【課題】高解像度であり、且つパターン倒れマージンに優れた化学増幅型レジストとして有用なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明のポジ型感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位と、下記一般式（２）で表される繰り返し単位と、を含むアルカリ不溶性樹脂、（Ｂ）感放射線性酸発生剤及び（Ｃ）フェノール性化合物を含む。
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【課題】収率の高い化学増幅型ポジ型レジスト用樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】重合により化学増幅型ポジ型レジスト用樹脂を与えるモノマーまたはオリゴマーを重合開始剤を用いて重合させる化学増幅型ポジ型レジスト用樹脂の製造方法において、２種以上の重合開始剤を用いる化学増幅型ポジ型レジスト用樹脂の製造方法。２種以上の重合開始剤それぞれが、下式（１）または（２）で表される構造を有する前記記載の製造方法。


（Ｚ¹、Ｚ²は電子吸引性基である。Ｒ¹〜Ｒ⁶は直鎖または分枝の炭素数１〜１０のアルキル基、環状構造を含む炭素数３〜１０のアルキル基であり、Ｒ¹とＲ²、Ｒ³とＲ⁴は結合して２価の飽和炭化水素基を形成してもよい。Ｒ¹〜Ｒ⁶の水素原子は芳香環、水酸基、ハロゲン原子、アミノ基で、−ＣＨ_２−はカルボニル基、カルボキシル基で置換されていてもよい。） （もっと読む）

【課題】 印刷用版材に用いるネガ型感光性樹脂組成物の一成分であるアルカリ可溶性樹脂のアクリル樹脂の提供。
【解決手段】 式：


［式中、Ｘは同一または異なって、水素またはメチル基を示し、ｎは１〜３の整数を示し、Ｒは置換を有してもよいアルキル鎖を示し、Ｐは式：


で表わされる基であり、Ａはジオール化合物からＯＨ基を除いたものを表わす。］
で表わされるペンダント基を一つ以上有するアクリル樹脂およびその合成方法。 （もっと読む）

【課題】電子材料用途に適した、低屈折率で塗布性に優れ、電子材料特有の高温領域での耐熱性、膜硬度、耐溶剤性の全てを満たす硬化物又は硬化膜を与える硬化性低屈折率樹脂組成物が求められていた。
【解決手段】（ａ）脂環式骨格を有する（メタ）アクリル酸エステルおよび（ｂ）フッ素原子を含有する（メタ）アクリル酸エステル、（ｃ）（ｃ−１）構造中にヒドロキシル基を１個有する（メタ）アクリル酸エステルおよび（ｃ−２）構造中にカルボキシル基を１個有する単官能不飽和基含有化合物からなる群から選択される、両方又はいずれか一方を共重合させることによって得られる共重合体（Ａ）。 （もっと読む）

【課題】高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が抑えられるためラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少ないポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】一般式（ａ）及び（ｂ）


で示される繰り返し単位を有する高分子化合物を含有するするポジ型レジスト材料。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度、焦点深度、ドライエッチング耐性及びＰＥＢ温度依存性に優れ、特にドライエッチング耐性に優れた化学増幅型レジストである感放射線性樹脂組成物及びそれに使用される共重合体を提供する。
【解決手段】（ａ）ナフタレン骨格を有する繰り返し単位と、（ｂ）下記一般式（１）〜（４)で示される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも一種と、（ｃ）アルカリ可溶性部位を有する炭素数５以上の繰り返し単位とを有し（但し、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ異なる構造の繰り返し単位である。）、重量平均分子量が１０００〜５０００００である共重合体。
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【課題】経時安定性を有し分散安定性が高く濃厚であり、環境性に優れた金属微粒子分散物、並びに、これを用いた着色組成物、感光性転写材料、並びに、高い黒色の膜またはブラックマトリックスを初めとする遮光画像若しくは薄膜で濃度の高い着色膜をはじめとする画像を有する遮光画像付き基板、また、平坦性に優れ、表示ムラが低いカラーフィルターおよび液晶表示装置を提供する。
【解決手段】硫黄原子および／または窒素原子を１個以上有するアルカリ可溶性ポリマーと、金属微粒子と、少なくとも１種の有機酸と、を含有することを特徴とする金属微粒子分散物。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等に使用されるレジスト組成物を用いたサーマルフロープロセスにおいて、レジストパターンサイズの制御性に優れるサーマルフロー用に適したポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）と、酸発生剤成分とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）成分は、第三級アルキル基を含む酸解離性溶解抑制基を有する（メタ）アクリレート構成単位（ａ０）と、ラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）とを含む高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング耐性と、ＰＥＢ温度依存性との双方に優れ、かつ感度、解像度、焦点深度等のレジストとしての基本物性に優れた化学増幅型レジストである感放射線性樹脂組成物及びそれに使用される共重合体を提供する。
【解決手段】（ａ）ナフタレン骨格を有する繰り返し単位と、（ｂ）酸の作用により脱離可能な保護基で保護され前記保護基が脱離したときにアルカリ可溶性部位となる酸解離性基を有し、前記保護基を構成する炭素原子数及び酸素原子数の和が１０以下である繰り返し単位と、（ｃ）アルカリ可溶性部位を有する炭素数５以上の繰り返し単位とを有し（但し、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ異なる構造の繰り返し単位である。）、重量平均分子量が１０００〜５０００００である共重合体。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用され、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、現像欠陥性能、マスクエラーファクターが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）ジアマンタン構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、特定の有機酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】液浸フォトリソグラフィーのための、新規な材料およびプロセスが望まれている。また、改善されたリソグラフィー結果をもたらすことができる新規な組成物、特に、現像されたレリーフ像の改善された解像度をもたらすことができる、新規な組成物を提供することも望まれている。
【解決手段】非液浸画像化のためのだけでなく、液浸リソグラフィー処理のためをも含む、フォトレジスト組成物上に適用されるオーバーコーティング層組成物。 （もっと読む）

【課題】ビニル（メタ）アクリル酸エステルの線状アニオン重合体、特に分子量約３００以上の線状アニオン重合体、及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】有機金属化合物存在下で、ビニル（メタ）アクリル酸エステルを含むモノマーをアニオン重合することを特徴とする線状重合体の製造方法。より好ましくは、有機金属化合物に加えて、有機及び／又は無機のリチウム塩の存在下で、ビニル（メタ）アクリル酸エステルを含むモノマーをアニオン重合することを特徴とする線状重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な疎密依存性を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｂ）桂皮酸から誘導される特定の繰り返し単位と、少なくとも一種の特定のポリスチレン構造を有する繰り返し単位とを含有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造に於いて、感度、露光ラチチュード、パターン倒れについて、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｓ１）で表される環状スルホンアミド部分構造を含む、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物、及び、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。
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【課題】解像性能、感度、及び露光余裕に優れた感放射線樹脂の提供。
【解決手段】式（１）で表される単量体及び特定のターシャリーエーテル基を持つ単量体を含む単量体を共重合後、酸により式（１）で表される単量体の酸解離性基を完全に加水分解し、かつ単量体の一部の酸解離性基を加水分解することにより得られる共重合体。


Ｒ¹は水素原子又はメチル基を、Ｒ²及びＲ³は飽和炭化水素基を表す。 （もっと読む）

【課題】レジスト樹脂用の原料モノマーに適したβ−ヒドロキシラクトンの（メタ）アクリル酸エステルおよび３級エステルタイプの（メタ）アクリル酸エステルを収率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】式（１）で表されるルイス酸触媒および重合禁止剤の存在下、特定の構造を有するアルコール（Ａ）と、（メタ）アクリル酸無水物（Ｂ１）および（メタ）アクリル酸と（メタ）アクリル酸以外のカルボン酸との無水物（Ｂ２）から選ばれる少なくとも１種の酸無水物（Ｂ）とを反応させて、（メタ）アクリル酸エステルを製造する方法。


（式（１）中、Ｍは、遷移金属などから選ばれた元素を表し、Ｒｆはフッ素化炭化水素基を表し、ｎはＭの原子価と同数の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】 成分中にハロゲンを含まずに優れた難燃性を有し、ブリードアウトを生じず、良好な耐熱性、耐薬品性、難燃性、耐湿性を有する感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）


で表されるリン化合物、（Ｂ）有機溶媒に可溶なポリアミド酸及び／又は有機溶媒に可溶なポリイミド、（Ｃ）Ｃ、Ｈ、Ｏ、Ｎ原子のみからなる、１分子中に１個以上の炭素−炭素二重結合を有する化合物及び（Ｄ）光反応開始剤を必須成分とする感光性樹脂組成物であって、前記（Ｃ）成分は２種類の異なる化合物を用いるとともに、１種以上の（メタ）アクリレート化合物を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザーによる書き込みが可能であり、かつ、保護層を有する平版印刷版原版であって、製版作業における生産性を向上し、現像カスの発生を抑制する平版印刷版原版、及びその製版方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、赤外線吸収剤、重合開始剤、不飽和ポリウレタン化合物及びバインダーポリマーを含有する感光層並びに無機質の層状化合物を含有する保護層をこの順に有する平版印刷版原版であって、保護層とアルミニウム支持体裏面とが接触する状態でプレートセッター内にセットし、平版印刷版原版を１枚づつ自動搬送し、７５０ｎｍ〜１４００ｎｍの波長で露光処理した後、加熱処理及び／又は水洗処理を経ることなく現像処理を行う平版印刷版原版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物に於いて、露光ラチチュード、ＰＥＢ温度依存性、パターン倒れ、ラインエッジラフネスについて、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のアンモニウム構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 優れた光学的特性（例えば、高屈折率、高透明性（可視光線に対する透明性）など）を有し、かつ基板に対する高い密着性、ハードコート性、高耐熱性などの特性を有する硬化物を得るのに有用な重合性組成物を提供する。
【解決手段】 前記重合性組成物を、フルオレン骨格を有する特定の多官能性（メタ）アクリレート［９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシエトキシフェニル）フルオレンなど］、重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物（例えば、（メタ）アクリロイルオキシアルキルトリＣ_1-4アルコキシシラン）、および光酸発生剤で構成する。前記組成物は、光重合性を高めるため、さらに、光ラジカル開始剤を含んでいてもよい。 （もっと読む）