深紫外線、特に１９３および２４８ｎｍでフォト画像形成可能な上部層コーティング、高解像度のフォトリソグラフィーを行う二層レジストシステムをつくるのに好適な新規なコポリマー。化学的に増幅されたフォトレジスト組成物、および新規なコポリマーを使用するＡｒＦおよびＫｒｆフォトリソグラフィーで使用するための材料として好適である、フォト画像形成可能なエッチングに耐えるフォトレジスト組成物のためのバインダー樹脂中で使用するのに好適な有機シリコン部分構造を提供する。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示す。Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。Ｒ¹及びＲ²は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す）
で表されるβ−カルボキシ−α−不飽和アシルオキシ−γ−ブチロラクトン誘導体。 （もっと読む）

【課題】 ＥＢまたはＥＵＶ照射下で充分良好な感度、コントラスト、解像力、ラインエッジラフネスを実現できるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用により分解して、アルカリ可溶性基を生じるとともに、特定構造を有する脱離基を生じる基を有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高解像性、高感度であって、かつパターン倒れが抑制されたレジストパターンを形成できる高分子化合物および該高分子化合物を含むポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】脱保護エネルギーが３級エステルの保護基に比べて低い特定の構造単位（ａ１）、ラクトン含有環式基を含む（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される単位（ａ２）及び、単位（ａ１）と単位（ａ２）以外の単位であって、脂肪族環式基含有非酸解離性溶解抑制基を含み、かつ極性基を含まない、（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される単位（ａ３）を含む高分子化合物を用いてレジスト組成物とする。 （もっと読む）

【課題】感光層を構成するバインダー樹脂として用いたときに、着色、かぶり、階調不良、感度不足等がなく、保存安定性に優れる熱現像性感光材料を得ることができる熱現像性感光材料用ポリビニルアセタール樹脂及び熱現像性感光材料を提供する。
【解決手段】熱現像性感光材料の感光層のバインダー樹脂として用いる熱現像性感光材料用ポリビニルアセタール樹脂であって、少なくとも４０メッシュの篩を通過可能な粒子状とし、前記粒子を重量比で１０倍量の蒸留水に投入し、２０℃の条件下にて回転数４０ｒｐｍの速度で２０時間攪拌して混合した後、更に２０℃の条件下にて１時間静置した後の上澄み水を抽出水としたときに、前記抽出水のｐＨが５．０〜８．５である熱現像性感光材料用ポリビニルアセタール樹脂。 （もっと読む）

【課題】触媒組成物およびその調製に関する方法。ならびに非極性オレフィンモノマー、極性オレフィンモノマーおよびのその組み合わせを含むエチレン性不飽和モノマーを、触媒組成物の存在下で重合、ポリマーを調製する方法。
【解決手段】少なくとも一つのカチオン性金属対錯体を含む触媒組成物で、対の金属原子は少なくとも１．５オングストロームで２０オングストローム以下のスルースペース核間距離を有する特定構造の錯体を含有する触媒組成物、および触媒組成物を用いて重合したポリマーを提供する。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物原料として有用な新規な（メタ）アクリル酸エステルの提供。
【解決手段】下記化学式に代表される新規なシアノ基含有（メタ）アクリル酸エステル。
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【課題】 高い熱安定性を有し、高い加工安定性および流れ抵抗を有するレジスト組成物のバインダーとして適しているフェノール樹脂の提供。
【解決手段】 このフェノール樹脂は、ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）のヒドロキシル基の１０〜９０％が、式Ｉ


の保護基によって置換されており、重量平均分子量対数平均分子量の比率、Ｍ_w／Ｍ_nが１.０３〜１.８０の範囲のものである化学増幅型ポジレジスト用フェノール樹脂。 （もっと読む）

【解決手段】 一般式（１）又は（２）で表される含フッ素重合性エステル化合物。
【化１】


（Ｒ¹は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基、Ｒ²は二価の炭化水素基、Ｒ³は水素原子又は一価の炭化水素基、Ｒ²とＲ³は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。Ｒ⁴は水素原子、水酸基、又は一価の炭化水素基、Ｒ⁵は酸不安定基。）
【効果】 本発明は、新規な含フッ素重合性エステル化合物を提供し、該含フッ素重合性エステル化合物は、機能性材料、医薬・農薬などの原料として有用であり、なかでも感放射線レジスト組成物のベース樹脂を製造するためのポリマー単量体として非常に有用である。 （もっと読む）

【課題】 現像欠陥が極めて少なく、かつパターン倒れマージンに優れるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）樹脂の主鎖又は側鎖にカルボキシル基を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）エポキシ化合物を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ビニル付加ポリマー組成物、当該組成物の形成方法、エレクトロニクスおよびオプトエレクトロニクスデバイスを形成するための当該組成物の使用方法を提供する。
【解決手段】ノルボルネン型モノマーから得られる二つ以上の種類の区別される型の反復単位を有する主鎖を持ったビニル付加ポリマーからなり、第一型の反復単位は、式１に表わされるグリシジルエーテル置換ノルボルネンモノマーから得られ、第二型の反復単位はアラルキル置換ノルボルネンモノマーから得られる。


［式中、Ｘは−ＣＨ_２−，−ＣＨ_２−ＣＨ_２−および−Ｏ−Ｏ−から選択、ｍは０〜５，Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３およびＲ^４の少なくとも一つはグリシジルエーテル含有基］ （もっと読む）

【課題】 微細解像性に優れ、レジストパターンのＬＥＲおよびＳＷの少なくとも一方を改善できる化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含むレジスト組成物であって、沸点が２２０℃以上の高沸点溶剤成分（Ｘ）を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】配線等のパターニングにおける従来の現像工程を省略し、サイドエッチングが無く、低コスト、高スループットを実現可能とした表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁基板ＳＵＢ上に成膜した金属膜ＭＴを覆って酸現像タイプのネガ型ホトレジストＮＲＧを塗布し、所要の開口パターンを有するネガ型露光マスクＮＭＫを通してホトレジストを露光して露光部のホトレジストを硬膜化し、酸現像液を用いて硬膜化したホトレジストの露光部を残し、露光されなかった非露光部を除去するとともに、当該非露光部のホトレジストの除去で露出した金属膜ＭＴをエッチングして除去した後、ホトレジストＮＲＧを除去する。 （もっと読む）

【課題】 高解像性を有するとともに、レジストパターンの矩形性、ＬＥＲ、ＤＯＦ、およびＥＬマージンの少なくとも１つを改善できるようにする。
【解決手段】フェノール性水酸基を有する構成単位（ａ１）と、ラクトン含有単環又は多環式基を有する構成単位（ａ２）と、酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ３）とを有する共重合体。 （もっと読む）

【課題】 ＤＯＦの広いポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分、および（Ｂ）露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）成分が、相互に構造が異なるｎ［ｎは４〜６の整数］種の構成単位からなる共重合体であり、該共重合体中の各構成単位の割合がいずれも０モル％超１００／（ｎ−１）モル％以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 高解像性を有するとともに、レジストパターンの矩形性、ＬＥＲ、ＤＯＦ、およびＥＬマージンの少なくとも１つを改善できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含むポジ型レジスト組成物において、前記樹脂成分（Ａ）が、フェノール性水酸基を有する構成単位（ａ１）と、ラクトン含有単環又は多環式基を有する構成単位（ａ２）と、酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ３）とを有する共重合体（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト樹脂として用いた場合に、解像性がよく、ラインエッジラフネスが小さく、ディフェクトおよびパーティクルの生成も少ないレジスト用重合体を提供する。
【解決手段】２−エチル−１，３，３，トリメチルビシクロ［２．１．１］ヘプタン−２−イル−メタクリレート，２−エチル−１，７，７，トリメチルビシクロ［２．１．１］ヘプタン−２−イル−メタクリレート，２−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−ｅｘｏ−２−イル−メタクリレート，２−エチル−エチルトリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−ｅｘｏ−８−イル−メタクリレート等、エステル酸素と特定位置の炭素との間の結合が酸素によって開裂し脂環構造が脱離しうる構造特性を与える特定物質と、２−または３−シアノ−５−ノルボルニルメタクリレート，１−メタクリロイルオキシ−３−ヒドロキシアダマンチル等の特定物質を反応させてなるレジスト用重合体。 （もっと読む）

【課題】光学特性や耐熱性、酸解離性などに優れた、架橋型樹脂、光ファイバーや光道波路、光ディスク基板、フォトレジストなどの光学材料およびその原料、医薬・農薬中間体、その他各種工業製品などとして有用な化合物を提供する。
【解決手段】
式（１）で表されるアダマンタン誘導体。
【化１】


【化２】


（式中、Ｘは、同一または異なって、水素原子、アルキル基、ハロゲン含有アルキル基、ハロゲン基、又は、ヒドロキシル基、ハロゲン基、ニトリル基、若しくはエーテル基を有するヒドロカルビル基を示し、ｎ_１は、１〜１４の整数を示す。Ｒ_１〜Ｒ_４は、同一または異なって、アルキル基またはハロゲン含有アルキル基を示す。Ｙ_１、Ｙ_２は、同一または異なって、水素原子または式（２）で表される基を示す。Ｒ_５〜Ｒ_７は、同一または異なって、水素原子、アルキル基、ハロゲン基またはハロゲン含有アルキル基を示す）。 （もっと読む）

【課題】波長が３００ｎｍ帯以下の露光光に対する透過性に優れると共に、基板密着性及び現像溶解性に優れるレジスト材料を提供する。
【解決手段】レジスト材料は、［化１］の一般式で表わされる第１のユニットよりなる共重合体を含むベース樹脂を有する。
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【課題】 解像性やレジストパターン形状に優れるレジスト組成物用重合体、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。また、有機溶剤に対する溶解性に優れ、ディフェクトリスクを低減できるレジスト組成物用重合体、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 酸解離性溶解抑制基を含有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、アルキル基を有さない単環または多環式のラクトン残基を含有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）と、下記一般式（３）で表される構成単位（ａ３）とを含有することを特徴とするレジスト組成物用重合体。
【化１】
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