低誘電率重合体は、一般式I：(Ｒ¹-Ｒ²)_n-Ｓｉ-(Ｘ¹)_4-n（ここで、Ｘ¹はそれぞれ独立して水素及び無機脱離基から選択され、Ｒ²は任意の基であって１〜６個の炭素原子を有するアルキレン又はアリーレンを備え、Ｒ¹はポリシクロアルキル基であり、ｎは整数１〜３である）で表される化合物から誘導された単量体単位を備える。重合体は優れた電気的及び機械的特性を有する。 （もっと読む）

【解決手段】 （Ａ）下記平均組成式（１）
（Ｒ¹ＳｉＯ_3/2）_a（Ｒ²Ｒ³ＳｉＯ）_b（Ｒ⁴Ｒ⁵Ｒ⁶ＳｉＯ_1/2）_c（ＳｉＯ_4/2）_d （１）
（Ｒ¹〜Ｒ⁶は一価炭化水素基で１〜５０モル％は非共有結合性二重結合含有基、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝Ｘ＝１．０、ａ／Ｘ＝０．４０〜０．９５、ｂ／Ｘ＝０．０５〜０．６０、ｃ／Ｘ＝０〜０．０５、ｄ／Ｘ＝０〜０．１０）
で示されるオルガノポリシロキサンを含有する、非共有結合性二重結合基を有する有機ケイ素化合物、
（Ｂ）オルガノハイドロジェンポリシロキサン、
（Ｃ）白金系触媒
を必須成分とする付加硬化型シリコーン樹脂組成物において、（Ａ）及び（Ｂ）成分のオルガノポリシロキサンがシラノールを含有しない光半導体素子封止用樹脂組成物。
【効果】 本発明の樹脂組成物は、高透明、高硬度、金属への腐食性がなく、樹脂の保存安定性に優れるため、光半導体封止材料に有効である。 （もっと読む）

【課題】樹脂組成物の塗膜の耐候性、耐汚染性、耐水性、耐クラック性に優れた水性シリコーン変性アクリレート重合体エマルジョンを提供する。
【解決手段】シリコーン変性剤〔Ａ〕と、少なくとも１種のカルボキシル基を持つエチレン性不飽和単量体〔Ｂ〕と、少なくとも１種の他のエチレン性不飽和単量体〔Ｃ〕とを乳化重合に付して得られるシリコーン含有高分子エマルジョンであって、シリコーン変性剤〔Ａ〕がフェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のシリコーン構造を有するシランからなる群より選ばれる少なくとも一種を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 耐火性と不燃性に加え、優れた断熱性と軽量性及び廃棄性を保持する内装用断熱板材を均質に且高生産性を以って製造する製造方法を提供する。
【解決手段】 鉄若しくは非鉄金属素材を用い所要の幅と長さ及び深さで、その内面全体に剥離層が形成され、且長さ方向に沿って半割型で開閉可能に而も幅方向の一方側壁面には注入孔、対向する壁面に排気孔が形成された噴霧注入成形型を適宜加熱手段で所要温度に加熱のうえ、シロキサン及びシラノール多分子容量を所要容量割合に加圧噴霧注入して短時且均質に発泡形成させる。 （もっと読む）

【課題】分子量制御性、耐溶剤性、耐熱性、耐湿性に優れ、更には、分子量の制御された安定した品質の低光伝送損失、低複屈折である光導波路材料を提供する。
【解決手段】式（１−０）で示されるシルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体を用いて光導波路を作製する。


式（１−０）において、Ｒ⁰は独立して水素、炭素数１〜４０のアルキル、任意の水素がハロゲンまたは炭素数１〜２０のアルキルで置き換えられてもよいアリール、またはアリールにおける任意の水素がハロゲンまたは炭素数１〜２０のアルキルで置き換えられてもよいアリールアルキルであり、Ｙは式（ａ）または式（ｂ）で示される基である。
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【課題】プラスチックフィルムの帯電防止剤、導電性高分子のドーパント、固体酸触媒又は燃料電池の固体電解質膜の添加剤として有望なスルホン化ポリオルガノシルセスキオキサンの提供。
【解決手段】Ｒ¹−ＳｉＯ_3/2（式中、Ｒ¹は炭素原子数１〜３のアルキル基又は炭素原子数２〜３のアルケニル基である）で表される構造単位（１）、Ｐｈ−ＳｉＯ_3/2で表される構造単位（２）、及びＨＯ３Ｓ−Ｐｈ−ＳｉＯ_3/2で表される構造単位（３）を、（１）：（２）：（３）のモル比が０〜９９：０〜９９：１〜１００（但し（１）＋（２）＋（３）＝１００とする）の割合で含有し、ポリマーの末端が−ＯＲ²（Ｒ²は独立して炭素原子数１〜３のアルキル基又は水素原子である。但し、（１）の構造単位を含有しない場合、Ｒ²が炭素原子数１〜３のアルキル基である末端を少なくとも一個を有する。）であるスルホン化ポリオルガノシルセスキオキサン。 （もっと読む）

【課題】放射線によって硬化し、耐擦傷性、耐摩耗性に優れ、低屈折率で反射防止フィルムに使用した場合、反射率の低い感光性樹脂組成物、更にはその硬化皮膜を有するフィルムを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）
Ｒ_fＳｉ（ＯＲ₁）₃・・・（１）で表されるフッ素原子を有するアルコキシケイ素化合物同士か、又は前記一般式（１）で表されるフッ素原子を有するアルコキシケイ素化合物と下記一般式（２）Ｒ_eＳｉ（ＯＲ₂）₃・・・（２）で表されるエポキシ基を有するアルコキシケイ素化合物とを、塩基性触媒の存在下に、縮合させて得られるフッ素原子含有ケイ素化合物（Ａ）、光カチオン重合開始剤（Ｂ）、幹部分がフッ素系ポリマーで、枝部分がシリコーンで構成された櫛型ポリマー（Ｃ）及びフッ素原子を有する高分子化合物（Ｄ）を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】シランエステル中のたとえばオリゴマーなどの一部の不純物を低減または排除するシランエステルの製造方法またはプロセスを提供する。
【解決手段】カルボン酸の無水塩を供給する工程と、前記カルボン酸無水塩を、第一の溶媒と、前記、第一の溶媒に実質的に混和しない第二の溶媒と、を含む二相反応系に添加する工程と、前記カルボン酸無水塩と、前記第一の溶媒と、前記第二の溶媒と、の混合物を加熱する工程と、前記カルボン酸無水塩と、前記第一の溶媒と、前記第二の溶媒と、の混合物にハロゲン化アルキル置換基を含むシランを添加してシランエステルを生成する工程と、さらに、低級アルカン溶媒で生成したシランエステルを抽出する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 柔軟性、透明性、耐薬品性及び基材への接着性に優れた硬化物とすることができる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の硬化性組成物は、オキセタニル基を有するポリシルセスキオキサンと、エポキシ当量が３００以下のエポキシシリコーンと、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を有し且つ一部又は全てが水素添加されたジエン系重合体と、酸無水物と、硬化触媒とを含有する。また、硬化触媒は、三級アミン、三級アミン塩、四級オニウム塩、三級ホスフィン、ホスホニウムイリド及びクラウンエーテル錯体から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 柔軟性、透明性、耐薬品性及び基材への接着性に優れた硬化物とすることができる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の硬化性組成物は、オキセタニル基を有するポリシルセスキオキサンと、エポキシ当量が３００以下のエポキシシリコーンと、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を有し且つ一部又は全てが水素添加されたジエン系重合体と、カチオン重合触媒とを含有する。また、カチオン重合触媒はアルミニウム化合物であることが好ましい。 （もっと読む）

本発明は、新規なポリマー被覆金属酸化物を提供することを目的とする。本発明のポリマー被覆金属酸化物は、ポリマーがシロキサン骨格を有する。本発明のポリマー被覆金属酸化物の製造方法は、シロキサン骨格を有するポリマーの溶液に、金属酸化物を接触させる方法である。これにより、ポリマーを金属酸化物の表面に結合させることができる。ここで、ポリマーは分岐構造を有することが好ましい。また、その分岐構造を有するポリマーがデンドリティックポリマーであることが好ましい。また、金属酸化物が、ガラス、シリカゲル、酸化チタン、チタン酸バリウム、インジウムチンオキシド（ＩＴＯ）、酸化アルミニウム、酸化ニッケル、酸化鉄などであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 高い膜強度と低い比誘電率を有するＣＭＰ犠牲膜やエッチング・ストッパー膜等の半導体加工用保護膜を形成するための塗布液、その調整方法および該塗布液より得られる半導体加工用保護膜に関する。
【解決手段】 （ａ）テトラアルキルオルソシリケート(TAOS)およびアルコキシシラン(AS)をテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（TMAOH）および水の存在下で加水分解して得られるケイ素化合物、またはテトラアルキルオルソシリケート(TAOS)をテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（TMAOH）および水の存在下で加水分解または部分加水分解した後、アルコキシシラン(AS)またはその加水分解物もしくは部分加水分解物と混合し、さらに必要に応じてこれらの一部または全部を加水分解して得られるケイ素化合物、（ｂ）有機溶媒、および（ｃ）水を含む液状組成物であり、しかも該液状組成物中に含まれる水の量が３５〜６５重量％の範囲にあることを特徴とする半導体加工用保護膜形成用塗布液。 （もっと読む）

【解決手段】 （Ａ）：リン原子と窒素原子との両方を含有する化合物よりなる群の中から選択されたガス発生剤又はリン含有化合物と窒素含有化合物との混合物からなるガス発生剤と、
（Ｂ）：（ｉ）式（１）
（Ｒ¹）_a（ＯＲ²）_bＳｉＯ_(4-a-b)/2 （１）
（Ｒ¹はアルキル基、Ｒ²はアルキル基、ａは０．７５〜１．５、ｂは０．２〜３、０．９＜ａ＋ｂ≦４）
で示される有機ケイ素化合物と、
（ｉｉ）式（２）
Ｒ³Ｒ⁴ＮＲ⁵−ＳｉＲ⁶_n（ＯＲ²）_3-n （２）
（Ｒ³、Ｒ⁴は水素原子、アルキル基又はアミノアルキル基、Ｒ⁵は２価炭化水素基、Ｒ⁶はアルキル基、ｎは０又は１）
で示されるアミノ基含有アルコキシシラン又はその部分加水分解物と
を有機酸又は無機酸の存在下で共加水分解縮合させた共加水分解縮合物
からなる難燃性添加剤。
【効果】 本発明の難燃性添加剤は、熱可塑性樹脂などに使用した場合に、優れた耐吸湿性、分散性を有するものである。 （もっと読む）

【課題】剥離部材の耐久性を増大させるとともに、定着画像の画質を向上させることができる定着装置を提供すること、また、該定着装置を備えた画像形成装置を提供すること。
【解決手段】
本発明の定着装置は、熱源を有する定着ローラと、該定着ローラに圧接される加圧ローラと、定着ローラの軸方向かつ定着ニップ部の記録媒体搬送方向下流側に、定着ローラに近接して配設される剥離部材とを備えている。剥離部材は、その表面に微小な凹凸が設けられた基材と、該基材の表面側に設けられた被膜とを有するものであり、基材は、表面粗さＲａが０．１〜１．０μｍであり、かつ、表面粗さＲｚが１．０〜９．０μｍであり、被膜は、下記式（Ｉ）で示される含ケイ素化合物の加水分解縮合物を含む材料で構成されたものである。
【化１】
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【課題】 半導体基板に対する密着性が高い絶縁膜を形成し得る絶縁膜形成用塗布液を提供すること。ほか
【解決手段】 以下の成分（Ａ）および（Ｂ）を含有する絶縁膜形成用塗布液。ほか
成分（Ａ）：非極性であり、かつ分子内に炭素−炭素二重結合を２個以上有するか、炭素−炭素三重結合を２個以上有するか、もしくは炭素−炭素二重結合を少なくとも１個と炭素−炭素三重結合を少なくとも１個有する熱反応性化合物、または該熱反応性化合物を重合して得られるポリマー。
成分（Ｂ）：式（１）〜（３）で示されるシラン化合物からなる群から選ばれる化合物を重縮合して得られる重合体。


（式中、Ｒ¹は水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒ²はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ³はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ⁴はアルキル基、アシル基またはアリール基を表し、Ｘは２価の基を表し、ｍは２または３を表す。） （もっと読む）

【課題】半導体装置用の有機シリカ系膜と，その形成方法を提供する。
【解決手段】形成方法は、絶縁膜形成用組成物を基板に塗布する工程、前記塗膜を加熱する工程、前記塗膜に熱と紫外線を照射して硬化処理を行う工程とを含む。前記絶縁膜形成用組成物は、下記一般式（１）〜（４）で表される化合物の加水分解縮合物で、炭素原子を１１．８〜１６．７モル％含有する有機シリカゾル、有機溶媒とを含む。 Ｒ^１Ｓｉ（ＯＲ^２）_３ ・・・・・（１） Ｓｉ（ＯＲ^３）_４ ・・・・・（２） （Ｒ^４）_２Ｓｉ（ＯＲ^５）_２ ・・・・・（３） Ｒ^６_ｂ（Ｒ^７Ｏ）_３−ｂＳｉ−（Ｒ^１０）_ｄ−Ｓｉ（ＯＲ^８）_３−ｃＲ^９_ｃ・・・（４） 〔式中、Ｒ^１〜Ｒ^９は、それぞれアルキル基またはアリール基を示し、ｂおよびｃは同一または異なり、０〜２の数を示し、Ｒ^１０は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ_２）_ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕 （もっと読む）

【課題】金属表面に任意量のシリケート化合物を強固に結合させ得るシリケート化合物付与剤及び金属表面に該付与剤からなる層を形成してなる複合金属材を提供する。
【解決手段】１）金属アルコキシドと、２）互いに重合可能な官能基を有するシリケート化合物との縮重合体からなる、金属表面へのシリケート化合物付与剤及び金属表面に該付与剤からなる層を形成してなる複合金属材。 （もっと読む）

【課題】 有機基を含むケイ素酸化物の骨格からなる有機無機ハイブリッド構造を有するシリカ系メソ構造体であるにも拘らず、十分な柔軟性を有しており、柔軟性が高く強度に優れた自立膜を形成することができ、しかも機能性の高い種々の有機基を骨格内に導入することが可能なシリカ系メソ構造体を提供すること。
【解決手段】 有機基を含むケイ素酸化物の骨格からなり、１ｎｍ以上のｄ値に相当する回折角度に１本以上のピークを有するＸ線回折パターンを示すシリカ系メソ構造体であって、Ｔサイト骨格成分の存在割合（Ｔモル％）と、Ｄサイト骨格成分の存在割合（Ｄモル％）と、Ｓサイト骨格成分の存在割合（Ｓモル％）とが、Ｔ≠０の場合は下記数式（Ｆ１）、Ｔ＝０の場合は下記数式（Ｆ２）：
｛（Ｄ＋Ｓ）／（Ｔ＋Ｄ＋Ｓ）｝≧０．１ （Ｆ１）
｛Ｓ／（Ｄ＋Ｓ）｝≦０．９］ （Ｆ２）
で表される条件を満たしていることを特徴とするシリカ系メソ構造体。 （もっと読む）

【課題】 ゾルゲル法により得られるアルコキシシラン縮合物であるにも拘らず、柔軟性が高く強度に優れたアルコキシシラン硬化物からなる自立膜を形成することが可能なアルコキシシラン縮合物、並びにその製造方法を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）〜（４）：
【化１】


［式（１）〜（４）中、Ｘ^１は１価の加水分解性基、Ｒ^１は２価の有機基を示す。］
でそれぞれ表されるＴ^０、Ｔ^１、Ｔ^２及びＴ^３サイト骨格成分からなる有機架橋型アルコキシシラン縮合物であって、^２９Ｓｉ−ＮＭＲにおける、前記Ｔ^０、Ｔ^１、Ｔ^２及びＴ^３サイト骨格成分にそれぞれ相当するシグナルの積分値（Ｔ^０、Ｔ^１、Ｔ^２、Ｔ^３）が下記数式：
Ｔ^０／（Ｔ^０＋Ｔ^１＋Ｔ^２＋Ｔ^３）≦０．６
Ｔ^１／（Ｔ^０＋Ｔ^１＋Ｔ^２＋Ｔ^３）≧０．４
Ｔ^２／（Ｔ^０＋Ｔ^１＋Ｔ^２＋Ｔ^３）≦０．２
Ｔ^３／（Ｔ^０＋Ｔ^１＋Ｔ^２＋Ｔ^３）≦０．０３
で表される条件を満たしていることを特徴とする有機架橋型アルコキシシラン縮合物。 （もっと読む）

【課題】 従来のポーラス膜と同等又はそれ以下の比誘電率を有し、しかも十分に機械強度に優れたシリカ系硬化被膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 上記課題を解決する本発明のシリカ系硬化被膜の形成方法は、基板上に形成されたシリカ系被膜上に第１の触媒を含有する液体を塗布する第１工程と、第１工程の後にシリカ系被膜を硬化してシリカ系硬化被膜を得る第２工程とを有するものである。 （もっと読む）