【課題】光学特性に優れ、機械的強度、成形加工性、表面硬度等のバランスがとれていることが求められる各種光学材料に用いることができる透明性、耐熱性がいずれも高く、かつ紫外線吸収能をもつ非晶性熱可塑性樹脂及びフィルム又はシートを提供する。
【解決手段】紫外線吸収性単量体単位を有する、ガラス転移温度１２０℃以上である非晶性熱可塑性樹脂であり、上記非晶性熱可塑性樹脂は、５００ｎｍでの光線透過率が８０％以上、３８０ｎｍでの光線透過率が３０％未満である。 （もっと読む）

基板上に、アルカリ水溶液中に可溶性又は分散性であって、（メタ）アクリル反復単位、イミド反復単位、及び対応するエチレン系不飽和重合性モノマーから誘導されるアミド反復単位を含むコポリマーを含んで成る輻射線感光性塗膜を有し、前記コポリマーが、ネガ型又はポジ型となることができる平版印刷版前駆体に増強された耐化学薬品性を提供する、単層又は多層平版印刷版前駆体。 （もっと読む）

【課題】 透明性、色調および耐衝撃性と剛性との物性バランスなどに優れたゴム強化スチレン系透明樹脂組成物及びその効果的な製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂組成物中の単量体成分が、芳香族ビニル系単量体（ａ１）５〜７０重量％、不飽和カルボン酸アルキルエステル系単量体（ａ２）３０〜９５重量％、シアン化ビニル系単量体（ａ３）０〜５０重量％及びこれらと共重合可能な他の単量体（ａ４）０〜５０重量％（ただしａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４＝１００重量％である）を含有し、（ａ１）、（ａ２）、（ａ３）、（ａ４）の合計を１００重量％としたとき、紫外線吸収性単量体（ａ５）を０．００１〜１重量％有する樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明は、ポリ（メタ）アクリレートからのポリ塩化ビニル窓用形材のための表面保護シートのための新規のＵＶ−及び屋外暴露保護パッケージに関する。表面保護シートの卓越した耐候性を達成するために、高い分子量を有するマトリックスプラスチックが使用される。 （もっと読む）

ガス放出の低減のために反射防止膜中で有用な新規の自己架橋性ポリマーが提供される。 （もっと読む）

【課題】液晶を用いることなく優れた屈折率変調特性を示すポリマー及びこれを得るためのモノマーを提供する。
【解決手段】構造単位（２）のモノマー、ホモポリマー、及び（２）と（３）のコポリマーならびにそれらによるホログラム光記録媒体。（Ｒは直鎖または分岐アルキル基）
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【課題】 本発明の目的は、高精度の光学特性を有し、かつ長時間にわたってその特性を維持可能な樹脂組成物と、この樹脂組成物を用いて成型された成型体、プラスチック製光学素子、及びこのプラスチック製光学素子を適用した光ピックアップ装置を提供することにある。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される脂環式炭化水素系共重合体を含有し、該脂環式炭化水素系共重合体は、赤外吸収測定による２９７０±１０ｃｍ^-1に現れる吸収の吸光度（Ａ）に対する１７２０±１０ｃｍ^-1に現れる吸収の吸光度（Ｂ）との比Ｂ／Ａが、０．０５以下であることを特徴とする樹脂組成物。
【化１】
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【課題】反射防止膜等への光発生酸の拡散やレジストと反射防止膜等のインターミキシングがなく、保存安定性、ステップカバレッジ性に優れた反射防止膜又は光吸収膜を形成することのできる重合体を提供する。
【解決手段】一般式で示される重合体。
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【課題】医療用具用途でも十分に使用に耐える高純度の紫外線吸収化合物の製造方法およびこれを用いた紫外線吸収重合体の提供。
【解決手段】酸触媒存在下で、下記一般式（ｅ）で表される紫外線吸収化合物の製造方法、および


これを用いた紫外線吸収重合体。（ここで、Ｒ^１は水素、置換されていても良い炭素数が１〜８個のアルキル基、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素からなる群から選ばれ、Ｒ^２は水素および置換されていても良い炭素数１〜８個のアルキル基からなる群から選ばれ、Ｒ^３は置換されていても良い炭素数１〜８個の２価のアルキレン基から選ばれ、Ｒ^４は重合性基を有する炭素数１〜２０個の有機基から選ばれる。特に、Ｒ^１，Ｒ^２が水素、Ｒ^３がエチレン基、Ｒ^４がメタクリル基である。） （もっと読む）

【課題】記録材料の紫外線吸収層に適した紫外線吸収性ポリマーを見出すこと、そして最終的には、耐光性に優れた記録材料を提供することを目的とした。
【解決手段】記録材料に紫外線吸収層を形成するために用いられる紫外線吸収性ポリマーであって、下式（１）で示されるベンゾトリアゾール系紫外線吸収性モノマーを必須的に含むモノマー混合物から合成されることを特徴とする高耐光性記録材料用紫外線吸収性ポリマー。


（式中、Ｒ¹は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表し、Ｒ²は水素結合を形成し得る元素を有する基を表し、Ｒ³は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ⁴は水素原子または炭素数１〜１２の炭化水素基を表す。） （もっと読む）

【課題】 可視光線全域、特には波長４６０ｎｍ付近において、偏光性能に優れた偏光膜を製造するための光学用ポリビニルアルコール系フィルムを提供する。
【解決手段】 側鎖に１，２−グリコール結合を０．０１〜６モル％含有するポリビニルアルコール系樹脂（Ａ）からなる光学用ポリビニルアルコール系フィルム。 （もっと読む）

【課題】光硬化性樹脂組成物に使用できる、新規のアクリル系モノマーを提供する。
【解決手段】１，３−ジオキソラン環または１，３−ジオキサン環、ならびにネオ構造を有するアルコール化合物、および該アルコール化合物のアクリル酸および／またはメタクリル酸によるエステル化で得られる（メタ）アクリレートと該（メタ）アクリレートを含む光硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明は、眼用レンズ（それに限定されない）のような装置の形成におけるモノマーとして有用な、重合性吸光アゾ染料を開示する。特に、1つまたはそれ以上の吸光染料がエチレン不飽和基を介して他の構造ポリマーに共有結合している眼内レンズ（IOL）を開示する。得られるIOLは、最終構造ポリマーマトリックスに有意量の遊離（非結合）アゾ染料分子を存在させることなく、吸光特性を有する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、簡便な設備で生産性に優れる製膜法により製造されたフィルムにおいて、フィルムの白化ムラが少なく、活性線硬化樹脂層の硬度ムラや反射防止層の筋状故障が発生しにくく、色ムラが低減された光学フィルム、該光学フィルムを用いた偏光板及び表示装置を提供することにある。
【解決手段】 アシル基の全置換度が２．５〜２．９のセルロース樹脂と可塑剤と重量平均分子量４９０〜５００００の紫外線吸収剤とを含有する加熱溶融物を押出しした後、冷却して形成したことを特徴とする光学フィルム。 （もっと読む）

【課題】耐候性を有し、格段に優れた耐熱性や耐湿熱性を発揮できるとともに、基材に塗装後の乾燥性にも優れ、塗膜の生産性を充分に向上することができる光学用面状成型体用紫外線遮蔽層形成用樹脂組成物、及び、該樹脂組成物を用いた積層体を提供する。
【解決手段】２，４−ジフェニル−６−〔２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）〕−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２−メチルフェニル）−６−〔２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）〕−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２−メトキシフェニル）−６−〔２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）〕−ｓ−トリアジンなど特定のトリアジン型紫外線吸収性単量体と、炭素数４以上のアルキル基を有する単量体とを必須とする単量体混合物を重合した重合体を含有する光学用面状成型体用紫外線遮蔽層形成用樹脂組成物及びこれを用いた積層体。 （もっと読む）

【課題】 優れた解像性を有し、かつ発生する酸の強度が弱い酸発生剤を用いても良好にレジストパターンを解像できるポジ型レジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を製造するのに好適な化合物、該高分子化合物を含有してなるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される化合物。下記一般式（１１）で表される構成単位（ａ１）を含むことを特徴とする高分子化合物。該高分子化合物を含有してなるポジ型レジスト組成物。該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。
【化１】
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【課題】 サーマルフロープロセスにおいて、パターン制御性が良好な技術を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大するベース樹脂成分、及び（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、
前記（Ａ）成分は、１９３ｎｍにおける吸光度が１．０（１／μｍ）以下であり、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５以下である樹脂を含み、かつ
当該ポジ型レジスト組成物が、サーマルフロープロセス用であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【解決手段】 下記一般式［１］（式中、Ｒ¹及びＲ²は各々独立して軽水素原子又は重水素原子を表し、Ｒ³は軽水素原子、重水素原子又はメチル基｛但し、該メチル基の３つの水素原子は各々独立して軽水素原子又は重水素原子である｝を表し、Ｒ⁴はノルボルナン環と炭素数５〜７の炭化水素環との縮合環からなる基であり、当該基が有する水素原子の少なくとも１つが重水素原子である）で表される新規な化合物、及び該化合物を含有する重合性組成物を重合してなる新規な重合体である。
一般式［１］
【化１】
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