【課題】 感度、解像度が高いフォトレジスト、耐熱性および電気特性に優れる硬化物を得ることができるエポキシ硬化剤、各種基材への密着性、耐熱性、耐水性に優れる塗料、フォトレジスト用樹脂として有用な重合体を提供する。
【解決手段】 式（Ｉ）の構成単位を有する重合体を含有するフォトレジスト、エポキシ硬化剤、塗料（Ｒ¹ は水素原子またはメチル基、Ｒ² は炭素数１〜４のアルキル基、ｉは０〜４の整数を表す）；および、式（II）の構成単位を有する重合体（Ｒ³ は水素原子またはメチル基、Ｒ⁴ は炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ⁵ は酸で脱離する保護基、ｊは０〜４の整数を表す）。
【化１】
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【課題】 屈折率、特に３００ｎｍ以下の波長の光源に対する屈折率が高く、かつ解像性にも優れたポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物用として好適な高分子化合物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 一般式（ａ０−１）［Ｒは水素原子または低級アルキル基、Ｒ^１〜Ｒ^７はそれぞれ独立して水素原子または低級アルキル基、Ｚは２価の環式基、Ｘはカルボニル基、ｓ，ｔ，ｕ，はそれぞれ独立して０または１〜３の整数、ｖは０または１、ｗは０または１〜３の整数。］で表される構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有することを特徴とする高分子化合物。
【化１】
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【課題】 貯蔵安定性に優れ、鮮明な色調を有する有機顔料やガラス粉などの無機顔料の分散安定性が良好な顔料分散レジストを作成するための感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 水親和性のアクリル単量体（Ａ）が共重合された側鎖に、共役二重結合を有するアクリル樹脂を含有する感光性樹脂組成物とする。 （もっと読む）

【課題】 パターン形状、ドライエッチング耐性、露光後の加熱温度の変化に対する線幅安定性等に優れ、十分な感度を有し、解像度にも優れるレジスト組成物を得ることができるレジスト用重合体、および該重合体を得るためのレジスト用単量体を提供する。
【解決手段】 式（２）で表される構成単位を有する重合体であって、式（２）で表される構成単位のうち、式（２−１）で表される構成単位の比率が５０モル％以上であるレジスト用重合体。
【化１】


（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｒ¹ は、酸素原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表す。） （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像液に対する親和性が高く、かつ高解像性のレジストパターンを形成できるレジスト組成物、該レジスト組成物用として好適な高分子化合物、およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（Ａ０−１）、（Ａ０−２）、（Ａ０−３）または（Ａ０−４）［式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基である。］で表される構成単位で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも１種の構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有することを特徴とする高分子化合物。
【化１】
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【課題】 ＬＥＲの低減されたパターンを形成できるポジ型レジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸解離性溶解抑制基を有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有し、かつ該構成単位（ａ１）が、下記一般式（ａ１−０）［式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立して低級アルキル基、Ｒ^３〜Ｒ^６はそれぞれ独立して水素原子または低級アルキル基、ｓは０または１〜３の整数、ｔは１〜３の整数、Ｘは脂肪族環式基であり、低級アルキル基および極性基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基を有していてもよく、Ｙは極性基。］で表される構成単位（ａ１−０）を含む高分子化合物。
【化１】
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【課題】 高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。
【解決手段】（Ａ）特定のスチレン骨格を有する繰り返し単位を２種含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）有機塩基性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性基（ｉ）として、アルコール性水酸基、カルボキシル基、およびフェノール性水酸基から選択されるいずれか一つの置換基が、下記一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒ_１は炭素数２０以下の脂肪族環式基であり、ｎは０または１〜５の整数を表す。）で示される酸解離性溶解抑止基（ii）で保護されていることを特徴とする高分子化合物を用い、本発明のフォトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を構成する。 （もっと読む）

【課題】 高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも２種の特定構造を有する繰り返し単位を含み、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂であって、該樹脂中の残存するモノマーの割合が１０質量％以下である樹脂、及び活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物、さらにそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法であり、ラインエッジラフネス、現像欠陥が改善されたポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により特定のアルカンスルホン酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 現像時のクラックの発生やパターンの剥離を低減可能な化学増幅型レジスト材料を提供することを目的とする。
【解決手段】 脂環式炭化水素基を含有しかつその基の炭素原子に低級アルキル基が結合している部分を含む保護されたアルカリ可溶性基を有し、そしてそのアルカリ可溶性基が酸により脱離して当該化合物をアルカリ可溶性とならしめる構造単位を含む酸感応性化合物と、放射線露光により酸を発生する酸発生剤とを含んでなるように、構成する。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー分野における感光性樹脂などの機能性樹脂のモノマーとして有用な新規なアダマンタン誘導体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（Ｉ−ａ）で表わされる構造を有するアダマンタン誘導体、及び対応するアダマンタン誘導体を原料として上記アダマンタン誘導体を製造する方法である。


（Ｒ¹はＨ、ＣＨ₃又はＣＦ₃、Ｒ^2aは、ヘテロ原子を有する、Ｃ（炭素数）1〜30のアルキル基、又はＣ3〜30のシクロアルキル基若しくはＣ６〜30のアリール基を含む炭化水素基、Ｘ¹及びＸ²は、それぞれ独立にＯ又はＳ、ＹはＣ１〜10のアルキル基、ハロゲン原子、ＯＨ、ＳＨ又は２つのＹが一緒になって形成された＝Ｏ若しくは＝Ｓ。ｋは０〜14の整数、ｍ及びｎは０〜２の整数。） （もっと読む）

【課題】液浸露光によるパターン形成において、表面ラフネス、ラインウイズスラフネスが改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び
（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型レジストであって、（Ｂ）成分の樹脂が、主鎖の少なくとも一方の末端にラクトン構造を有する基を有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線によるパターン形成用として、感度、解像力、パターン形状が良好であり、ラインエッジラフネスが小さく、更には、表面ラフネスが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び
（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。
【解決手段】（Ａ）特定のスチレン骨格を有する繰り返し単位と特定の環構造を有する繰り返し単位とを含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】多分散指数（ＰＤＩ）の低いポリマーを製造するためのフリーラジカル重合プロセスおよびこれによって得られるポリマーを提供する。
【解決手段】本発明に係るフリーラジカル重合プロセスは、窒素含有モノマーである少なくとも１種の反応性モノマーと、少なくとも１種の開始剤と、溶剤としての少なくとも１種のイオン液体とを重合させることにより、ＰＤＩが１.５未満と低いポリマーを得るものである。このフリーラジカル重合プロセスにおける反応時間は、僅か３時間以内である。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥の問題が改善され、優れた線幅の面内均一性が得られ、かつ、ＬＷＲ性能にも優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定構造のノルボルナンラクトン構造をもつ繰り返し単位と特定の脂環炭化水素構造をもつ繰り返し単位とを有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、および、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路素子、集積回路製造用マスク等の製造に用いるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、感度、解像力、パターン形状が良好であり、ラインエッジラフネスが小さい、更には、表面ラフネスが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び
（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、スピロ環状ケタール基を有するフォトレジスト用ポリマーおよびこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】前記ポリマーおよびフォトレジスト組成物は、スピロ環状ケタール基が脱保護される反応の活性化エネルギーが低いため解像度および工程余裕度を改善でき、露光後べーク温度敏感度が低いため精密なパターンを具現できる。 （もっと読む）

【課題】 紫外線領域から近赤外線領域に至るまでの幅広い波長領域で高い透明性を有し、かつ基板への高い密着性及び成膜性、耐熱性、耐溶剤性、誘電特性、機械的安定性、さらには高いエッチング耐性を有したレジスト材料や感光性材料に有用な新規な含フッ素重合性単量体、含フッ素高分子化合物を提供する。
【解決手段】 一般式（１）
【化１】


で表される含フッ素重合性単量体（式中、Ｒ^１は、水素、炭素数１〜４のフッ素を含有しても良い炭化水素基、フッ素、塩素、シアノ基であり、Ｒ^２は水素、フッ素、ヒドロキシ基、メチル基、又は炭素数１〜１０の分岐、環状構造を有しても良い炭化水素基、またはアルコキシ基であって、一部又は全部にフッ素を含有しても良い。Ｒ^３は、水素又は保護基であって、エーテル構造、エステル構造、フッ素を含んでも良い。）およびこれを用いて得られる高分子化合物。 （もっと読む）