成の合計が８５質量％以上１００質量％以下（酸型換算）であるスルホン酸基含有共重合体である。 （もっと読む）

【課題】得られるパターンの形状及びラインエッジラフネスに優れたフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるユニットと、置換可能な基を持つビニルフェノールユニットとを含有する重合体。


（式（Ｉ）中、Ｘは、直鎖又は分岐の炭素数１〜６のアルキレン基を表す。Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^２は、直鎖又は分岐の炭素数１〜６のアルキル基を表す。ｍは、０〜１５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数のＲ^２は同一であっても異なっていてもよい。） （もっと読む）

【課題】高屈折率を有する芳香族多環化合物であり、紫外域の吸収や蛍光の問題が無く透明性にすぐれ、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利なＵＶ硬化装置で重合可能な化合物及びその化合物を含む重合性組成物を提供すること。
【解決手段】１，２，４−トリ（メタ）アクリロイルオキシナフタレン化合物（ナフタレン基の置換基はＸ、Ｙ[３位]であり、Ｘ、Ｙは同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基のいずれかを示す。）及び当該化合物と光ラジカル重合開始剤を含有する重合性組成物。 （もっと読む）

【課題】耐久性が良好な位相差層、位相差フィルム及び画像表示装置用基板の作製に有用な重合性液晶組成物の提供。
【解決手段】重合性液晶化合物の少なくとも１種と、硬化性多分岐化合物の少なくとも１種とを含む重合性液晶組成物、前記硬化性多分岐化合物は、例えば、デンドリマー、ハイパーブランチポリマー、及びスターバーストポリマー等からなる群から選択される多分岐化合物に７つ程度以上の硬化性反応基が結合した化合物である。 （もっと読む）