【課題】 膜の透明性を損なうことなく優れた耐熱性、膜硬度を有する硬化膜を形成することのできる硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ−１）：下記構造式で表される3,3,5-トリアルキルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、（ａ−２）：エチレン性不飽和モノマー［ただし、上記（ａ−１）および下記の（ａ−3）を除く］、（ａ−３）：（ａ−１）、（ａ−２）モノマーと共重合可能なカルボキシル基含有エチレン性不飽和モノマーの共重合体〔Ａ〕、多官能エポキシ化合物〔Ｂ〕、硬化促進剤〔Ｃ〕および必要に応じて少なくとも１個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物〔Ｄ〕を含む光および／または熱硬化性樹脂組成物、
【化１】


（Ｒ¹:水素、Ｃ₁〜Ｃ₇の炭化水素基を表し、Ｒ²〜Ｒ⁴はＣ₁〜Ｃ₇の炭化水素基を表す。） （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトアプリケーションのリソグラフィー工程に使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、通常露光での現像欠陥性能が改善され、液浸露光に適用した場合のＤＯＦとプロファイルの劣化が改善され、水に対する追随性が良好で、且つスカムの発生が抑制されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｆ）特定の界面活性剤を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】官能基濃度が高く幅広い波長領域において高い透明性を有するレジスト組成物。
【解決手段】式（１）の単量体を有する共重合体を含む組成物。


Ｙは、Ｈ、Ｆ、水酸基を、Ｒ^１はＨ、メチル基、Ｆ、トリフルオロメチル基を、Ｘは、Ｈ、Ｆを示し、かつＸの１個以上はＦを示す。 （もっと読む）

【課題】 ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、レジスト組成物としたときの保存安定性に優れたレジスト用重合体を製造する方法、この方法で得られたレジスト用重合体を含むレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供する。
【解決手段】 下記式（１）
【化１】


で表され、かつ、基Ａのメチル基の水素原子の少なくとも１つが０．１５０以上の部分電荷を持つ構成単位（Ａ１）を含有するレジスト用重合体の製造方法であって、溶液重合法により生成した重合体溶液を、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、ニトロ化合物、ニトリル、エーテル、ケトン、エステル、カーボネートから選ばれる少なくとも１種以上の有機溶媒中に添加することにより沈殿又は再沈殿して得られることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ＡｒＦエキシマレーザーに対する透明性、感度が高く、しかもフォトレジストによって微細、精密なパターンを形成することができるとともに、パターン形成後の耐ドライエッチング性にも優れたフォトレジスト用アクリル系樹脂及びこのアクリル系樹脂を用いたフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル酸のアダマンチルアルコール誘導体エステル単位を全体構成の２０〜８０重量％含有し、（メタ）アクリルアミド単位を、全構成単位の０．１〜３０重量％含有するフォトレジスト樹脂、及び該樹脂と放射線の照射により酸を発生する化合物とを含むフォトレジスト樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた濾過特性を有し、レジスト塗布膜上の欠陥の数を大幅に低減できるだけでなく、経時によるレジスト液の変質によるレジスト塗布膜上の欠陥も大幅に低減でき、長期保存安定性を有する半導体塗布膜用溶液を提供する。
【解決手段】粗樹脂（１）を４０〜９０℃で活性炭と接触させ、その後珪藻土類及び／又はシリカゲル類と接触させることにより得られる処理済樹脂（１）を含むことを特徴とする半導体塗布膜用溶液。該半導体塗布膜用溶液が化学増幅型レジスト組成物であり、処理済樹脂（１）とともに、酸発生剤及び溶媒を含む前記記載の半導体塗布膜用溶液。 （もっと読む）

本発明のレジスト用重合体は、シアノ基を有する特定の構成単位と酸脱離性基を有する構成単位とラクトン骨格を有する特定の構成単位とを含有するものであり、ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー、電子線リソグラフィー等においてレジスト樹脂として用いた場合に高感度、高解像度であり、レジストパターン形状が良好であり、ラインエッジラフネスの発生、マイクロゲルの生成が少ない。 （もっと読む）

【課題】レジストとしての基本物性に優れ、ラインエッジラフネスが小さい感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子鎖の末端に式（１）で表される基を有し、かつアルカリ難溶性あるいは不溶性であり、酸の作用によりアルカリ易溶性となる樹脂、及び（Ｂ）感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。
【化１】


〔式（１）中、ＸはＳ−Ｒ¹で表される２価の基を示し、Ｒ¹は置換基を有することができる炭素数１〜２０の２価の炭化水素基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】微細加工技術に適したレジスト材料及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される含フッ素化合物。


（式中、Ｒ¹及びＲ²は水素原子、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基又はフッ素化アルキル基である。Ｒは水素原子又は保護基である。）
【効果】 本発明の高分子化合物を用いたレジスト材料は、ＡｒＦ露光において優れた解像性、小さいラインエッジラフネス、優れたエッチング耐性、特に、エッチング後の表面ラフネスが小さい特性を有している。フッ素重合性エステル化合物は高分子化合物、機能性材料、医薬・農薬などの原料として有用であり、中でも波長５００ｎｍ以下、特に波長２００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、かつ、フェノール様酸性水酸基を有するため現像特性の良好な感放射線レジストを製造するためのポリマー単量体として非常に有用である。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザにより直接製版でき、高感度で、かつ高湿環境下でも保存安定性に優れたネガ型感光性樹脂組成物及びこれを用いた平版印刷用原版を提供する。
【解決手段】 少なくともポリマー骨格の主鎖として下記一般式（１）の構造単位または側鎖として下記一般式（２）の構造単位を有し、かつフェノール性水酸基を有するポリマー、或いは、少なくともポリマー骨格の主鎖として下記一般式（１）の構造単位または側鎖として下記一般式（２）の構造単位を有するポリマーと、フェノール性水酸基を有するポリマーと、のポリマー混合物、を含有することを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物、およびこれを用いた平版印刷用原版。


〔Ａｒ：置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環。Ｘ，Ｘ² ：単結合、２価の連結基。Ｙ：特定の部分構造を有する２価の連結基。Ｚ：１価の末端基。〕 （もっと読む）

【課題】レジストとしての基本物性に優れ、ラインエッジラフネスが小さい感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子鎖の末端に特定の式で表される基を有し、かつ式（２）で表される繰り返し単位、及び特定の繰り返し単位を有する樹脂、及び（Ｂ）感放射線性酸発生剤を含有する。
（もっと読む）

波長２２０ｎｍ以下での透明性に優れ、かつ感放射線性酸発生剤としたとき、感度、解像度、パターン形状、ＬＥＲ、保存安定性等に優れた性能を発現しうるスルホニウム塩化合物、並びに当該化合物を感放射線性酸発生剤とするポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
スルホニウム塩化合物は一般式（１）で表される。


〔但し、Ｒ^１はハロゲン原子、アルキル基、１価の脂環式炭化水素基、アルコキシル基、−ＯＲ^３基（但し、Ｒ^３は１価の脂環式炭化水素基。）等を示し、Ｒ^２は（置換）アルキル基を示すか、２個以上のＲ^２が相互に結合して環構造を形成し、ｐは０〜７、ｑは０〜６、ｎは０〜３であり、Ｘ⁻はスルホン酸アニオンを示す。〕
ポジ型感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）該スルホニウム塩化合物からなる感放射線性酸発生剤および（Ｂ）酸解離性基含有樹脂を含有する。
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【課題】レジスト下層膜材料であって、特に短波長での露光に対して、単独で又は反射防止効果のあるレジスト中間層膜と併せることで優れた反射防止効果を示し、すなわち最適なｎ値、ｋ値を有し、かつ、ポリヒドロキシスチレン、クレゾールノボラックなどよりも基板エッチング時のエッチング耐性に優れ、多層レジストプロセス、例えば２層又は３層レジストプロセスでの使用に好適なレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化２２】
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【課題】 形状およびエッチング耐性に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）と、下記一般式（ａ１−１）または（ａ１−２）で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも１種の構成単位（ａ１）と、下記一般式（ａ２−１）で表される構成単位（ａ２）を有するポジ型レジスト組成物［式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^２はそれぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基であり、ｔは１〜３の整数であり、Ｒ’は水素原子、低級アルキル基、または炭素数１〜５のアルコキシ基である。］。
【化１】
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本発明は、複数の不飽和基を含む架橋剤を用いた、溶媒可溶性のポリマーの合成に関するものである。本発明は、２つの目的を果たす。すなわち、剛性及びさらなる変性用の官能基を付与する。この選択重合は、有機並びに水性媒体中で、油溶性／水溶性開始剤の存在下で、熱／光化学的のどちらかで、ビニルモノマーを架橋剤の包接複合体と共重合させることを含む。用いられる架橋剤は、アクリルアミド／メタクリルアミド誘導体である。架橋剤の包接複合体を、第一段階において所望のモノマーと重合させ、そして第二段階において架橋させることができる。上記架橋剤の含有率は、０．０１〜９９．９９％であり、可溶性コポリマーが得られる。 （もっと読む）

【課題】 レジストパターン形状が良好で、微細なレジストパターンを形成できる液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含む液浸露光用ポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分（Ａ）が、水素原子を有するアルカリ可溶性基（ｉ）を有し、かつ該アルカリ可溶性基（ｉ）の一部において、その水素原子が下記一般式（Ｉ）［上記式中、Ｚは脂肪族環式基を表し；ｎは０または１〜３の整数を表し；Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１〜５の低級アルキル基を表す。］で表される酸解離性溶解抑制基（Ｉ）で置換されている樹脂（Ａ１）を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
【化１】
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【課題】 レーザー光などの露光により高感度で、重合、硬化して耐水性の皮膜を形成し、且つ未露光部の除去性優れた重合性組成物、及び、この重合性組成物を記録層として用いた、高感度で画像形成でき、機上現像性に優れるネガ型平版印刷版原版及び平版印刷方法を提供する。
【解決手段】 側鎖にスチレン基とアルキレンオキシ基とを同時に有し、好ましくは、ガラス転移温度（Ｔｇ）が６０℃以下である、ラジカル架橋性アルカリ可溶性ポリマー及びそれを含有することを特徴とする重合性組成物であり、さらに、この重合性組成物には、（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）重合開始剤を含有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 感度、解像度が高いフォトレジスト、耐熱性および電気特性に優れる硬化物を得ることができるエポキシ硬化剤、各種基材への密着性、耐熱性、耐水性に優れる塗料、フォトレジスト用樹脂として有用な重合体を提供する。
【解決手段】 式（Ｉ）の構成単位を有する重合体を含有するフォトレジスト、エポキシ硬化剤、塗料（Ｒ¹ は水素原子またはメチル基、Ｒ² は炭素数１〜４のアルキル基、ｉは０〜４の整数を表す）；および、式（II）の構成単位を有する重合体（Ｒ³ は水素原子またはメチル基、Ｒ⁴ は炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ⁵ は酸で脱離する保護基、ｊは０〜４の整数を表す）。
【化１】
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【課題】 屈折率、特に３００ｎｍ以下の波長の光源に対する屈折率が高く、かつ解像性にも優れたポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物用として好適な高分子化合物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 一般式（ａ０−１）［Ｒは水素原子または低級アルキル基、Ｒ^１〜Ｒ^７はそれぞれ独立して水素原子または低級アルキル基、Ｚは２価の環式基、Ｘはカルボニル基、ｓ，ｔ，ｕ，はそれぞれ独立して０または１〜３の整数、ｖは０または１、ｗは０または１〜３の整数。］で表される構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有することを特徴とする高分子化合物。
【化１】
（もっと読む）

【課題】 貯蔵安定性に優れ、鮮明な色調を有する有機顔料やガラス粉などの無機顔料の分散安定性が良好な顔料分散レジストを作成するための感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 水親和性のアクリル単量体（Ａ）が共重合された側鎖に、共役二重結合を有するアクリル樹脂を含有する感光性樹脂組成物とする。 （もっと読む）