【課題】本発明は、アルカリ水溶液に対して十分な耐性を有する被めっき層形成用組成物、および、めっきの均一性に優れた金属層を有する積層体の製造方法、を提供することを目的とする。
【解決手段】熱、酸または輻射線により疎水性から親水性に変化する官能基と、カルボキシル基、ヒドロキシル基、イソシアネート基、アルコキシシリル基、アセトキシシリル基、クロロシリル基、１級アミノ基、２級アミノ基、３級アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、（メタ）アクリルアミド基、アリル基、スチリル基、マレイミド基、およびシンナモイル基からなる群より選択される少なくとも一種の架橋性基とを有するポリマーを含む被めっき層形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる化学増幅型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 フェノール性水酸基と、フェノール性水酸基における水酸基の水素原子が置換基で置換されてなる基とを有し、かつ、下記（ａ）〜（ｃ）を同時に満たす高分子化合物（Ａ）を含有する、化学増幅型レジスト組成物。
（ａ）分散度が１．２以下
（ｂ）重量平均分子量が２０００以上６５００以下
（ｃ）ガラス転移温度（Ｔｇ）が１４０℃以上 （もっと読む）

【課題】耐屈曲性及び絶縁性を損なうことなく、難燃性と耐ブリード性を備えた硬化物を形成できる硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】芳香環を少なくとも１つ含み且つリン元素を含有する２価の有機基（Ｘ）を側鎖に有するカルボキシル基含有（メタ）アクリル系樹脂（A）と、
分子内に２個以上のエポキシ基を有する多官能性エポキシ化合物（B）と、
塩基性触媒（C）と、を含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】シアノアダマンチル化合物およびポリマーおよびこれを含有するフォトレジスト
【解決手段】シアノアダマンチル化合物、このような化合物の重合単位を含有するポリマーおよびこのようなポリマーを含有するフォトレジスト組成物が提供される。本発明の好ましいポリマーは、２５０ｎｍよりも短い波長、たとえば２４８ｎｍおよび１９３ｎｍで画像形成されるフォトレジスト中に使用される。 （もっと読む）

【課題】離型性、型再現性、基板フィルムとの密着性に優れ、耐久性（耐擦傷性、耐スクラッチ性）の高い基材上に成型する光学レンズに適した樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ビフェニル型エポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）及び／またはナフタレンを有する（メタ）アクリレート（Ｂ）、フェニルフェノール構造を有する（メタ）アクリレート（Ｃ）、可塑剤（Ｄ）を、及び、光重合開始剤（Ｅ）を含有するレンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低燃費性、耐摩耗性、加工性、操縦安定性及びウェットグリップ性能をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤの提供。
【解決手段】ゴム成分、シリカ及び特定式で表される化合物を含有し、式（Ｉ）の構成単位を有する共役ジエン系重合体が、式（ＩＩ）の化合物によって少なくとも一端が変性され、その含有量が５質量％以上であるゴム組成物。


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【課題】従来から知られるレジスト組成物では、レジストパターン製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）が必ずしも十分ではない場合があった。
【解決手段】アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂と、式（Ｉ）で表される塩とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１は、炭素数１〜１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Ｌ^２は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。Ｙ^１は、芳香族炭化水素基を含む炭素数６〜３０の２価の有機基を表す。Ｒ^１は、炭素数１〜１２のフッ化アルキル基を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】耐水性に優れ、高い耐水接着力が要求される水系接着剤に好適なポリビニルアルコール乳化型ポリクロロプレンラテックス及びその製造方法、並びに水系接着剤を提供する。
【解決手段】分子内にカルボキシル基を有するポリビニルアルコールの存在下で、クロロプレン単独又はクロロプレンと他の単量体とを乳化重合して、クロロプレンラテックスとする。そして、このクロロプレンラテックスに、硬化剤や金属酸化物などを配合して、水系接着剤とする。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ａは−（ＣＲ²₂）_m−、Ｂは−（ＣＲ⁵₂）_n−を示し、Ｒ²、Ｒ⁵は水素原子又はアルキル基、Ｒ²同士又はＲ⁵同士が互いに結合して環を形成してもよい。ｍ、ｎは１又は２、Ｒ⁶はアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基、Ｒ³はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基であり、酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。ｐは０〜４の整数。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 （もっと読む）

【課題】露光ラチチュードが広く、耐熱性に優れ、高温プロセス（２５０℃以上）を有するパターン形成に適用された場合においても、隣接パターンへの色移りが抑制された着色パターンを形成しうる着色硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性基を有する色素多量体、（Ｂ）顔料、（Ｃ）重合性化合物、及び（Ｄ）光重合開始剤を含有する着色硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】炭素系複合材を含有する無電解複合めっき液の分散安定性及びめっき液寿命を向上させることができ、且つ、優れた外観を有するめっき皮膜を得ることができる無電解複合めっき液用分散剤を提供する。
【解決手段】例えばジアリルアミンのハロゲン化水素塩を代表とするグループの第１の化合物、例えばジアリルアミンの硫酸塩を代表とするグループの第２の化合物及び、例えばメチル（メタ）アクリレートを代表とするグループの化合物の群から選択される少なくとも２種のグループの化合物を共重合せしめることにより得られたカチオン性ポリマーを含有しており、炭素系複合材を無電解複合めっき液中に分散せしめるための分散剤であること、を特徴とする無電解複合めっき液用分散剤。 （もっと読む）

【課題】安定性を有し、かつ硬化物において透明性及び耐熱着色性に優れ、十分なガスバリア性を示し、クラックが生じにくい光学部品用硬化性樹脂原料組成物およびこれを用いた光学部品を提供する。
【手段】下記式（Ｉ）で表されるアダマンタン誘導体Ａを含有する光学部品用硬化性樹脂原料組成物。


（式中、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、アリルオキシ基から選ばれる基である。ただしＡ^１とＡ^２とは異なる。Ｒ^Ａは二重結合を含まない置換基を表す。ｎは０〜８の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】重合体に含まれる残存単量体を効率良く低減できる、電子材料用重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】重合溶媒の存在下に、重合開始剤を使用して、単量体をラジカル重合させて重合反応溶液を得る工程と、得られた重合反応溶液を減圧濃縮して、未反応の単量体を除去する工程を有する、電子材料用重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラス基板に対する密着性や弾性回復力に優れた柱状スペーサーの提供を前提として、このような柱状スペーサーを得ることのできるフォトスペーサー用硬化性樹脂組成物の提供を課題としている。
【解決手段】液晶セルの柱状スペーサーの製造のために用いられるフォトスペーサー用硬化性樹脂組成物であって、感光性ポリマーと、多官能モノマーと、光重合開始剤とを含有し、該感光性ポリマーが、ラジカル重合性不飽和二重結合を有し、且つ、主鎖に環構造を導入し得るモノマーと、酸基を導入し得るモノマーと、側鎖に炭素数１３以上の長鎖アルキル基を含有するモノマーとを必須モノマーとして含むモノマー成分から合成される酸基含有ポリマーであることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】
カチオン性又は両性の水溶性の高分子重合体の製造方法において、高分子量であって、且つ水溶性に優れる高分子重合体を効率良く製造する方法を提供する。
【解決手段】
カチオン性単量体とノニオン性単量体とを含む単量体混合物、又はカチオン性単量体とノニオン性単量体とアニオン性単量体とを含む単量体混合物を水溶液重合して得られるゲル状重合体を、ヒドロキシカルボン酸及び／又はその塩の存在下で乾燥する。 （もっと読む）

【課題】アクリル樹脂の長所を生かし、かつ欠点を改善し、アルカリ鹸化処理適性、密着性、耐脆性及び光学的透明性を高めた光学フィルムとその製造方法を提供する。また、当該光学フィルムを具備した偏光板を提供する。
【解決手段】アクリル樹脂（Ａ）とセルロースエステル樹脂（Ｂ）とを含有する光学フィルムであって、特定要件を満たすことを特徴とする光学フィルム。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング耐性及び露光ラチチュード（ＥＬ）のいずれにも優れるパターン形成方法、該パターン形成方法に供せられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該パターン形成方法により形成されるレジスト膜、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（ア）多環芳香族基を有する繰り返し単位（ａ）及び酸の作用により分解してカルボキシル基を生じる基を有する繰り返し単位（ｂ）を有する樹脂（Ａ）、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、
（イ）該膜をＡｒＦエキシマレーザーにより露光する工程、及び
（ウ）該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程
を有するパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 ホウ素含有排水の処理方法に関し、良好なフロックを生成させて沈澱処理することが可能で、かかる処理により確実に排水中のホウ素濃度を低減させることが可能な排水処理方法を提供する。
【解決手段】 ホウ素を含有する排水と、アルミニウム化合物、カルシウム化合物及び硫酸化合物を混合し、かつ高ｐＨ領域で処理した排水に特定の三元重合体を混合することで、良好なフロックを生成させ、ろ過性の良い沈澱として凝集沈降させてホウ素を除去する。 （もっと読む）

【課題】 塗膜の高耐熱性を損なうことなく、優れた高密着性、高透明性、及び帯電防止性を発現する硬化膜を与える感光性組成物を提供すること。
【解決手段】 ４−（メタ）アクリロイルモルホリン（Ａ）、ポリオキシアルキレン鎖を有する２官能（メタ）アクリレート（Ｂ）〔好ましくは数平均分子量が２００〜１０万〕、イソシアヌレート骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｃ）〔好ましくは数平均分子量が２００〜１０万〕及び重合開始剤（Ｄ）を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性、操縦安定性及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】ゴム成分、シリカ及び３分岐構造を有するポリエチレングリコール系化合物を含有し、前記ゴム成分１００質量％のうち、共役ジエンに基づく構成単位とアミノ基を含む基を有するビニルシランに基づく構成単位とを有し、下式（ＩＩ）で表される基を有する化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる共役ジエン系重合体の含有量が５質量％以上であり、前記ゴム成分１００質量部に対して、前記シリカの含有量が５〜１５０質量部、３分岐構造を有するポリエチレングリコール系化合物の含有量が０．１〜１０質量部であるゴム組成物。
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