【課題】 露光ラチチュードやラインエッジラフネス等の諸性能にすぐれ、さらに液浸露光に適用してもドライ露光時に比較して感度の劣化が小さく液浸液への酸の溶出が極めて少ないレジストを提供する。
【解決手段】 （Ａ）特定構造を側鎖に有する繰り返し単位を含有し、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像度であり、現像時のディフェクトや、ラインエッジラフネスが小さいレジスト用重合体、その製造方法、レジスト用重合体を含むレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供する。
【解決手段】 ラクトン骨格を有する構成単位（Ａ）および酸脱離性基を有する構成単位（Ｂ）を含有するレジスト用重合体の製造方法であって、下記式（１）の化合物を含有する重合溶媒中で、前記構成単位（Ａ）および（Ｂ）を与える単量体を重合する工程を含むレジスト用重合体の製造方法。
【化１】


（式（１）中、Ｒ¹はヒドロキシ基を有している炭素数１〜２０の直鎖、分岐、もしくは環状アルキル基を表す。ｎは３〜２４の整数を表す。Ｊは置換基および／またはヘテロ原子を有していてもよいｎ価の炭化水素基を表す。） （もっと読む）

【課題】 不純物含有量の極めて少ないフォトレジスト用高分子化合物を含有するＡｒＦエキシマレーザーレジスト用ポリマー溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のＡｒＦエキシマレーザーレジスト用ポリマー溶液の製造方法は、ラクトン骨格を含む単量体（ａ）及びヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む単量体（ｃ）から選択された少なくとも１種の単量体に対応する繰り返し単位と、酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体（ｂ）に対応する繰り返し単位とを有する高分子化合物を含むＡｒＦエキシマレーザーレジスト用ポリマー溶液を製造する方法であって、滴下重合により生成したポリマーを沈殿精製に付し、固液分離して得られた湿ポリマーを有機溶媒に再溶解し、得られたポリマー溶液を濃縮することにより、ポリマー溶液中に含まれている低沸点溶媒を留去してフォトレジスト用ポリマー溶液を調製することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 他のモノマーとの重合性に優れ、通常の重合手段で容易に合成可能なスチレン誘導体と、このスチレン誘導体を用いた加熱前はアルカリに可溶で、加熱後は優れた耐アルカリ性を示すポリマー、及びその製造方法の提供。並びに、このポリマーを用いた、現像前はアルカリ可溶性で現像性、保存安定性に優れ、現像後に耐アルカリ性、絶縁性に優れるパターン形成材料及び高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法の提供。
【解決手段】 下記一般式（１）及び下記一般式（２）のいずれかで表されるスチレン誘導体を得る。このスチレン誘導体によりポリマーを合成し、このポリマーによりパターン形成材料を形成するとともに、このパターン形成材料により永久パターンを形成する。
【化５８】


【化５９】
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【課題】２００ｎｍより短波長の光による露光に好適で高解像度のレジストパターンを形成することができるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分と、（Ｂ）芳香環又は脂肪族環に直接結合した炭素原子上に２級又は３級アルコール構造を有する多価アルコール化合物、および（Ｃ）露光により酸を発生する酸発生剤成分を少なくとも含有してなるネガ型レジスト組成物であり、樹脂成分（Ａ）が２００ｎｍより短波長の光に対して高度な透明性を有する。 （もっと読む）

【課題】幅広い波長領域において高い透明性を有する含フッ素ポリマーおよびその製造方法の提供、ならびに遠紫外線や真空紫外線に対する透明性に優れ、ＰＥＤ効果を抑制する効果が高く、アルカリ現像液に可溶で現行のレジストプロセスの現像工程にて除去することができ、液浸リソグラフィ工程においてもレジスト膜を液浸溶媒から保護することが可能なレジスト保護膜組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される含フッ素ジエンを環化重合して得られるモノマー単位、を有する含フッ素ポリマー。
ＣＦ₂＝ＣＦＣＦ₂Ｃ（ＣＦ₃）（ＯＲ¹）−（ＣＨ₂）_nＣＲ²＝ＣＨＲ³ ・・・（１）
（式中、Ｒ¹は、カルボキシ基、スルホ基およびスルホニルフルオリド基からなる群より選択される少なくとも１つの置換基を有する炭素数２０以下の有機基を表し、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１２以下のアルキル基を表す。ｎは０〜２の整数である。） （もっと読む）

【解決手段】 下記一般式（１）で表される環状構造を有する含フッ素単量体。
【化１】


（式中、Ｚは重合性不飽和基を含む二価の有機基を表す。）
【効果】 本発明の新規な環状構造を有する含フッ素単量体は、機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用であり、中でも波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、かつフェノール様酸性水酸基を有するため、現像特性の良好な感放射線レジスト組成物のベース樹脂を製造するための単量体として非常に有用である。また、本発明の重合体を感放射性レジスト組成物のベース樹脂として用いた場合、適度な酸性を有する水酸基を効果的に利用することにより、例えば膨潤を軽減してパターン崩壊を防いだり、Ｔ−トップ形状発現を抑えて寸法均一性を向上させたりもできる。 （もっと読む）

【課題】 遠紫外線に対して優れた透明性と高感度を有し、基板との密着性が良く、エッチング耐性を持ち、微細パターン加工可能な放射線感光材料用の樹脂を提供すること。
【解決手段】 加熱された溶媒中に、極性基含有脂環式官能基を有するモノマー（Ｃ）及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を有するモノマー（Ｄ）及びラジカル重合開始剤を添加し、共重合させる工程、及び生成した樹脂を沈殿により精製する沈殿精製工程を経ることにより、極性基含有脂環式官能基及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を１分子中にそれぞれ少なくとも１つ以上有する半導体集積回路用遠紫外線感光材料用樹脂（Ａ）を得る。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】架橋効率が高く、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が小さいためパターン崩壊やラインエッジラフネスが低減される、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作成における微細パターン形成材料として好適なレジスト材料を提供する。
【解決手段】 少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物を含むものであることを特徴とする化学増幅型ネガ型レジスト材料。
【化４５】
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高感度で、しかも安価な光酸発生剤を使用でき、近紫外露光および弱アルカリ現像が可能で、高解像度であり、スルホールのある基板にも対応できるポジ型感光性レジスト組成物を提供する。
４−（１−メチルエテニル）フェノールおよび／または４−エテニルフェノールに由来する第１構成単位と、（メタ）アクリル酸エステル類に由来する第２構成単位と、（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステル類に由来する第３構成単位とを含んでなる酸感応性共重合体からなるポジ型感光性レジスト組成物である。 （もっと読む）

【解決手段】 下記一般式（１）で示される部分構造を有する高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト保護膜材料。
【化１】


【効果】 本発明の液浸リソグラフィーによるパターン形成方法は、レジスト膜上に形成されるレジスト保護膜が、非水溶性でアルカリ水溶液（アルカリ現像液）に溶解可能であり、しかもレジスト膜とミキシングしないものであるので、良好な液浸リソグラフィーを行うことができ、またアルカリ現像時にレジスト膜の現像と保護膜の除去とを同時に一括して行うことができる。 （もっと読む）

【課題】通常、不活性かつ非重合性のオレフィン性不飽和有機分子を含むマクロモノマーの提供。
【解決手段】本発明の不活性かつ非重合性のオレフィン性不飽和有機分子を含むマクロモノマーは、コバルト連鎖移動触媒の使用により慣用のモノマーとホモ重合または共重合することができる、オレフィン性不飽和有機分子または非重合性の有機分子を用いた方法により得ることができる。該マクロモノマーは、片方の末端に官能基およびもう片方の末端に二重結合を含む。 （もっと読む）

波長１９０ｎｍ以下の光を用いるリソグラフィー用のレジストにおいて、露光光に対して透明性に優れ、かつ基板密着性およびドライエッチング耐性に優れた化学増幅レジストとして有用な重合体および該重合体の単量体として新規な一般式（１）で示される脂環式不飽和化合物が開示されている。


なお、一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２の少なくとも一方は、フッ素原子またはフッ素化されたアルキル基であることが好ましい。
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【課題】 酸化クロム層上で矩形のパターンを形成でき、ベーク温度マージンにも優れたホトマスク用ネガ型レジスト組成物および該ホトマスク用ネガ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤（Ｂ）、および架橋剤（Ｃ）を含有し、 前記架橋剤（Ｃ）が、メラミン系架橋剤と尿素系架橋剤とを含有することを特徴とするホトマスク用ネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

デュアルダマシンプロセスに使用され、平坦化性、充填性に優れたギャップフィル材を形成する為のリソグラフィー用ギャップフィル材形成組成物を提供する。 具体的には、高さ／直径で示されるアスペクト比が１以上のホールを有する半導体基板にフォトレジストを被覆し、リソグラフィープロセスを利用して半導体基板上に画像を転写する方法による半導体装置の製造において使用されるポリマー、架橋剤及び溶剤を含有することを特徴とするギャップフィル材形成組成物である。
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【課題】本発明の目的は、ＡｒＦエキシマレーザー用に適するフォトレジストポリマーを提供することにあり、詳しくは、生産効率がよく品質の安定したフォトレジスト用ポリマーの製造方法を提供することにある。
【解決手段】少なくとも酸によって分解してアルカリ可溶となる構造と、半導体基板に対する密着性を有する極性基を含有する脂環式炭化水素基を有するフォトレジスト用高分子化合物の製造において、単量体を重合開始剤により重合し、その重合溶液を貧溶剤に添加し、生成した高分子化合物の沈殿を、濾過操作を使用せずに、デカンテーションにより未反応単量体を除くことを特徴としたフォトレジスト用高分子化合物の製造方法による。 （もっと読む）

本発明は、ａ） 酸不安定性基で保護された少なくとも一種の酸性構造要素を含みかつ水性アルカリ性溶液中に不溶性の、ポリマー主鎖から伸びるスルホン側基を含む新規ポリマー、及びｂ） 露光時に酸を生成することができる化合物を含む、３００ｎｍ〜１００ｎｍの範囲の波長に感度を示す新規の化学増幅型フォトレジストに関する。また本発明は、該新規ポジ型フォトレジスト組成物に像を形成する方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】 ディフェクトを低減することができるレジスト組成物の製造方法およびレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分、及び（Ｂ）露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するレジスト組成物の製造方法であって、同じ種類の構成単位からなり、かつ相互に接触角の測定値が異なる、複数種類の共重合体を混合して、（Ａ）成分を得ることを特徴とするレジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 解像性能の向上、感度の向上、焦点深度余裕（プロセスマージン）の向上と共に、レジストパターンを形成するときの現像残りを解消することができる。
【解決手段】 フェノール性水酸基を側鎖に有する繰り返し単位（Ａ１）と、酸解離性基を有する繰り返し単位（Ａ２）とを含み、繰り返し単位（Ａ１）は、下記式（１）で表される単量体を共重合させた後、酸を用いて加水分解することにより得られ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリスチレン換算重量平均分子量が３，０００〜１０，０００である。


Ｒ¹は水素原子あるいはメチル基を表し、Ｒ²およびＲ³は、炭素数１〜４の飽和炭化水素基、あるいはＲ²とＲ³とが互いに連結して炭素数３〜７の環状エーテル形成する。 （もっと読む）