【課題】 高い規定度のアルカリ現像液を用いて、ミクロ橋かけを生ぜず、優れた解像力と感光速度を有するホトレジスト、およびそれに適する新規な重合体を提供する。
【解決手段】 フェノール単位および場合によってはシクロヘキサノール単位を含む（共）重合体において、上記の単位の環上のヒドルキシル基の一部を、不活性な閉塞基で置換した共重合体；およびそれを高分子結合剤として用いたネガ型ホトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】表示ムラのない良好な表示品質で歩留まりのよいスペーサの製造が可能な表示装置ギャップ形成用感エネルギー性ネガ型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表されるトリシクロ（５，２，１，０２，６）デカ−８−イルメタタリレート３０〜８０重量％と、（ａ２）下記一般式（ＩＩ）で表される架橋性多官能モノマー２〜２０重量％と、（ａ３）他の共重合可能なビニル系モノマー０〜６８重量％を全体が１００重量％になるように配合した成分、（ｂ）活性エネルギー線の照射により遊離ラジカルを生成する重合開始剤を含有してなる表示装置ギャップ形成用感エネルギー性ネガ型樹脂組成物。




（ただし、一般式（ＩＩ）中、Ｒは２〜４価の脂肪族炭化水素基又はオキシアルキレン基、Ａはアクリロイル基又はメタクリロイル基、ｎはＡの結合数で２〜４の整数を示す） （もっと読む）

【課題】垂直配向型液晶表示素子の突起とスペーサーを同時に形成するために好適に用いられる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基またはオキセタニル基を有する不飽和化合物、（ａ３）（ａ１）および（ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物の共重合体、［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物、および［Ｃ］光カチオン重合開始剤を含有することを特徴とする、垂直配向型液晶表示素子の突起とスペーサーを同時に形成するための感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】 残存モノマー含有量の極めて少ないフォトレジスト用高分子化合物を簡易な手段で効率よく得る。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト用高分子化合物の製造方法は、酸によりアルカリ可溶となる基を有する単量体と、極性基含有脂環式骨格を含む基を有する単量体とを少なくとも含む単量体混合物を、滴下重合法により重合させる重合工程と、重合工程終了後にラジカル発生剤を添加して残存モノマーを減少させる後工程とを含む。後工程の後、重合で生成したポリマーを含む溶液を水洗に付す水洗工程をさらに含んでいてもよい。重合工程において、単量体混合物を含む単量体溶液と重合開始剤を含む重合開始剤溶液とを独立に、重合温度に昇温された溶媒中に滴下してもよい。 （もっと読む）

優れた解像性及び焦点深度幅を有するポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物に用いられるレジスト用樹脂、該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法が提供される。上記レジスト用樹脂は、（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ）を主成分とし、この構成単位（ａ）は、酸解離性溶解抑制基を含有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）、及びラクトン含有単環式基を含有し、この構成単位（ａ１）は、下記一般式（ａ１−１）［式中、Ｒは水素原子又は低級アルキル基、Ｒ^１１は、単環式の脂肪族炭化水素基を含有し、かつ多環式の脂肪族炭化水素基を含有しない酸解離性溶解抑制基］で表される構成単位を有する。（ａ１−１）
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【課題】 ＥＵＶ光による露光下で、充分良好なコントラストを有し、さらに露光時のアウトガスの問題がなく、ＰＥＢ温度依存性が低減された優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定構造の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び特定構造のＥＵＶ光の作用により酸を発生するスルホニウム塩化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 不純物含有量の極めて少ないフォトレジスト用高分子化合物を効率よく製造できる方法を提供する。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト用高分子化合物の製造法は、ラクトン骨格を含む単量体（ａ）及びヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む単量体（ｃ）から選択された少なくとも１種の単量体に対応する繰り返し単位と、酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体（ｂ）に対応する繰り返し単位とを有するフォトレジスト用高分子化合物を製造する方法であって、単量体混合物の重合により生成したポリマーを沈殿又は再沈殿させる沈殿精製工程において、沈殿又は再沈殿に用いる貧溶媒として混合溶媒を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】１９３ｎｍ以下の波長の紫外光で露光したときに優れた溶解性やコントラストをレジスト被膜に与えるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（１）：


で示される官能基含有ノルボルナニルアクリレート由来の構造単位を含む酸解離性官能基含有ポリマー（ａ）と光酸発生剤（ｂ）からなるレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、精製工程等の前処理・後処理工程をできるだけ簡略化した方法であって、透明性が高く、かつ耐熱性に優れ、かつ金属含有量の少ないビニルフェノール重合体又はビニルナフトール重合体を得る製造方法、及び、透明性が高く、かつ耐熱性に優れ、かつ金属含有量の少ないビニルフェノール重合体又はビニルナフトール重合体を提供することを目的とする。
【解決手段】圧縮性流体（Ａ）中でビニルフェノール単量体（Ｂ）、ビニルフェノール単量体の誘導体（Ｂ１）及びビニルナフトール単量体（Ｂ２）からなる群から選択される少なくとも１種の単量体を含有する単量体成分を重合し、重合体を得る工程を含むビニルフェノール重合体（Ｐ１）又はビニルナフトール重合体（Ｐ２）の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 優れた耐熱性を備えた層間絶縁膜用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）、感光剤（Ｂ）を含む感光性樹脂組成物であって、前記（Ａ）成分が、下記一般式（ａ１）で表される構成単位（ａ１）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とする層間絶縁膜用感光性樹脂組成物。
【化１】


（上記一般式中、Ｒ^０は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^１は単結合または炭素数１〜５のアルキレン基を表し、Ｒ^２は炭素数１〜５のアルキル基を表し、ａは１〜５の整数を表し、ｂは０または１〜４の整数を表し、ａ＋ｂは５以下である。なお、Ｒ^２が２個以上存在する場合、これらのＲ^２は相互に異なっていてもよいし同じでもよい。） （もっと読む）

【課題】 良好な耐熱性および透明性を備えたポジ型の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ１）で表される構成単位におけるフェノール性水酸基の水素原子の少なくとも一部がナフトキノン−１，２−ジアジド−５−（及び／又は−４−）スルホニル基で置換されている構成単位（ａ１’）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
【化１】


（上記一般式中、Ｒ^０は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^１は単結合または炭素数１〜５のアルキレン基を表し、Ｒ^２は炭素数１〜５のアルキル基を表し、ａは１〜５の整数を表し、ｂは０または１〜４の整数を表し、ａ＋ｂは５以下である。なお、Ｒ^２が２個以上存在する場合、これらのＲ^２は相互に異なっていてもよいし同じでもよい。） （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、下地との密着性等に優れたマイクロレンズ、該マイクロレンズの製造に用いられるマイクロレンズ用化学増幅ポジ型レジスト組成物等を提供することにある。
【解決手段】 本発明は、（Ａ）一般式（Ｉ）
【化１３】


［式中、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、同一または異なって、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリール等を表し、Ｘは、ＯまたはＮＲ（式中、Ｒは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表す）を表す］で表される基を有する重合体、（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物、および（Ｃ）有機溶剤を含有することを特徴とするマイクロレンズ用化学増幅ポジ型レジスト組成物等を提供する。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＲの低減された高解像性のパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１）と、酸解離性溶解抑制基を有しかつα位にフッ素原子またはフッ素化低級アルキル基が結合したアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）とを有する高分子化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

本発明は、光画像形成可能であり、そして低誘電性材料として機能するフッ素化熱硬化性組成物を提供する。かかる低誘電性材料は、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネセントディスプレイ、発光ダイオードおよび半導体製造において不動態化レジスト層として有用である。 （もっと読む）

【課題】 臭気や長期保存時の問題の原因となる連鎖移動剤を使用しなくても、溶剤置換等の煩雑な工程を必要としない簡便な方法でフッ素化アルキル基含有オリゴマーを得る製造方法を提供すること。
【解決手段】 フッ素化アルキル基含有エチレン性不飽和単量体（Ａ）を含有するエチレン性不飽和単量体類（Ｉ）中のエチレン性不飽和基１モルに対して、重合開始剤（Ｃ）を０．０７〜０．７０モル用いて前記単量体類（Ｉ）を重合してフッ素化アルキル基含有オリゴマーを得ることを特徴とするフッ素化アルキル基含有オリゴマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 感度、絶縁性、耐化学性などの性能に優れているだけでなく、特に透過度および貯蔵安定性を顕著に向上させて、ＬＣＤ製造工程の層間絶縁膜を形成することに適合した感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 本発明は感光性樹脂組成物に関するものであって、特にａ）ｉ）不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、またはこれらの混合物、ｉｉ）化学式（１）〜（８）からなる群から選択される１種以上のエポキシ基含有不飽和化合物、およびｉｉｉ）オレフィン系不飽和化合物を共重合させた後、未反応単量体を除去して得られたアクリル系共重合体；ｂ）１，２−キノンジアジド化合物；およびｃ）溶媒を含む感光性樹脂組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】 新規な重合体の製造方法、特に、電子デバイスなどに用いられる低誘電率でかつ比誘電率の経時変化の少ない絶縁膜を形成することができる重合体の製造方法に関する。さらにはそれを用いた膜形成組成物、絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】
式（Ｉ）で表される化合物を重合して重合体Ａを得る工程と、重合体Ａを還元処理して重合体Ｂを得る工程を含むことを特徴とする重合体の製造法、その重合体を含む膜形成用組成物、それを用いた絶縁膜および電子デバイス。
(Ｙ)ｍ−Ｘ−(Ｒ)ｎ 式（Ｉ）
式（Ｉ）中、
Ｘはカゴ型構造を表す。
Ｒはアセチレン性炭素三重結合を含む置換基、または、エチレン性炭素二重結合を含む置換基を表す。
Ｙは置換基を表す。
ｍは０以上の整数を表す。
ｎは１以上の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】 シリコン含有フォトレジストの基層として用いるのに適切な低屈折率のポリマーを提供する。
【解決手段】 高いエッチング耐性及び改善された光学特性を示す新規な基層組成物が開示される。基層組成物は、ビニル又はアクリル・ポリマー、例えばメタクリル・ポリマーを含み、このポリマーは、少なくとも１つの置換又は非置換ナフタレン又はナフトール部分、又はこれら混合物を含む。本発明のポリマーの例は次式、
【化１】


で表されるポリマーを含み、式中、Ｒ_１の各々は独立に、有機部分又はハロゲンから選択され、各Ａは独立に、単結合又は有機部分であり、Ｒ_２は水素又はメチル基であり、Ｘ、Ｙ及びＺの各々は０から７までの整数であり、Ｙ＋Ｚは７又はそれ以下である。上述の有機部分は、直鎖又は分枝鎖アルキル、ハロゲン化直鎖又は分枝鎖アルキル、アリール、ハロゲン化アリール、環状アルキル、及びハロゲン化環状アルキル、及びこれらの組合せから成る群から選択される置換又は非置換炭化水素とすることができる。組成物は、三層リソグラフィ工程を含む多層リソグラフィ工程における平坦化基層として使用するのに適している。 （もっと読む）

【課題】 解像性に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含み、（Ａ）成分が、ヒドロキシスチレンから誘導される第１の構成単位、アルコール性水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される第２の構成単位、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位の水酸基が酸解離性溶解抑制基で保護された第３の構成単位および／またはアルコール性水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位のアルコール性水酸基が酸解離性溶解抑制基で保護された第４の構成単位を有する第１の樹脂成分と、ヒドロキシスチレンから誘導される第５の構成単位と、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位の水酸基が酸解離性溶解抑制基で保護された第６の構成単位を有する第２の樹脂成分（Ａ２）とを含むポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 レジストパターン形成におけるコントラストを向上させる。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、下記一般式（１）で表される化合物（Ｃ）を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【化１】


（式中、Ｒ^１は炭素数１〜５の直鎖状又は分岐状のアルキレン基を表し；Ｒ^２は酸解離性溶解抑制基を表し；Ｒ^３は水素原子又は炭素数１〜４の直鎖状又は分岐状のアルキル基を表し；ｎは１〜３の整数を表す。） （もっと読む）