【課題】耐熱性、透明性および耐光性のいずれにも優れるポリボロシロキサンからなる光半導体素子封止用樹脂、および、ポリボロシロキサンからなる前記光半導体素子封止用樹脂で封止している光半導体装置を提供すること。
【解決手段】ケイ素化合物とホウ素化合物とを反応させることにより得られる、ポリボロシロキサンからなる光半導体素子封止用樹脂、および、ポリボロシロキサンからなる前記光半導体素子封止用樹脂を用いて光半導体素子を封止してなる発光ダイオード装置。 （もっと読む）

本発明は、シラン末端ポリウレタンを発泡及び硬化することにより得られる、ポリウレタンに基づく新規な創傷接触材料を提供する。 （もっと読む）

【解決手段】ビニル基を有する化合物およびケイ素−水素結合を有するケイ素化合物を含有することを特徴とする、微細パターンを形成するための転写材料用組成物。
【効果】本発明の転写材料用組成物を用いれば、半導体製造プロセス、垂直磁気記録方式のパターンドメディア製造プロセス等において１０μｍ以下の金型形状が正確に転写された、残膜の少ない微細パターンを形成することができる。また本発明の微細パターンの形成方法は、前記転写材料用組成物を用いて、１０μｍ以下の金型形状を薄膜に正確に転写することができ、残膜の少ない微細パターンを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、種々の基材表面にガス透過性、生物適合性、低摩擦または絶縁の性質を付与するように設計した脂肪族ヒドロシクロシロキサン膜を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、所望によりコモノマーと共重合された重合脂肪族ヒドロシクロシロキサンモノマーを含有するプラズマ重合膜およびこれら膜の製造方法を開示する。これら方法を用いて基材を被覆して、疎水性、血栓抵抗性、ガス透過性および生物適合性などの性質を付与することができる。 （もっと読む）

【課題】より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成可能であるとともに、半導体の製造プロセスに適用することのできる、実用性の高いパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（１）レジスト層を選択的に露光した後、現像して第一のパターンを形成する工程と、（２）隣接する第一のパターンどうしの間に、ポリシロキサンを含む樹脂成分及び溶媒を含有するとともに、酸発生剤から発生する酸の作用により架橋可能な樹脂組成物からなる未架橋埋め込み部を形成する工程と、（３）未架橋埋め込み部の所定領域を架橋させて、第一のパターン、第一の架橋部、未架橋埋め込み部、及び第二の架橋部がこの順で配列して繰り返す配列構造を形成する工程と、（４）第一のパターン及び未架橋埋め込み部を除去して第二のパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】ＵＶ−ｉ線での感光特性及び有機薄膜に対する接着性に優れ、２５０℃以下での低温硬化が可能であり、この加熱硬化の過程での体積収縮が極めて小さく、更に加熱硬化後の樹脂構造体および樹脂膜において、低デガス性に優れる新規なポリオルガノシロキサン組成物の提供。
【解決手段】下記（ａ）〜（ｃ）の各成分を含むポリオルガノシロキサン組成物。
（ａ）特定のシラノール化合物及び特定のアルコキシシラン化合物を混合し、触媒の存在下、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られる、ポリオルガノシロキサン１００質量部
（ｂ）光重合開始剤０．２〜２０質量部
（ｃ）スルファニル基を少なくとも２つ以上含む多価チオール化合物１〜５０質量部 （もっと読む）

【課題】改良された機械的かつ熱的特性を有する自立性シリコーン樹脂フィルムを提供する。
【解決手段】式 Ｏ_(3-a)/2Ｒ¹_aＳｉ−ＳｉＲ¹_bＯ_(3-b)/2 （Ｉ）を有するジシリロキサン単位および粒子形状のシロキサン単位を含むシリコーン樹脂；シリコーン樹脂を含有するシリコーン組成物；硬化生成物またはシリコーン樹脂の酸化生成物を含む被覆基材；および補強シリコーン樹脂フィルム。 （もっと読む）

【課題】ハードコート特性と防錆機能を有する高分子組成物を提供する。
【解決手段】
（ａ）以下の式で表わされるアミノ基を含むシラン化合物
Ｒ_４−ｎ−Ｓｉ−（ＯＲ’）_ｎ
（式中、Ｒはアミノ基含有の有機基を表わし、Ｒ’はメチル基、エチル基またはプロピル基を表わし、ｎは１〜３から選択される整数を表わす）；及び
（ｂ）Ｈ_３ＢＯ_３及びＢ_２Ｏ_３からなる群から選択される少なくとも１種のホウ素化合物：
を、（ａ）成分１モルに対して（ｂ）成分０．０２モル以上の比率で反応させて得られる反応生成物を含む、高分子物質と、
（ｃ）イミダゾール系窒素へテロ環化合物、トリアゾール系窒素へテロ環化合物、テトラゾール系窒素へテロ環化合物、及びピラゾール系窒素へテロ環化合物、並びにこれらの化合物の塩から成る群から選択される少なくとも一種の化合物と、
を含む、高分子組成物。 （もっと読む）

レジスト下層膜加工用ハードマスク組成物が提供される。前記ハードマスク組成物は、オルガノシラン重合体および溶媒または溶媒の混合物を含み、前記オルガノシラン重合体は、酸触媒の存在下で、式１、２、および３で表される化合物の加水分解物の重縮合によって調製される：


式中、Ｘは、少なくとも１つの置換または非置換の芳香環を含むＣ_６−Ｃ_３０の官能基であり、Ｒ^１はＣ_１−Ｃ_６のアルキル基である；


式中、Ｒ^２はＣ_１−Ｃ_６のアルキル基であり、Ｒ^３はＣ_１−Ｃ_１２のアルキル基である；


式中、Ｒ^４およびＲ^５はそれぞれ独立してＣ_１−Ｃ_６のアルキル基であり、Ｙは、芳香環、置換または非置換の、直鎖または分岐のＣ_１−Ｃ_２０のアルキレン基、骨格中に芳香環、複素環、ウレア基またはイソシアヌレート基を含むＣ_１−Ｃ_２０のアルキレン基、および少なくとも１つの多重結合を含むＣ_２−Ｃ_２０の炭化水素基からなる群から選択される連結基である。
本発明のハードマスク組成物は、優れた膜特性および良好な保存安定性を示し、その満足できるハードマスク特性によって材料層に良好なパターンを転写することを可能にする。加えて、本発明のハードマスク組成物は、後続のパターンのエッチングの際にＯ_２プラズマガスに対して改善されたエッチング耐性を有する。前記ハードマスク組成物は、高い親水性の薄膜の形成に使用することができ、したがって薄膜の上部の反射防止コーティングとの界面の相溶性の改善に効果的である。さらに、前記ハードマスク組成物を用いた半導体集積回路デバイスの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 特殊な粘弾性を有し、触感が良好である粒状シリコーン硬化物、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 (Ａ)一分子中に少なくとも２個のケイ素原子結合アルケニル基を有するポリジオルガノシロキサン、(Ｂ)平均単位式：(Ｒ₃ＳｉＯ_1/2)_x(ＳｉＯ_4/2)_1.0（式中、Ｒは同じか、または異なる一価炭化水素基、但し、一分子中の少なくとも１個のＲはアルケニル基であり、ｘは０.６〜４.０の数である。）で示されるポリオルガノシロキサンレジン、および(Ｃ)一分子中に少なくとも２個のケイ素原子結合水素原子を有するポリオルガノシロキサンを、(Ｄ)白金系触媒により硬化してなる、平均粒径が０.１〜５００μｍである粒状シリコーン硬化物、(Ａ)成分〜(Ｃ)成分を乳化剤により水中に分散状態で、(Ｄ)成分により硬化することを特徴とする上記粒状シリコーン硬化物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】エポキシ基含有オルガノポリシロキサンを、簡便な方法で１ポットで得ることができ、目的物の選択率に優れ、経時変化の少ないエポキシ基含有オルガノポリシロキサンを製造する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】有機溶媒中において、特定式で示されるエポキシ基を有するアルコキシシラン化合物又は該エポキシ基を有するアルコキシシラン化合物と特定式で示されるアルコキシシラン化合物を、前記アルコキシシラン化合物の全アルコキシ基１モルに対して０．８〜１．１モルの水を添加し、アルコキシ基を加水分解する工程と、引き続き、前工程において添加された水１モルに対して、酸無水物基当り１．５〜３モルに相当する酸無水物を添加して縮合反応を行う工程と、を含むエポキシ基含有オルガノポリシロキサンの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高弾性のためシール性に優れ、湿度変化によるプロトン伝導性能の変動が小さく、特に低湿下におけるプロトン伝導性能にも優れるプロトン伝導性膜の材料となり得る珪素−酸素架橋構造体及びその製造方法、これを用いた高分子電解質用シリコーンゴム組成物、該組成物の硬化物よりなるゴム弾性を有するプロトン伝導性高分子電解質膜を提供する。
【解決手段】エポキシ基を持つアルコキシシランと硫黄原子含有基を持つアルコキシシランとを、水及び酸化剤の存在下で反応させ、前記両アルコキシシランの共加水分解・縮合と、前記酸化剤による硫黄原子含有基のスルホン酸基への変換と、前記エポキシ基の開環及びこれに基づき生成した水酸基の縮合を行わせることによって得られた珪素−酸素架橋構造体、これを含有する高分子電解質膜用シリコーンゴム組成物、該組成物の硬化物よりなるゴム弾性を有するプロトン伝導性高分子電解質膜。 （もっと読む）

【課題】加熱処理時の着色がなく、光透過率良好、高露光感度等の性能を有する保護層が得られる熱硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】（β２）少なくとも１つ無水物骨格の有機基を有するシランカップリング剤を加水分解縮合成分として含むシロキサン樹脂、（Ｂ）エチレン性不飽和基を２個以上有する化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含み、さらに、シロキサン樹脂以外の（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を含有する熱硬化性組成物であって、ＴＦＴアクティブマトリックス基板或いはカラーフィルタ基板の保護膜として有用な硬化物が得られる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ハンダリフロー工程を必要とする固体撮像素子や電子部品一体型製品の製造用として有用な２６０℃リフロー耐熱性を有し、またそれ以外の密着性、伸度、耐温度衝撃性にも、優れた特性を有する感光性透明樹脂を用いたマイクロプラスチックレンズ又は液晶偏光板用光学素子を提供する。
【解決手段】特定の組合せの３元素からなる有機シランを含む化合物を、触媒存在下で４０℃〜１５０℃以下の温度で０．１〜１０時間重縮合して得られる樹脂を含有する感光性樹脂組成物、及びこれを用いたマイクロプラスチックレンズ又は液晶偏光板用光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として好適に用いることができる絶縁膜形成用組成物およびその製造方法、ならびに前記絶縁膜形成用組成物を用いたシリカ系絶縁膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、（Ａ）成分；下記一般式（１）で表される化合物および下記一般式（２）で表される化合物の群から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物と、（Ｂ）成分；下記一般式（３）で表される構造を有するカルボシランとを加水分解縮合して得られた加水分解縮合物と、有機溶媒と、を含む。Ｒ^１_ａＳｉ（ＯＲ^２）_４−ａ ・・・・・（１） Ｒ^３_ｂ（Ｒ^４Ｏ）_３−ｂＳｉ−（Ｒ^７）_ｄ−Ｓｉ（ＯＲ^５）_３−ｃＲ^６_ｃ ・・・（２）


・・・・・（３） （もっと読む）

【解決手段】(１)一般式(ｉ)で表わされるモノメチルシランの１種又は２種以上の混合物と、
ＣＨ₃ＳｉＣｌ_m(ＯＲ’)_3-m (ｉ)
(Ｒ’は炭素数３〜１０のアルキル基又はアリール基を表し、ｍ＝０，１又は２である。)
(２)ＣＨ₃ＳｉＣｌ₃以外のクロルシランと
をモル比として(１)／(２)＝５／９５〜１００／０の割合で用いたシラン原料を、
(Ａ)水と、
(Ｂ)水と混合、静置すると水と２相に分離する有機溶媒と
からなる溶媒混合物を撹拌しているところに、上記シラン原料中の加水分解性基Ｓｉ−Ｘ(Ｘ＝Ｃｌ及びＯＲ’)に対する(Ａ)成分の水のモル比が水／Ｓｉ−Ｘ＝５〜５０の範囲を満たすように加え、反応させることを特徴とする分子鎖末端にＳｉＯＨ基を有するシリコーン樹脂の製造方法。
【効果】本発明の製造方法によれば、末端がＳｉＯＨ基で封鎖されたシリコーン樹脂を経済的にも有利で、環境に問題を与えることなく、容易に製造することができる。 （もっと読む）

【課題】常圧下で、塗布法により、基体上に、均一な燐ドープシリコン導電膜を形成する方法およびそのためのリン原子含有高次シラン化合物の製造法の提供。
【解決手段】光重合性シラン化合物およびリン化合物を含有する溶液に、４００ｎｍより長い波長の光線を照射せしめてリン原子含有高次シラン化合物を生成せしめるリン原子含有高次シラン化合物の製造法。上記方法で得られたリン原子含有高次シラン化合物を含む溶液を基板に塗布し、さらにその塗布基板を熱処理することからなるリン含有シリコン膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】比誘電率が低く、かつ、ＣＭＰ耐性および薬液耐性に優れた絶縁膜を形成することができるポリマーおよびその製造方法、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される少なくとも１種のシラン化合物と、（Ｂ）下記一般式（２）で表される化合物および下記一般式（３）で表される化合物から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物を、（Ｃ）金属キレート化合物または酸触媒の少なくとも一方の存在下で共縮合することを含む。
【化１】


・・・・・（１） （もっと読む）

本発明は、珪素、炭素、酸素及び水素原子を有する少なくとも１つの膜母材前駆体と、少なくとも１つの、Ｒが、直鎖或いは分岐、飽和或いは不飽和炭化水素基若しくは環状飽和或いは不飽和炭化水素基の何れかである式（I）の孔形成化合物か、または、少なくとも１つの次の孔形成化合物の何れかを反応させることを含む、基板への低誘電率ｋの多孔膜を形成する方法であって、少なくとも１つの次の孔形成化合物は、1-メチル-4-（1-メチルエチル）-7-オキサビシクロ［2,2,1］ヘプタン、1,3,3-トリメチル-2-オキサビシクロ［2,2,1］オクタンあるいは1,8-シネオール若しくは1-メチル-4-（1-メチルエテニル）-7-オキサビシクロ［4,1,0］ヘプタンである方法、新規な前駆体混合物及び式（I）の化合物の基板上への低誘電ｋ膜の化学気相堆積での孔形成化合物としての使用に関する。
【化１】

（もっと読む）

【課題】水吸着性および比誘電率が低く、エッチング耐性および薬液耐性に優れ、かつ、機械的強度に優れた絶縁膜を形成することができるポリマーおよびその製造方法、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、（Ａ）下記一般式（１）で表される少なくとも１種のシランモノマーと、（Ｂ）加水分解性基含有シランモノマーと、（Ｃ）加水分解性基含有カルボシランとを、塩基性触媒の存在下で共縮合することによって得られたポリマーと、有機溶剤と、を含有する。
【化１】


・・・・・（１） （もっと読む）