【課題】露光及び現像により感光性組成物の硬化物からなるパターン膜を基板上に形成した場合に、形成されたパターン膜の基板への密着性を高めることができる感光性組成物、並びに該感光性組成物を用いたパターン膜の製造方法を提供する。
【解決手段】メルカプト基を有するシロキサンポリマーと、光重合開始剤とを含有し、上記シロキサンポリマーが、上記シロキサンポリマーの全骨格１００％中に、下記式（１Ａ）で表されるシラン化合物に由来する骨格が５〜３０％の範囲内で含有されており、上記シロキサンポリマーが、ケイ素原子に炭素原子が直接結合されている有機基を有し、該有機基の１〜５０％がメルカプト基を有する感光性組成物。
Ｓｉ（Ｘａ）_２（Ｘｂ）_２ ・・・式（１Ａ）
上記式（１Ａ）中、Ｘａは加水分解性基を表し、Ｘｂは炭素数１〜３０の非加水分解性の有機基を表す。 （もっと読む）

【課題】耐クラック性、パターニング性および耐熱性に優れる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】下記成分（Ａ）及び（Ｂ）を含有することを特徴とする感放射線性組成物。
（Ａ）下記一般式（１）で表される加水分解性シラン化合物、該加水分解性シラン化合物の加水分解物、及び該加水分解物の縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１種


［一般式（１）中、Ｒ^１は、炭素数１〜１２のアルキル基等である。Ｒ^２は、置換基を有してもよい炭素数２〜３０のアルキレン基等である。Ｘは加水分解性基である。Ａは４価の有機基を示す。ｐは各々独立に０〜２の整数であり、ｑは各々独立に１〜３の整数であり、かつｐ＋ｑ＝３である。］
（Ｂ）光酸発生剤 （もっと読む）

本発明は、純粋化合物又は化合物の混合物としてのハロゲン化ポリシラン（ポリシランとして以下に示す）、また、このポリシランを熱処理による製造方法に関する。ポリシランはその²⁹Si NMRスペクトルでの特性変化及びラマンスペクトルでのバンドの典型的な強度比によって特徴付けられる。ポリシラン（Sn_nX_y）は高比率の分枝鎖及び環を有する。ハロゲン化ポリシランの製造方法は、高い処理量（工業生産）や特に可溶性のポリシランの製造に関して改善されている。 （もっと読む）

少なくとも１つのハロジシラン、及び任意に少なくとも１つのハロシランを、有機溶媒の存在下で、少なくとも１つのアルコールと反応させて、アルコール分解生成物を産生すること、アルコール分解生成物を水と反応させて、加水分解物を産生すること、並びに加水分解物を加熱して、樹脂を産生することを含む、シリコーン樹脂を製造する方法。 （もっと読む）

【解決手段】分子内に２つ以上のＳｉ−Ｈ基を持つケイ素化合物を原料とし、該水素原子を脱水素することで得られた、主鎖中にＳｉ−Ｓｉ結合を有する高分子化合物。
【効果】本発明によれば、フォトレジスト材料、プレセラミックス材料、あるいは導電性材料用の素材などとして有用なＳｉ−Ｓｉ結合を主鎖中に有する高分子化合物を工業的有利に効率よく製造することができる。 （もっと読む）

少なくとも２つの高分子層を含む強化シリコーン樹脂フィルムであって、高分子層の少なくとも１つが、ジシリロキサン単位を含む少なくとも１つのシリコーン樹脂の硬化生成物を含み、且つ高分子層の少なくとも１つが炭素ナノ材料を含む、少なくとも２つの高分子層を含む強化シリコーン樹脂フィルム。 （もっと読む）

【課題】硬化性に優れており、硬化剤の非存在下であっても単独で硬化可能であり、また、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂の硬化剤としても有用なポリシランを提供する。
【解決手段】ポリシランを、式（１ａ）で表される構造単位、及び式（１ｂ）で表される構造単位で構成する。


（式中、Ｒ^１ａは置換基を有していてもよいアリール基を示し、Ｒ^１ｂは置換基を有していてもよいアルキル基を示す。）
前記式（１ａ）において、Ｒ^１ａがフェニル基であり、式（１ｂ）において、Ｒ^１ｂがメチル基であってもよい。 （もっと読む）

【課題】新規なポリシラン化合物及びその合成方法の提供、並びに上記化合物を用いた、硬化（重合）速度が高く、保存安定性に優れる紫外線硬化型のインク組成物の提供。上記インクを用いたインクジェット記録方法、上記インクが収容されてなる容器及び記録装置の提供。
【解決手段】下記式１で表される構造を有する紫外線硬化型インク組成物。
（もっと読む）

【課題】液相プロセスを用いて、安定かつ所望な膜厚の膜を形成することができる高次シラン組成物、かかる高次シラン組成物により製造される膜付基板の製造方法、膜付基板を備える電気光学装置および電子デバイスを提供すること。
に関するものである。
【解決手段】高次シラン組成物は、高次シラン化合物と、置換または無置換の炭化水素系溶媒を含む溶媒とを含有し、前記溶媒として、前記高次シラン化合物が溶解し得るように、屈折率が１．５３以上のものを選択する。また、炭化水素系溶媒は、比誘電率が１０以下であるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】光半導体用接着剤などに用いられるイソシアヌル環含有重合体およびそれを含む組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）


ここで、Ｒ_１は１価の有機基であり、Ｒ_２は２価の有機基である、
で表される繰り返し単位を有しそして重量平均分子量が１，０００〜１，０００，０００のイソシアヌル環含有重合体。 （もっと読む）

低炭素含量を有するシリコン膜の前駆体として、可溶性シリコンポリマーを生成するための、一般式Ｓｉ_ｎＨ_２ｎ及びＳｉ_ｎＨ_２ｎ＋２のもの並びにアルキル及びアリールシランを含むヒドロシラン化合物の、制御された重合及び／又はオリゴマー化のための組成物及び方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、透明性などのポリシランが持つ高い基本物性を有し、かつ絶縁性、屈折率、撥水性などの諸特性が自由に調整可能なポリシラン化合物を提供すること。
【解決手段】分子内にフッ素含有基を有するフッ素含有ポリシラン化合物であって、該フッ素含有基の少なくとも１個が、酸素原子を介して主鎖のケイ素原子に結合している、フッ素含有ポリシラン化合物。 （もっと読む）

【課題】従来のナノシリコン材料の応用面の限界を克服し、シリコンの薄膜形成を可能にした、形状異方性の薄片粒子（シリコンナノシート）とその製造方法を提供するものである。
【解決手段】二ケイ化カルシウムを−３０℃以下に冷却した濃塩酸水溶液と反応させて、組成式（ＳｉＨ）_ｎで示される層状ポリシラン粉末を生成させ、得られた層状ポリシラン粉末と末端に炭素―炭素二重結合または炭素−炭素三重結合を有する不飽和有機化合物とをヒドロシリル化反応触媒を用いて反応させ、層状ポリシランのＨ基を有機基に置き換えることにより、シリコンナノシートを得る。 （もっと読む）

【課題】取り扱いが容易で、低エネルギーで露光可能であり、ポジ型感光性材料として有用であり、高い透明性、耐熱性、および絶縁性を有し得る薄膜を形成可能なポリシラン化合物を提供すること。
【解決手段】フェノール性水酸基含有基およびカルボキシル基含有基のうちの少なくとも一方を有するポリシラン化合物であって、該フェノール性水酸基含有基およびカルボキシル基含有基のうちの少なくとも１個が、酸素原子を介して主鎖のケイ素原子に結合している、ポリシラン化合物。 （もっと読む）

【課題】常圧下で、塗布法により、基体上に、均一なゲルマニウムドープシリコン導電膜を形成する方法およびそのためのリン原子含有高次シラン化合物の製造法の提供。
【解決手段】光重合性シラン化合物およびゲルマニウム化合物を含有する溶液に、４００ｎｍより長い波長の光線を照射せしめてゲルマニウム原子含有高次シラン化合物を生成せしめるゲルマニウム原子含有高次シラン化合物の製造法。上記方法で得られたゲルマニウム原子含有高次シラン化合物を含む溶液を基板に塗布し、さらにその塗布基板を熱処理することからなるゲルマニウム含有シリコン膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】常圧下で、塗布法により、基体上に、均一な燐ドープシリコン導電膜を形成する方法およびそのためのリン原子含有高次シラン化合物の製造法の提供。
【解決手段】光重合性シラン化合物およびリン化合物を含有する溶液に、４００ｎｍより長い波長の光線を照射せしめてリン原子含有高次シラン化合物を生成せしめるリン原子含有高次シラン化合物の製造法。上記方法で得られたリン原子含有高次シラン化合物を含む溶液を基板に塗布し、さらにその塗布基板を熱処理することからなるリン含有シリコン膜の形成方法。 （もっと読む）

本発明は、その配位子球中に少なくとも１個のη^６−結合アレーン配位子及び１個のシリル−配位子を有するルテニウム−錯体；その配位子球中に少なくとも１個のη^６−結合アレーン配位子を有し、それに直接又はスペーサーを介して１個のシリル−又はシロキシ−基が結合されているルテニウム−錯体及びその配位子球中に少なくとも１個のη^６−結合アレーン配位子及び少なくとも１個の他の配位子を有し、それに直接又はスペーサーを介して１個のシリル−又はシロキシ−基が結合しているルテニウム−錯体を含む群から選択されるルテニウム−化合物、その製造及びヒドロシリル化での触媒としての使用に関する。 （もっと読む）

【課題】低誘電率で均一な塗膜性に優れる絶縁膜を形成可能な組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される化合物及び／またはその加水分解物及び／またはそれらの縮合物と有機溶剤を含む膜形成用組成物であって、該化合物及び／またはその加水分解物及び／またはそれらの縮合物が粒径２ｎｍから１５ｎｍの粒子状物である。


（Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄は水素原子または任意の置換基を表す。Ｘ₁は炭素原子またはケイ素原子を表す。Ｌ₁は２価の連結基を表す。Ｒ₁、Ｒ₂のうち少なくとも１つは加水分解性基を表す。ｍは０または１を表し、ｍが０の場合ｎは３〜５の整数を表し、ｍが１の場合ｎは２〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】導電性が高く、かつ溶媒への溶解性を有するシリコン含有導電性高分子材料およびその製造方法ならびに導電性膜を提供する。
【解決手段】Ｓｉ−Ｓｉ結合を有する複数の鎖状分子が、当該各鎖状分子中のＳｉ原子間でフェニレン基によって架橋されてなることを特徴とするシリコン含有導電性高分子材料である。また、側鎖としてフェニル基を有するポリシラン化合物を含む溶液１１に、光を照射することで、上記シリコン含有導電性高分子材料を製造する方法である。さらに、上記シリコン含有導電性高分子材料によって構成された導電性膜である。 （もっと読む）

【課題】容易且つ安価に製造可能で、発光色の制御が容易な発光性シリコンポリマーを提供する。
【解決手段】発光性シリコンポリマーは、組成式Ｓｉ_xＨ_yＲ_z（ここで、Ｒは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、ｎ−トリデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペンタデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル、ｎ−オクタデシル、ｎ−ノナデシル、ｎ−エイコシル、ｉ−プロピル、ｉ−ブチル、ｉ−ヘキシル、ｓｅｃ−ブチル、２−エチルヘキシル、ベンジル、β−フェネチル、γ−フェニルプロピル、又はδ−フェニルブチルを表し、ｘ≧ｙ＋ｚ、０．０００１≦ｙ、０．０００１≦ｚであり、各Ｈ及びＲは、それぞれ異なるＳｉに直接結合している）で表される。 （もっと読む）