【課題】高感度かつ高解像度で、低露光量でも十分なスペーサー形状が得られ、弾性回復性、ラビング耐性、透明基板との密着性、耐熱性、剥離液耐性等に優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物と、（ａ２）下記式（１）で示される２つ以上の水酸基含有不飽和化合物と、（ａ３）他の不飽和化合物との共重合体に、メタクリロイルオキシアルキルイソシアネートを反応させて得られる重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。
式（１）


（式中、Ｒ_１は水素原子またはメチル基、ｐは０〜３、ｑは１〜１２の整数である。） （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法によりパターン形成可能で、耐熱性に優れる新規なマレイミド系樹脂を提供すること。
【解決手段】式（１）で示される構造を含むマレイミド系樹脂のフェノール性水酸基と、エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物のエポキシ基および／またはイソシアネート基含有不飽和化合物を反応させて得られるエチレン性不飽和基含有マレイミド系樹脂。
（もっと読む）

【課題】裾引きが抑制された良好な形状のレジストパターンが得られるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）は、アセタール型保護基を含む構成単位（ａ１）を有し、かつ酸発生剤成分（Ｂ）は、下記一般式（ｂ−０）で表される酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法。
（もっと読む）

【解決手段】下記一般式で示される繰り返し単位を含有する高分子化合物。


【効果】本発明の高分子化合物をベース樹脂としたレジスト材料は、電子線や遠紫外線による微細加工に有用である。 （もっと読む）

【課題】ＫｒＦおよびＡｒＦ、Ｆ_２エキシマレーザー用レジスト原料や、Ｘ線、電子ビーム、ＥＵＶ（極端紫外光）用化学増幅型レジスト等の原料となるアクリレート化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物。


（式中、Ｘは水素原子、アルキル基、ハロゲン含有アルキル基、アルコシキ基、ハロゲン基、又は、ヒドロキシル基、ハロゲン基、ニトリル基、若しくはエーテル基を有するヒドロカルビル基を示し、ｊは１〜１４＋（ｋ＋ｌ）×６を、ｋは１〜４、ｌは０〜４の整数を示す。Ｙ_１およびＹ_２は水素原子等を示す。） （もっと読む）

【課題】幅広い波長領域において高い透明性と不感性とが得られ、ＰＥＤ効果抑制に優れ、高い撥水性を有し、かつアルカリ現像液に可溶なレジスト保護膜の提供。
【解決手段】橋頭原子に水酸基が結合した含フッ素脂肪族環を有するモノマー単位を有する含フッ素重合体（Ａ）を含むレジスト保護膜。特に、前記水酸基が結合した炭素原子（α）に隣接した炭素原子（β）に、フッ素原子が結合していることが好ましく、前記含フッ素脂肪族環が含フッ素アダマンタン環であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】電子線、ＫｒＦエキシマレーザー光、又はＥＵＶ光などの活性光線又は放射線の照射によるパターン形成に関して、ラインエッジラフネス、露光ラチチュードに優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸、ビス（アルキルスルホニル）アミド又はトリス（アルキルスルホニル）メチンを発生する化合物及び（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】式(２)で示される繰り返し単位(m単位及びp単位)を有する高分子化合物。


【効果】高エネルギー線に感応し、２００nm以下、特に１７０nm以下の波長における感度が優れている。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度に優れ、パターンのラインエッジラフネスが小さく、更にはパターン形状を良好に維持することが可能なレジストである感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルキル置換ノルボルナンラクトン環を含有する酸解離性基含有共重合体と、（Ｂ）スルホン酸エステル型の酸増殖剤と、（Ｃ）酸発生剤とを含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂組成物の樹脂成分として用いた場合、レジスト性能に悪影響を及ぼさないような高分子化合物を得る。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト用高分子化合物は、酸の作用によりアルカリ可溶性となるフォトレジスト用高分子化合物であって、ポリマー中の不純物としてのモノマー含有量が２重量％以下であることを特徴とする。このようなフォトレジスト用高分子化合物は、例えば、酸の作用によりアルカリ可溶性となるフォトレジスト用高分子化合物の溶液を、口径６ｍｍφ以下のノズルから貧溶媒中に供給して沈殿又は再沈殿させることにより製造できる。 （もっと読む）

【課題】波長が３００ｎｍ帯以下の露光光に対する透過性に優れると共に、基板密着性及び現像溶解性に優れるレジスト材料を提供する。
【解決手段】レジスト材料のベース樹脂は、同種又は異種の水素原子、炭素数１以上で２０以下の直鎖状、分岐状著しくは環状のアルキル基、フルオロアルキル基又は酸により脱離する保護基を有するスルホンアミド基含有の第１ユニット及びベンゼン環上にフッ素原子又は炭素数が１以上２０以下の直鎖状、分岐状若しくは環状のフッ素化されたアルキル基又は特定の置換基を有するアルコキシ基を有するスチレン誘導体からなる第２ユニットから構成される繰り返し単位を含む高分子化合物よりなり、微細加工技術に適したレジスト材料となる。 （もっと読む）

【課題】 置換ノルボルネンから、置換ノルボルナニルアルコールを経て、高い選択率、収率で、目的とする特定のα−置換アクリル酸ノルボルナニル類、及びこれらをモノマーとして含む重合体を製造、提供する。
【解決手段】 一般式［４］


［式中、Ｒ²、Ｒ³は、いずれか一つがＲｆＳＯ₂ＮＨＣＨ₂−基（ここで、Ｒｆは、炭素数１から炭素数４のパーフルオロアルキル基を表す。）であり、残りが水素原子である。］で表される置換ノルボルナニルアルコールである。 （もっと読む）

【課題】焦点深度余裕、感度、現像性、寸法忠実度に優れる。
【解決手段】繰り返し単位［１］を含有し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィによるポリスチレン換算重量平均分子量が１，０００〜１００，０００である樹脂と、感放射線性酸発生剤とを含有する。


［式中、Ｒ¹は、水素、メチル基、エチル基、又はパーフルオロアルキル基であり、Ｒ²、Ｒ³は、一つがＲｆＳＯ₂ＮＨＣＨ₂−基（ここで、Ｒｆはパーフルオロアルキル基を表す。）であり、残りが水素である。］ （もっと読む）

【課題】 レジスト用溶剤に極めて溶解しやすいフォトレジスト用高分子化合物を簡易な手段で効率よく製造する。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト用高分子化合物の製造方法は、酸によりアルカリ可溶性となる基を有する単量体と極性基含有脂環式骨格を含む基を有する単量体とを少なくとも含む単量体混合物を滴下重合法により重合してフォトレジスト用高分子化合物を製造する方法であって、重合系に滴下すべき溶液を重合容器の器壁に伝わらせることなく直接重合系に導入することを特徴とする。この製造方法において、重合系に滴下すべき溶液の供給ラインの先端に重合系液面に向かって延びるノズルを設け、重合系に滴下すべき溶液を該ノズルを通して、重合容器の器壁に伝わらせることなく直接重合系に導入してもよい。 （もっと読む）

【課題】感度、現像性、寸法忠実度等に優れる。
【解決手段】繰り返し単位［１］を含有し、分子量が〜１００，０００である樹脂と、酸発生剤と、酸架橋剤とを含有する


［Ｒ^２、Ｒ^３のいずれか一つがＲｆＳＯ_２ＮＨＣＨ_２−基］ （もっと読む）

【課題】液浸露光中のレジスト膜の変質および使用液浸露光用液体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数の増加なしに、形状良好なレジストパターンを形成可能な保護膜形成用材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される構成単位を有するアルカリ可溶性ポリマーと、アルコール系溶剤とを含有して保護膜形成用材料を構成する。
（もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー光に対する透明性が高く、高感度で高解像度、アルカリに対して高い親和性、パドル現像によりパターン形状、耐ドライエッチング性、密着性の良好なパターンが得られるポジ型ホトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリに対する溶解性が変化するアクリル系樹脂及び（Ｂ）放射線照射により酸を発生する酸発生剤を含有するポジ型ホトレジスト組成物において、(Ａ)成分が(ａ₁)一般式


で表わされるモノマー単位を含む共重合体。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ可溶性に優れ、現像時に未硬化（未露光）残渣が生じず、高い解像度で像を形成でき、強度、耐熱性、耐薬品性、耐水性等に優れる硬化膜を形成でき、柱状スペーサー、カラーフィルター保護膜、カラーフィルター用着色層の形成等のパターン形成用組成物として好適な活性エネルギー線硬化型組成物の提供。
【解決手段】 水酸基及び２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物(ｃ)を含有する反応物に酸無水物を反応させて得た反応生成物(Ａ)を含有する活性エネルギー線硬化型組成物であって、反応生成物(Ａ)が、化合物(ｃ)の含有割合の低い粗反応物(ｂ₀)をカラムクロマトグラフで精製して該化合物(ｃ)の含有割合を高速液体クロマトグラフ分析にて５０面積％以上にして得た反応物(ｂ)に酸無水物を反応させて得た反応生成物である活性エネルギー線硬化型組成物。 （もっと読む）

【課題】粘度が低くて取り扱いが容易であり、加工精度に優れた重合性樹脂組成物及びそれに利用可能な重合性デンドリマーを提供する。
【解決手段】本発明の重合性デンドリマーは、重合可能なビニル基を有するアルケニルカルボン酸が末端官能基に結合している。また、本発明の重合性樹脂組成物は、本発明の重合性デンドリマーと、当該重合性デンドリマーと共重合可能な希釈剤と、重合開始剤とを含有している。 （もっと読む）

【課題】画像部のインキ着肉性に優れ、良好な印刷物が得られ、且つ、連続的に製版処理した場合でも、現像液中における析出物（ヘドロ）の発生が抑制された感光性平版印刷版を提供することにある。
【解決手段】支持体上に、エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合可能な化合物、重合開始剤、及び、界面活性剤として特定の高分子化合物を含有する重合性感光層を有する感光性平版印刷版。 （もっと読む）