２５０ｎｍ以下のエキシマレーザーのレジスト材料用ベースポリマーに好適な含フッ素ポリマーを提供すること。下記式（３）で表される含フッ素ジエン化合物が環化重合したモノマー単位を有する含フッ素ポリマー。ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２−Ｃ（ＣＦ_３）（Ｒ^５）−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ （３）ただし、Ｒ^５は−ＣＨＲ^７−Ｏ−Ｒ^８によりブロック化された水酸基または該水酸基を有する有機基であり、Ｒ^８は、置換基を有していてもよいシクロアルキル基などの環式飽和炭化水素、該環式飽和炭化水素を有する有機基を表す。 （もっと読む）

【課題】 高解像性のレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を製造するのに好適な化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される化合物［式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基であり；Ｘは硫黄原子または酸素原子であり；Ｙは、水素原子の一部がヘテロ原子を含む基で置換されていてもよい炭素数１〜２０の鎖状、分岐状または環状のアルキル基、もしくは該アルキル基の炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されている基である。］。
【化１】
（もっと読む）

【課題】 黒色顔料が高濃度で、かつ分散安定性に優れたブラックレジスト用感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】 本発明にかかるブラックレジスト用感放射線性組成物は、黒色顔料を含む着色剤、アルカリ可溶性樹脂、多官能性モノマー、および光重合開始剤、を含有し、前記着色剤は、分岐構造を有するポリシロキサンにより分散されている。 （もっと読む）

【課題】 コンピュータ等からのデジタル信号に基づいた走査露光による直接製版が可能であり、現像ラチチュードが広く、画像部のインク着肉性に優れた平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】 支持体上に、下記一般式（Ｉ）で表される高分子化合物と、オニウム塩と、赤外線吸収剤とを含有する感光性組成物からなる記録層を有することを特徴とする。一般式（Ｉ）中、Ｒ¹は炭化水素基、Ｒ²は水酸基を置換基として有する芳香族基を表す。ｍ＝５〜４０モル％、ｎ＝１０〜６０モル％、ｏ＝１〜１０モル％、及び、ｐ＝５〜５０モル％である。
【化１】
（もっと読む）

本発明は、それぞれのモノマーのアニオン重合又は制御ラジカル重合による、ヒドロキシ−ビニル芳香族ポリマー、特に４−ヒドロキシスチレンポリマー又はコポリマーの製造方法に関し、ここでヒドロキシ官能基は、保護基でブロックされ、そしてこの保護基は、後にハロシラン試薬と反応させることにより脱離される。生じた（コ）ポリマーは、狭い分散度を有し、そしてフォトレジストの製造に有用である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト組成物として用いた場合に、高感度、高解像度であり、ドライエッチング耐性が高く、現像時のディフェクトが少ないレジスト用重合体、レジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 特定のラクトン骨格を有する構成単位（Ａ）と、特定の酸脱離性基を有する構成単位（Ｂ）と、特定の親水性基を有する脂環構造を含む構成単位（Ｃ）を含有するレジスト用重合体であって、分子鎖末端の少なくとも一つが下記式（１−１）〜（１−４）からなる群より選ばれる少なくとも一種であるレジスト用重合体。
【化１】
（もっと読む）

【解決手段】 インデン類と、ヒドロキシ基もしくはエポキシ基を有すると共に重合性２重結合を有する化合物とを共重合してなる高分子化合物を含有することを特徴とする下層膜形成材料。
【効果】 本発明の下層膜形成材料は、必要により反射防止効果のある中間層と組み合わせることによって、２００ｎｍ以上の膜厚で十分な反射防止効果を発揮できるだけの吸光係数を有し、基板加工に用いられるＣＦ₄／ＣＨＦ₃系ガス及びＣｌ₂／ＢＣｌ₃系ガスエッチングの速度も通常のｍ−クレゾールノボラック樹脂よりも遅く、高いエッチング耐性を有する。また、パターニング後のレジスト形状も良好である。 （もっと読む）

【課題】微細加工に有用な化学増幅型レジストとして好適に使用できる感放射線性樹脂組成物および酸解離性基含有重合体、この共重合体の製造に連鎖移動剤として好適に用いることができるピラゾール誘導体を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるピラゾール誘導体およびこの誘導体を連鎖移動剤として用いた重合により得られる酸解離性基含有重合体およびこの誘導体を含む感放射線性樹脂組成物を提供する。
【化１】


〔式（１）において、Ｒ、Ｒ³は置換若しくは非置換の、アルキル基、脂環族基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロアリール基を示し、ｎは０〜３の整数である。Ｒ¹、Ｒ²は水素原子、若しくは置換若しくは非置換の、アルキル基又は脂環族基を示す。また、Ｒ¹とＲ²はそれぞれ互いに結合して１つ以上の環を形成してもよい。〕 （もっと読む）

【課題】 保存安定性に優れた無機粉体含有樹脂組成物、該樹脂組成物からなる層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法を提供すること。
【解決手段】 無機粉体および特定構造の構成単位を有するアルカリ可溶性樹脂を含有する結着樹脂を含有することを特徴とする、無機粉体含有樹脂組成物、該樹脂組成物からなる層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法を提供する。 （もっと読む）

含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位および／または重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得るフッ素原子を含んでいてもよい単量体に由来する構造単位を有し、かつ重合体中に酸で反応する酸反応性基Ｙ^１または酸反応性基Ｙ^１に変換可能な基Ｙ^２を有する含フッ素重合体を得るに当たり、該含フッ素エチレン性単量体および／または該重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得る単量体を式（１）：


（式中、Ｒ^５０、Ｒ^５１は同じかまたは異なり炭素数１〜３０のエーテル結合を含んでも良い炭化水素基（ただし、結合末端の原子は酸素原子ではない）、ｐ１、ｐ２は同じかまたは異なる０または１、ｐ３は１または２）で示される有機パーオキサイドを用いてラジカル重合することを特徴とする真空紫外光の透明性に優れたレジスト用含フッ素重合体の製造方法および得られた重合体を含むフォトレジスト組成物を提供する。該含フッ素重合体は、真空紫外領域における透明性に優れ、フォトレジスト用として、特にＦ２レジスト用として超微細パターンを形成することができる。
（もっと読む）

【課題】
ＡｒＦやＫｒＦなどのエキシマレーザーリソグラフィに適し、感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特にラインエッジラフネスに優れる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】
中心核に結合した３個以上の分岐を有し、少なくとも１個の分岐が以下の（１）〜（４）および（９）の繰返し単位からなる群から選ばれた少なくとも１種の繰返し単位を含有し、重量平均分子量が１，０００〜１００，０００であることを特徴とする星型ポリマー。









（もっと読む）

【課題】 ＬＥＲの低減された高解像性のパターンを形成できるポジ型レジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物からなる酸発生剤、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】 酸解離性溶解抑制基を有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、下記一般式（ａ２−１）［式中、Ｒは水素原子又は低級アルキル基であり；Ａは２価の有機基であり；Ｂは１価の有機基であり；Ｘは硫黄原子又はヨウ素原子であり；ｎは１又は２であり；Ｙは少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。］で表される構成単位（ａ２）と、極性基含有脂肪族多環式基を含む（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ３）とを有する高分子化合物。
【化１】
（もっと読む）

【課題】微細加工に有用な化学増幅型レジストとして好適に使用できる感放射線性樹脂組成物および酸解離性基含有重合体、この共重合体の製造に連鎖移動剤として好適に用いることができるピラゾール誘導体を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるピラゾール誘導体およびこの誘導体を連鎖移動剤として用いた重合により得られる酸解離性基含有重合体およびこの誘導体を含む感放射線性樹脂組成物を提供する。
【化１】


〔式（１）において、Ｒ、Ｒ²、Ｒ³はアルキル基、脂環族基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を示し、ｎは０〜３の整数である。また、Ｒ²とＲ³はそれぞれ互いに結合して１つ以上の環を形成してもよい。Ｒ¹は、水素原子、或いは置換若しくは非置換の、アルキル基又は脂環族基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】 表面のタック性が小さく、ラミネート性等が良好で、保存安定性に優れ、露光感度が高く、現像後に優れた耐熱性等を発現し、高い表面硬度が得られる感光性組成物及びこれを用いた感光性フィルム、並びに、高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法の提供。
【解決手段】 共重合体１ｋｇ中の重合可能な架橋性ビニル基のモル数で表されるＣ＝Ｃ密度が０．５〜３．２であり、無水マレイン酸共重合体の無水物基に対して０．１〜１．２当量の１級アミン化合物を反応させて得られる共重合体と、重合性化合物と、光重合開始剤と、を少なくとも含む感光性組成物、これを用いた感光性フィルム、永久パターン及びその形成方法である。前記共重合体が重合可能な官能基を側鎖に有するビニル単量体を少なくとも一種以上有する態様、前記１級アミン化合物が重合可能な官能基を有する態様などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示す。Ｒ^bは酸脱離性基を示す。Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。Ｒ¹及びＲ²は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す）
で表されるα−不飽和アシルオキシ−γ−ブチロラクトン誘導体。 （もっと読む）

【課題】ペリクル、および該ペリクルを用いた露光処理方法を提供する。
【解決手段】ペリクル膜が枠体に接着されてなる露光処理用のペリクルであって、ペリクル膜が式ＣＸ^１Ｘ^２＝ＣＸ^３（ＣＦ_２）_ｎＯＣＸ^４＝ＣＦ_２の環化重合により形成されたモノマー単位を必須とする含フッ素重合体からなるペリクル（ただし、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、およびＸ^４は、それぞれ独立に、水素原子またはフッ素原子を示し、少なくとも１つは水素原子である。ｎは１または２を示す。）。該ペリクルを用いる露光処理方法。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（Ｉ）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示す。Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す。但し、Ｒ¹、Ｒ²のうち少なくとも一方は炭化水素基である。Ｒ¹及びＲ²は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す）
で表される少なくとも１種のモノマー単位を含む高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示す。Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。Ｒ¹及びＲ²は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す。式中に示されるカルボキシル基は塩の形態であってもよい）
で表されるβ−カルボキシ−α−不飽和アシルオキシ−γ−ブチロラクトン誘導体。 （もっと読む）

深紫外線、特に１９３および２４８ｎｍでフォト画像形成可能な上部層コーティング、高解像度のフォトリソグラフィーを行う二層レジストシステムをつくるのに好適な新規なコポリマー。化学的に増幅されたフォトレジスト組成物、および新規なコポリマーを使用するＡｒＦおよびＫｒｆフォトリソグラフィーで使用するための材料として好適である、フォト画像形成可能なエッチングに耐えるフォトレジスト組成物のためのバインダー樹脂中で使用するのに好適な有機シリコン部分構造を提供する。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示す。Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。Ｒ¹及びＲ²は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す）
で表されるβ−カルボキシ−α−不飽和アシルオキシ−γ−ブチロラクトン誘導体。 （もっと読む）