【課題】 未使用溶媒を用いた場合と同等の性能を有するアクリル系ブロック共重合体が得られる、リサイクル溶媒を使用したアクリルブロック共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】
溶媒（イ）を重合溶媒として使用してアクリル系単量体成分からアクリル系重合体ブロック（ａ）を重合した後、この重合体溶液にメタアクリル系単量体成分および溶媒（ロ）を添加してメタアクリル系重合体ブロック（ｂ）を重合するアクリル系ブロック共重合体（Ａ）を製造する方法において、重合反応後に回収された、重合溶媒および未反応単量体成分を含有する混合溶液から、溶媒を、（イ）／（ロ）の重量比が０．５以上の溶媒（ハ）および０．５未満の溶媒（ニ）に分離して、溶媒（ハ）をアクリル系重合体ブロック（ａ）の重合にリサイクル使用する。 （もっと読む）

【課題】ナフィオンに比べて安価でメタノールに対する耐性が高く、かつ燃料電池の作動時に発生するラジカルに対し高い安定性を有し、さらに従来のパーフルオロアルキルスルホン酸型膜と同等もしくはそれ以上のプロトン伝導性を有する高分子電解質媒体を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表されることを特徴とする高分子電解質媒体。


ただし、式中のＲはスルホン酸またはリン酸、ｎは１〜８０００の整数を示す。 （もっと読む）

本発明は、イソプレンの選択的重合に使用され得る初期FCC C5留分が、最終の、精製された、イソプレンが豊富なC5留分を得るために使用される方法、及び先述の精製されたイソプレンが豊富なFCC C5留分のようにイソプレン及び少なくとも１種のメチルブテンを含む重合媒体由来のイソプレンのホモポリマーを得る方法に関する。初期C5留分由来の最終留分を得る方法は、以下の工程：中間体C5留分に適用される脱水素化反応、すなわちメチルブテンを含み、初期留分から由来する上記留分が最終留分を生成する工程、及び次いで、二置換アルキン、末端アルキン及びシクロペンタジエンを実質的に含まない最終、精製された留分を得るための、得られた最終留分の精製工程を含む。さらに、中間留分中のメチルブテンの質量留分は、＜３０％である。本発明に従って、イソプレンのホモポリマーを得る方法は、イソプレンと少なくとも１種のメチルブテンの質量比（メチルブテン/イソプレン）が≧５０％で、イソプレン及び少なくとも１種のメチルブテンの存在下共役ジエンに、懸濁した有機リン酸の希土類塩、質量比（アルキル化剤/塩）が１〜５に変化するアルキル化剤及びハロゲン化ドナーに基づく触媒系からなる。 （もっと読む）

【課題】 泥汚れ等を効果的に落とすことができる洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】 以下の成分（I）〜（III）を含有する洗浄剤組成物：
（Ｉ）リン元素含有化合物；
（II）以下の式（ａ−１）又は（ａ−２）で表される、少なくとも１種の重量平均分子量が５００以上の化合物；
（ａ−１） 窒素とポリエチレンオキサイド基とを含有する化合物、及び
（ａ−２） ４級アンモニウム基、３級アミノ基及びアミンオキシド基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基を有するビニル単量体を構成単位として含む高分子化合物、
（III）以下の式（ｂ−１）、（ｂ−２）又は（ｂ−３）で表される、少なくとも１種の重量平均分子量が３００以下の親水性基を持つ芳香族化合物；
【化１】


Ｙ_III＝ＯＨ；ｋ＝１〜５；Ｘ_III＝スルホン酸基又はカルボキシル基；Ｚ＝アミノ基；各ｎ及びｍ＝０〜５、ｎ＋ｍ≧1以上；各ｐ及びｑ＝０〜７。 （もっと読む）

【課題】転がり抵抗性能及び耐摩耗性を満足させながら、グリップ性能の温度依存性を改良して低温から高温までの幅広い温度域でグリップ性能を確保する。
【解決手段】ガラス転移点が−４０℃以上、スチレン含有量が３０重量％より大きく、かつブタジエン部中のビニル含有量が３０重量％以上６０重量％以下である溶液重合スチレン−ブタジエン共重合体ゴム１００〜５０重量％と、他のジエン系ゴム０〜５０重量％と、からなるゴム成分１００重量部に対し、シリカ２０〜１５０重量部と、カーボンブラック０〜５０重量部を、シリカとカーボンブラックの合計量で４０〜２００重量部配合し、更に、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの少なくとも２種のユニットからなるポリエーテル系共重合体を０．５〜１０重量部配合したタイヤトレッド用ゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】安全性に優れ、しかも低添加量で増粘性やほぐれ促進性を発現させることができることから、増粘剤やほぐれ促進剤等として食品用や飼料用等の様々な用途に好適に適用することが可能であり、食感や取り扱い性を向上させることができるアクリル酸塩系水溶性重合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】アクリル酸塩系単量体を重合して製造されるアクリル酸塩系水溶性重合体であって、該重合体は、０．２質量％、２５℃での水溶液粘度が５５０ｍＰａ・Ｓ以上であり、残存単量体濃度が１質量％以下であり、不溶解分が０．１５質量％以下であり、中和度が９８〜１０２モル％であるアクリル酸塩系水溶性重合体、及び、上記アクリル酸塩系水溶性重合体を含む食品添加物又は飼料用添加物。 （もっと読む）

【課題】 光学的特性に優れたエチレン−アセナフチレン共重合体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 エチレンおよび下記一般式［１］で表されるアセナフチレン誘導体を共重合して得られるエチレン−アセナフチレンランダム共重合体、ならびに、


（ただし、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に、水素原子または炭素原子数１〜１０の炭化水素基を表し、Ｒ³〜Ｒ⁸はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数１〜１０の炭化水素基を表す。）
下記成分（Ａ）、成分（Ｂ）および／または成分（Ｃ）を接触させて得られる重合用触媒の存在下、エチレンおよび前記一般式［１］で表されるアセナフチレン誘導体を共重合するエチレン−アセナフチレンランダム共重合体の製造方法。
成分（Ａ）：元素周期律表第４族の金属のメタロセン化合物
成分（Ｂ）：特定の有機アルミニウム化合物
成分（Ｃ）：特定のホウ素化合物 （もっと読む）

【課題】流動性及び凝結性に優れたセメント組成物用添加剤を提供することである。
【解決手段】 一般式（１）で表されるビニルモノマーを必須構成単量体としてなるビニルポリマーを含有してなることを特徴とするセメント組成物用添加剤を用いる。
【化１】


ＯＡは炭素数２〜４のオキシアルキレン基、ｍは１〜２００の整数、Ｒ¹は（メタ）アクリロイル基、Ｎは窒素原子、Ｒ²及びＲ³は炭素数が１〜３０の有機基であり、Ｒ²及びＲ³は窒素原子と共に複素環を形成していてもよい。ビニルポリマーがさらに（メタ）アクリル酸（塩）を必須構成単量体として含むことが好ましい。また、オキシアルキレン基（ＯＡ)がオキシエチレン基であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、光学フィルムと偏光膜との接着性に優れ、かつ、耐熱性、耐薬品性などの特性にも優れ、長期使用においても剥離、変形などが生じにくく高い信頼性を有する偏光板およびその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリウレタン層、接着剤層および偏光膜が積層されてなることを特徴とする偏光板と、ノルボルネン系樹脂フィルム表面にポリウレタン層を設ける工程と、接着剤を介して、偏光膜と該ポリウレタン層を接着させる工程を有することを特徴とする当該偏光板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンと、置換及び／又は未置換シクロヘキセンとからなるシクロヘキセン共重合体、及びその工業的製造方法、並びに該共重合体からなる成形体を提供する。
【解決手段】 エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンが０．１〜９９．９モル％、置換及び／又は未置換シクロヘキセンが０．１〜９９．９モル％の範囲にあるシクロヘキセン共重合体、及び特定の構造を有する３〜５属金属錯体（好ましくはチタン）と特定の構造を有する活性化剤との組み合わせによる遷移金属触媒系を用いるエチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンと、置換及び／又は未置換シクロヘキセンとからなるシクロヘキセン共重合体の製造方法、並びに該シクロヘキセン共重合体からなる成形体。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性等に優れる皮膜を形成できるとともに、該樹脂を含む樹脂組成物の保存安定性が極めて高く合成も容易なポリマーを提供する。
【解決手段】 （Ａ）アルカリ可溶性基を含むモノマー単位及び（Ｂ）エポキシ基含有重合性不飽和化合物に対応するモノマー単位からなる共重合体、又は前記モノマー単位（Ａ）及び（Ｂ）に加えて（Ｃ）Ｎ−置換マレイミド等のエポキシ基非含有重合性不飽和化合物に対応するモノマー単位からなる共重合体であって、前記モノマー単位（Ｂ）の割合が全モノマー単位に対して４０〜９０重量％であり、且つ前記モノマー単位（Ｂ）のうち３０重量％以上が特定の３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン環含有化合物に対応するモノマー単位であることを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】メルトフローレート（ＭＦＲ）が０．１〜２０ｇ／１０分、融解温度（Ｔｍ）が１３５〜１６０℃で、かつ下記式（１）を満足するシート成形用プロピレン・α−オレフィン共重合体。 −７．５Ｃｘ＋１４６≦Ｔｍ≦−７．５Ｃｘ＋１６２ （１）［但し、Ｃｘはプロピレン・α−オレフィン共重合体のα−オレフィン含量（重量％）を表す。］
【効果】プロピレン・α−オレフィン共重合体を熱成形して得られるシートは、剛性、耐衝撃性に優れると共に、二次成形によっても透明性の低下が少なく、かつ、二次成形時の温度依存性が小さいから、肉厚が均一で賦形の優れた二次成形体を得ることができる。二次成形体は真空成形又は真空圧空成形によって容易に製造できる。 （もっと読む）

【課題】重合転化率が高く、かつ安定した物性の重合体が得られるＭＴＦ類の重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】水酸基が結合した炭素に隣接する炭素に水素原子が結合している水酸基含有芳香族化合物の含有量が５００ｐｐｍ以下である１,４−メタノ−１,４,４ａ,９ａ−テトラヒドロフルオレン類の組成物を重合して重合体を製造する方法。前記の１,４−メタノ−１,４,４ａ,９ａ−テトラヒドロフルオレン類の組成物が、シクロペンタジエン類とインデン類を縮合して得られたものであるときに好適である。 （もっと読む）

（Ａ）式：


で示される，α位がＸ基で置換されている含フッ素単量体、および（Ｂ）活性水素と反応可能な官能基を有する単量体からなるメーソンリー処理用含フッ素重合体は、優れた撥水撥油性および防汚性をメーソンリーに付与する。
（もっと読む）

【課題】 ルイス酸触媒および重合開始剤を用いたリビングカチオン重合によるイソブチレン系重合体の製造方法において、安定的かつ効率良くイソブチレン系重合体から触媒を除去する方法を提供する。
【解決手段】 触媒失活処理を行ったイソブチレン系重合体を含む反応溶液を、有機系高分子凝集剤が０．００１〜０．０５重量％含まれる水により洗浄することにより達成される。 （もっと読む）

互いに近接した２つのパーフルオロ低級アルキルスルホンアミド・セグメントを含有するフッ素化部分と非フッ素化部分とを含むポリマー界面活性剤であって、液体の表面張力のより効率的で効果的な低下および基材表面上でのコーティングの濡れの増大を提供する界面活性剤が記載される。 （もっと読む）

【課題】コロイド結晶の固定化を容易にし、安定性に優れるゲル固定化コロイド結晶を形成し得るモノマー、これを用いた被ゲル固定化コロイド結晶、ゲル固定化コロイド結晶を提供すること。
【解決手段】ゲル化により固定化したコロイド結晶を形成するのに用いられるモノマーである。次式Ａ
【化１】


（式中のＲ_１はアクリル酸残基又はメタクリル酸残基、Ｒ_２はアミノ基保護基を示す。）で表される構造を有する。Ｎ−メチロールメタアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルアミノエトキシエタノール、Ｎ−アクリロイルアミノプロパノール及びこれらの誘導体などから成る。 （もっと読む）

エチレン性不飽和モノマーと、後架橋性のエチレン性不飽和シランコモノマーとの水性媒体中でのラジカル開始共重合、および場合により、それにより得られたポリマー分散液のその後の乾燥により得られる、その水性ポリマー分散液の形における架橋性のシラン変性混合ポリマーまたは水に再分散可能なポリマー粉末であって、ａ）１〜１５個のＣ原子を有する非分子鎖状または分子鎖状のアルキルカルボン酸のビニルエステル、１〜１５個のＣ原子を有するアルコールのメタクリル酸エステルおよびアクリル酸エステル、ビニル芳香族化合物、ビニルエーテル、オレフィン、ジエンおよびビニルハロゲン化物を含有する群からの１つ以上のモノマーを、ｂ）ａ）およびｂ）の全質量に対して、１つ以上のエチレン性不飽和α−シラン０．１〜５０質量％と共重合することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて、好適に使用することができ、露光ラチチュードが広く、線幅の面内均一性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 脂環基を有する特定の繰り返し単位を含有する樹脂を２種、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 レジスト用溶剤に極めて溶解しやすいフォトレジスト用樹脂をスケールアップした工業的規模において効率よく製造する。
【解決手段】 フォトレジスト用樹脂の製造方法は、単量体及び重合開始剤の溶液を重合系内に滴下することにより、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位Ａと極性基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位Ｂとを少なくとも含有するフォトレジスト用樹脂を、１バッチ当たり１０ｋｇ以上製造する方法であって、予め重合容器内に、実質伝熱面積が１時間に滴下する溶液量に対して２００ｃｍ²／ｋｇ以上となるように重合溶媒を仕込んでおき、昇温後、単量体及び重合開始剤の溶液を滴下開始することを特徴とする。単量体及び重合開始剤の溶液を滴下開始する前に、重合系内の温度を重合時の制御温度より１〜５℃高くしておき、滴下開始後に重合時の制御温度に設定してもよい。 （もっと読む）