【課題】 波長が３００ｎｍ帯以下の露光光に対する透過性に優れると共に、基板密着性及び現像溶解性に優れるレジスト材料を提供する。
【解決手段】 レジスト材料は、［化１］の一般式で表わされる第１のユニットからなる共重合体を含むベース樹脂を有する。
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【課題】触媒組成物およびその調製方法ならびにエチレン性不飽和モノマーからポリマーを調製するための該触媒組成物の使用を提供する。
【解決手段】少なくとも１つの金属対を含有するカチオン性金属対錯体であって、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｃｒ、Ｍｎから選択される第１の金属とＮｉ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｃｒ、Ｍｎから選択される第２の金属とが１．５〜２０オングストロームの核間距離を有する特定構造の錯体を含む触媒組成物。該触媒組成物を用いた極性および／または非極性エチレン性不飽和モノマーの重合法、およびこれにより製造される付加ポリマー。 （もっと読む）

【課題】 塗料、接着剤、粘着剤、インキ用レジン、レジスト、成型材料、光学材料等の構成成分樹脂の原料として有用な（メタ）アクリル酸エステル、該（メタ）アクリル酸エステルの重合体及び該重合体を用いたレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 式（１）の（メタ）アクリル酸エステル及びこれを単量体とする重合体及び該重合体をレジスト樹脂とすることにより上記課題は達成される。
【化１】


（式中、Ｒは水素原子またはメチル基であり、Ｒ１〜Ｒ４は、Ｒ１、Ｒ２の少なくとも一つとＲ３、Ｒ４の少なくとも一つとが一緒になって、それぞれが結合している炭素原子と共に環式炭化水素基を形成し、環を形成しない残りのＲ１〜Ｒ４は水素原子またはアルキル基を表わす。） （もっと読む）

【解決手段】 式（１）及び（２）で示される繰り返し単位をそれぞれ１種以上含む重量平均分子量１，０００〜５０，０００の高分子化合物。
【化１】


［Ｒ¹、Ｒ³はＨ又はＣＨ₃。Ｒ⁴はアルキレン基。Ｒ²は式（Ｒ²−１）〜（Ｒ²−７）から選ばれる酸不安定基。
【化２】


（破線は結合位置及び結合方向を示す。Ｒ⁵はアルキル基、Ｒ⁶、Ｒ⁷はアルキル基。Ｚは結合する炭素原子と共に単環又は架橋環を形成する酸素原子を含んでもよい２価の炭化水素基、ｍは０又は１。）］
【効果】 本発明の高分子化合物は、レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として使用されて高い感度、解像性、エッチング耐性を与えると共に、優れた基板密着性、現像液親和性を有する。 （もっと読む）

【課題】
下記一般式（１）で表される重合体末端構造の変換に関するものであり、狭分散性で更に透過率にも優れたレジスト樹脂製造方法を提供する。
【化１】


（式中Ｒ_１は置換もしくは非置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、飽和または不飽和の炭素環または複素環、アルコキシ基、窒素原子を介して結合する複素環を示す。）
【解決手段】一般式（１）の重合体末端構造を有する狭分散性の重合体に連鎖移動剤と遊離ラジカル源を作用させることにより末端構造を変換する。その結果、紫外線透過率が変換以前より高められた重合体を得ることが出来る。 （もっと読む）

【課題】 熱を受けた際の臭気発生が改善された、各種用途に用いられる樹脂及び樹脂微粒子の、効率的で環境への負荷の少ない製造方法、該樹脂微粒子からなり高画質の画像を形成し得る画像形成粒子、該画像形成粒子を含有する現像剤、該現像剤を用いる画像形成方法、画像形成粒子入り容器、該画像形成粒子を装填した画像形成装置、及び該装置に着脱可能なプロセスカートリッジを提供する。
【解決手段】 少なくとも連鎖移動剤を含有するラジカル重合性単量体を重合させることにより得られる樹脂に、超臨界流体及び亜臨界流体の少なくともいずれかを用いて接触させ、該樹脂から連鎖移動剤を除去する連鎖移動剤除去工程を少なくとも含むことを特徴とする樹脂の製造方法。 （もっと読む）

真空紫外領域における透明性に優れ、フォトレジスト用として、特にＦ２レジスト用として超微細パターンを形成することができる含フッ素重合体であって、炭素数２または３のエチレン性単量体であって少なくとも１個のフッ素原子を有する含フッ素エチレン性単量体（ｍ１）に由来する繰り返し単位（Ｍ１）および／または重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得るフッ素原子を含んでいてもよい単量体（ｍ２）に由来する繰り返し単位（Ｍ２）を有し、かつ重合体中に酸で反応する酸反応性基Ｙ^１または酸反応性基Ｙ^１に変換可能な基Ｙ^２を有する含フッ素重合体を得るに当たり、該含フッ素エチレン性単量体（ｍ１）および／または該重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得る単量体（ｍ２）をフッ素原子を有する重合開始剤を用いてラジカル重合することを特徴とする真空紫外光の透明性に優れたレジスト用含フッ素重合体の製造方法。 （もっと読む）

【目的】
高感度で、しかも安価な光酸発生剤を使用でき、近紫外露光および弱アルカリ現像で高解像度を示し、スルホールのある基板にも対応でき、近紫外光で露光して弱アルカリ現像液で現像することにより微細なパターン加工を解像性良く行うことができるポジ型感光性レジスト組成物を提供する。
【構成】
一分子中に少なくとも1つの４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン基を有する光酸発生剤及び有機アミン化合物、酸感応性共重合体を含んでなることを特徴とするポジ型感光性レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 サーマルフロープロセスにおいて、パターン制御性が良好な技術を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大するベース樹脂成分、及び（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、
前記（Ａ）成分は、１９３ｎｍにおける吸光度が１．０（１／μｍ）以下であり、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５以下である樹脂を含み、かつ
当該ポジ型レジスト組成物が、サーマルフロープロセス用であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【解決手段】 式（１）及び（２）で示される繰り返し単位をそれぞれ１種以上含む重量平均分子量１，０００〜５０，０００の高分子化合物。
【化１】


［Ｒ¹、Ｒ³はＨ又はＣＨ₃、Ｒ⁴はアルキレン基、Ｒ²は式（Ｒ²−１）〜（Ｒ²−４）から選ばれるラクトン構造を有する置換基。
【化２】


（ＹはＣＨ₂又はＯ、ＹがＣＨ₂の場合、Ｒ⁵はＣＯ₂Ｒ⁷、ＹがＯの場合、Ｒ⁵はＨ又はＣＯ₂Ｒ⁷、Ｒ⁶はＨ又はアルキル基、Ｒ⁷はアルキル基又は該アルキル基の炭素−炭素結合間に酸素原子が挿入された基。）］
【効果】 本発明の高分子化合物は、レジスト材料、特に化学増幅型ポジ型レジスト材料のベース樹脂として使用されて、高い感度、解像性、ドライエッチング耐性を与えると共に、基板密着性が良好で、パターン側壁の荒れが防止されたレジストパターンを与える。 （もっと読む）

【課題】 優れた解像性を有し、かつ発生する酸の強度が弱い酸発生剤を用いても良好にレジストパターンを解像できるポジ型レジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を製造するのに好適な化合物、該高分子化合物を含有してなるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される化合物。下記一般式（１１）で表される構成単位（ａ１）を含むことを特徴とする高分子化合物。該高分子化合物を含有してなるポジ型レジスト組成物。該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。
【化１】
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【課題】 優れた解像性を有するとともに、発生する酸の強度が弱い酸発生剤を用いても良好にレジストパターンを解像できるポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（II）で表される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物。
【化１】


（式中、Ｒ^１は水素原子又は低級アルキル基である。Ｒ^３は炭素原子数１〜１５のアルキル基又は脂肪族環式基であって、エーテル結合、水酸基、カルボニル基、エステル基、およびアミノ基からなる群から選ばれる１種以上の置換基を有していてもよい。ｎ_２は０又は１〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】 解像度が高く、かつＬＥＲが小さいレジストパターンを形成できるようにする。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される構成単位（ａ４）を有することを特徴とする化学増幅型フォトレジスト用重合体。
【化１】


（式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基であり、Ｒ²は炭素数１〜２０個の直鎖状、分岐状又は環状の炭化水素基であり、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶は各々独立して水素原子又は炭素数１〜６の直鎖状又は分岐状のアルキル基を表し、Ｒ⁷は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基、アルキレンエーテル基、シクロへキシレン基またはアリーレン基を表す。） （もっと読む）

アルカリ可溶性コポリマー、アルカリ可溶性コポリマーを含む平版印刷版前駆体として有用な画像形成性要素および画像形成性要素を利用する画像の形成方法が開示される。アルカリ可溶性コポリマーは、重合した形態で、以下を含んでなり：（ａ）Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミドまたはそれらの混合物；（ｂ）アクリルアミド、メタクリルアミドまたはそれらの混合物；（ｃ）アクリロニトリル、メタクリロニトリルまたはそれらの混合物；および
（ｄ）以下の構造のモノマーからなる群から選択される１種または複数のモノマー：
ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ）−Ｚ−Ｘ−ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨ−Ｙ−Ｒ’、前式において、Ｘが、−［Ｃ（ＣＨ₃）₂］−または−［（ＣＨ₂）_n］−であり、ｎが０〜１２であり；Ｙがｏ−、ｍ−またはｐ−の−［Ｃ₆Ｈ₄］−であり；Ｚが、−［Ｃ（Ｏ）Ｏ］−、−［Ｃ（Ｏ）ＮＨ］−またはｏ−、ｍ−またはｐ−の−［Ｃ₆Ｈ₄］−であり；
Ｒが、水素またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルであり；Ｒ’が、−ＯＣ（Ｏ）−ＯＲ”、−ＯＣ（Ｏ）−Ａｒまたは−ＯＳＯ₂−Ａｒであり；Ｒ”が、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アリールアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アリール、Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルケニルまたはトリメチルシリルであり；Ａｒが、Ｃ₆Ｈ_5-n’Ｔ_n’であり、Ａｒは、合計で６〜１０の炭素原子を有し；各Ｔが、独立に、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、トリフルオロメチル、メトキシおよびシアノからなる群から選択され；ｎ’が０〜５の整数であり；前記コポリマーが、少なくとも約１１より高いｐＨを有するアルカリ性溶液に可溶である。 （もっと読む）

本発明は、水性アルカリ性現像剤中で現像が可能な光結像性ポジ型底面反射防止膜組成物であって、発色団基を有する少なくとも一種の繰り返し単位と、ヒドロキシル及び／またはカルボキシル基を有する少なくとも一種の繰り返し単位とを含んでなるポリマー、末端ビニルエーテル基を有する架橋剤、場合によっては及び光酸発生剤及び／または酸及び／または熱酸発生剤を含む、前記組成物に関する。本発明は更に、このような組成物の使用方法にも関する。 （もっと読む）

二重層のレリーフ画像を製造するための熱硬化性アンダーコート組成物であって、ａ）構造（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）：
【化１】


［ここで、Ｒ¹は夫々独立に、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基又はハロゲン原子を表し、Ｌは単結合、−ＣＯＯ−基又は−ＣＯＮ（Ｒ²）−基を表し、Ｒ²は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｍは炭素数５〜７のシクロアルキレン基又は炭素数６〜１８のアリーレン基を表し、Ｗは単結合、−ＣＯＯ−基、−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）−又は−（ＳＯ₂）−を表し、Ｒ³は水素原子、炭素数５〜３０の置換されていないか又は置換された直鎖状アルキル基、炭素数５〜３０の置換されていないか又は置換されたシクロアルキル基、炭素数５〜２５の置換されていないか又は置換された架橋した脂環式炭化水素基、炭素数６〜１８の置換されていないか又は置換されたアリール基又は炭素数７〜１８のアリールアルキル基を表し、ｎは１〜３の整数を表し、ｑは０〜３の整数を表し、且つｎとｑの合計は５以下であり、Ｒ⁴は炭素数１〜１０の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基又はハロゲン基を表し、そしてＲ⁵は炭素数５〜３０の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基、置換されていないか又は置換された脂環基又は（Ｒ⁶Ｏ）_tＲ⁷基（ここで、Ｒ⁶は炭素数１〜１０の直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基を表し、Ｒ⁷は炭素数１〜３０の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基、置換されていないか又は置換された脂環基、又は置換されていないか又は置換された芳香族基又はアルキル芳香族基を表し、そしてｔは１〜４の整数を表す）を表す］の繰返し単位を含む構造（Ｉ）のポリマー；ｂ）フェノール系架橋剤；ｃ）熱酸発生剤（ＴＡＧ）；及びｄ）溶剤を含む、熱硬化性アンダーコート組成物。
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本発明は、深紫外線液浸リソグラフィを用いてトップコートを利用して深紫外線（deep uv）フォトレジストを像形成する方法に関する。本発明は更に、約−９〜約１１の範囲のｐＫａを有する少なくとも一種のイオン化可能な基を有するポリマーを含むトップコート組成物に関する。また本発明は、環境汚染物からのフォトレジストの汚染を防ぐために、トップバリヤコートを用いてフォトレジストに像形成する方法に関する。 （もっと読む）

本発明は層間絶縁膜や表面保護膜等に用いられる感光性樹脂組成物において、解像性に優れた、アルカリ水溶液で現像可能な感光性樹脂組成物を提供するものであり、下記一般式IIで表される繰返し構造単位を少なくとも有する重合体を用いて感光性樹脂組成物を調製する。


（式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^２〜Ｒ^９はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｘは−ＣＨ＝Ｎ−、−ＣＯＮＨ−、−(ＣＨ_２)_ｎ−ＣＨ＝Ｎ−、又は−（ＣＨ_２）_ｎ−ＣＯＮＨ−であり、Ｘ中のＮ原子はｏ−位がＡＯ−基のベンゼン環の炭素原子に結合しており、Ａは水素原子又は酸により分解する基を表し、ｎは１〜３の正の整数を表す。） （もっと読む）

a) 処理されていないか又は前処理されている基板、及びb) (i)水性アルカリ性現像剤中に可溶性又は膨潤性の1種以上の高分子バインダー；(ii)1つ以上の非芳香族C-C二重結合と1つ以上のSH基とを分子中に含む1種以上のラジカル重合可能モノマー及び/又はオリゴマー；及び(iii)ラジカル重合のための輻射線感受性開始剤又は開始剤系を含む輻射線感受性塗膜を含んで成る平版印刷版前駆体であって、成分(ii)が式(I)、［ここで当該式中、各R^1a、R^1b、及びR^1cは独立して、H、C₁-C₆アルキル、C₂-C₈アルケニル、アリール、ハロゲン、CN及びCOOR^1dから選択され、ここでR^1dは、H、C₁-C₁₈アルキル、C₂-C₈アルケニル、C₂-C₈アルキニル、又はアリールであり；そして、Zは脂肪族、複素環式又は複素芳香族スペーサー、又はこれらのうち2つ又は3つ以上の組み合わせであり、Zは随意選択的に、1つもしくは2つ以上の追加のSH基、及び/又は1つもしくは2つ以上の追加の非芳香族C-C二重結合を含むことができ；そして、各Z¹は独立して、単結合、式(Ia)、(Ib)、(Ic)、(Id)、(Ie)、(If)、(Ig)、(Ih)、(Ij)、(Ik)、(Im)、(In)、(Io)、(Ip)、(Iq)、(Ir)、(Is)、(It)、(Iu)、(Iv)、から選択される、（ここで式中、R^2a、R^2b、及びR^2cは独立して、H、C₁-C₆アルキル、及びアリールから選択され、Z²は、単結合、O、S及びNR^2cから選択され、Z³は、Zに結合された単結合であり、bは、整数1〜10であり、そしてcは、整数1〜3である）］を有する平版印刷版前駆体。
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開示された発明は、ペンダントラクトン又はスルトン基を含む新規ノルボルネン型モノマーに関する。発明はまたペンダントラクトン又はスルトン基を含むノルボルネン型ポリマー及びコポリマーに関する。これらのポリマー及びコポリマーは感光材料の製造に有用である。感光材料は、１９３及び１５７ｎｍのフォトリソグラフィーに有用なフォトレジスト組成物において使用するのに特に適している。
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