【課題】 高い酸素透過性を有するプラスチック材料、あるいは高い酸素透過性とともに、優れた光透過性と表面のタンパク質の接着を抑えた成形性に優れた柔軟なゴム状のプラスチック材料を提供する。
【解決手段】 高酸素透過性プラスチック材料は、熱可塑性ポリマーのゾル中で、ジアルコキシジアルキルシランを重合して得られたナノサイズの線状ポリシロキサンを含むゲルをもとに成型して得られる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性および耐光性が高く、特に高温環境下、高強度の光照射によっても電圧保持率の低下が少なく、且つ静電気リーク性に優れる液晶配向膜を形成することができる液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記液晶配向剤は、エポキシ当量が５０〜１０，０００ｇ／モルであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は１，０００〜１００，０００である、エポキシ基を有する特定のポリオルガノシロキサンを含有する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、架橋性シリル基を少なくとも１個有するビニル系重合体を主成分とするシーリング材と各種基材を良好に接着させるためのプライマー組成物を提供することを目的とし、特にシリコーン系シーリング材（先打ち）にビニル系重合体を主成分とするシーリング材（後打ち）を打継ぐ際に接着性の良好なプライマー組成物を提供する。
【解決手段】 本発明は、（Ａ）架橋性シリル基を少なくとも１個有するビニル系重合体、（Ｂ）シランカップリング剤、（Ｃ）シラノール縮合触媒、（Ｄ） シリコーン樹脂、及び（Ｅ）脂肪酸、樹脂酸または脂肪酸エステルで表面処理された炭酸カルシウムを含有するプライマー組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】新規なシロキサン誘導体、硬化物及び光半導体封止材を提供する。
【解決手段】部分開裂型カゴ状シルセスキオキサン構造、及び下記一般式（１）：


（式中Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素、又はこれらの部分置換体を示し、そしてＲ^１及びＲ^２は１分子中に複数存在する場合同一でも異なっていてもよい。）
で表される構成単位、及び、エポキシ基を有することを特徴とするシロキサン誘導体を提供する。 （もっと読む）

【課題】第４級アンモニウム基を有するオルガノポリシロキサンの製造方法において、従来の欠点が回避され、迅速かつ経済的であり、第４級アンモニウム基を有するオルガノポリシロキサンがより低い塩負荷量でかつ物質として得られ、従って作用物質がより高い濃度で得られる方法を提供する。
【解決手段】第４級アンモニウム基を有するオルガノポリシロキサンの製造方法において、第一工程で式（Ｉ）のオルガノポリシロキサン（１）と式（ＩＩ）のアミノシラン（２）とを、場合により触媒（３）の存在下で縮合させて、オルガノポリシロキサン（４）を得て、第二工程で該オルガノポリシロキサン（４）からの窒素原子をアルキル化剤（５）で第４級化させるが、但し、第二工程において、塩基を添加せず、かつ水を、それぞれ成分（１）、（２）、場合により（３）及び（５）の全質量に対して、１０質量％未満の量で併用する。 （もっと読む）

【課題】耐水性及び油剤への分散性に優れた粉体及びその分散物、特に化粧料に好適な分散物、を提供する。
【解決手段】下記平均組成式（１）で表されるオルガノポリシロキサンにより表面処理された粉体。


［ここで、Ｒ^１は炭素原子数１〜３０のアルキル基、炭素原子数１〜３０のフロロアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、及び炭素原子数６〜３０のアラルキル基から選択される基であり、Ｒ^２はジエステルを有する置換基であり、Ｒ^３はオルガノポリシロキサンを有する置換基である。］ （もっと読む）

【課題】表面改質剤として用いる場合に、ｐＨの制限を抑制することが可能なホスホリルコリン類似基を有するポリシロキサン及び該ポリシロキサンの製造方法、ならびに該ポリシロキサンを含有する表面改質剤及び該表面改質剤を用いる表面改質方法を提供する。
【解決手段】ポリシロキサンは、一般式


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、炭素数が１以上６以下のアルキル基であり、ｍは、２以上６以下の整数である。）で表される官能基、エステル結合又はアミド結合、スペーサー及びケイ素原子が順次結合されている構成単位を有する。 （もっと読む）

【課題】 耐光性（特に耐紫外線性）及び密着性に優れると共に、十分な耐熱性・耐水熱性及び成膜性を有し、さらに硬化する際に発泡が少なく、長期間使用してもクラックや剥離、着色、発泡を生じない硬化性ポリシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】 特定のヒドロシリル基含有ポリシロキサン化合物、特定のシラノール基を一分子中に２個以上含有するポリシロキサン化合物、並びに、脱水素縮合反応触媒を含むことを特徴とする硬化性ポリシロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】ホットメルト粘着剤から剥離するときの剥離力が正の剥離速度依存性を発現するので剥離音を低減することができる剥離紙に用いられ、なおかつ、粘度が低いため、凹凸の多い基材に対しても濡れ性が優れる無溶剤の紫外線硬化型シリコーン組成物を提供する。
【解決手段】（A）重合度が8〜20で、エポキシ基を１つ含有する特定のオルガノシロキサン 100質量部、および（C）オニウム塩光開始剤 有効量、を含む剥離紙用紫外線硬化型シリコーン組成物。好ましくは（B）複数個のエポキシ基を含有する特定のオルガノポリシロキサンの少なくとも１種 10〜1000質量部、を更に含み、粘度が100mPa・s以下である前記組成物。 （もっと読む）

【構成】ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００重量部、酸化チタン（Ｂ）５〜２５重量部、主鎖が分岐構造でかつ含有する有機官能基が芳香族基からなるか、または芳香族基と炭化水素基（芳香族基を除く）とからなるシリコーン化合物（Ｃ）０．０１〜３重量部、ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体（Ｄ）０．１〜５重量部、有機金属塩（Ｅ）０．０１〜２重量部および繊維形成型の含フッ素ポリマー（Ｆ）０．０１〜２重量部およぼ特定の蛍光増白剤０．００１〜０．１重量部からなることを特徴とする光反射性に優れた難燃性ポリカーボネート樹脂組成物、およびそれからなる成形品。
【効果】 本発明の光反射性に優れた難燃性ポリカーボネート樹脂組成物は、臭素や塩素を含有する従来の難燃剤を使用しないことから、燃焼時に当該難燃剤に起因する臭素や塩素を含むガスの発生の懸念もなく、かつリン系難燃剤も使用しないことから環境面において優れている。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、側鎖にアルキルスルホンアミド基を含有する構成単位、およびそれぞれ他の特定構造を有する２種類の構成単位を含有するポリシロキサンと、溶剤と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 シロキサンプレポリマー製造の工程を簡略化でき、重合性エチレン系不飽和二重結合を有するジアルコキシジアルキルシラン類の導入効率の高いシロキサンプレポリマーの製造方法、該製造方法で得られるシロキサンプレポリマー、及びそれを用いてなる光学特性に優れた光学材料用シリコーン樹脂を提供する。
【解決手段】 プレポリマー化触媒をアミン系触媒として縮合反応すると、中和工程が不要で、透明性と屈折率の光学特性を阻害することなく品質の高いシロキサンプレポリマーが得られ、重合性エチレン系不飽和二重結合を有するジアルキルシロキサン基の導入を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】高い反射防止性能と高い透明性を有する被膜付基材を提供する。
【解決手段】外殻部にＳｉＯ_4/2単位、ＲＳｉＯ_3/2単位（式中、Ｒは、炭素数１乃至４のアルキル基、炭素数６乃至２４の芳香族基、ビニル基、γ−（メタ）アクリロキシプロピル基又はＳＨ基をもつ有機基の少なくとも１種を示す）、Ｒ₂ＳｉＯ_2/2単位、およびＲ₃ＳｉＯ_1/2単位からなる群より選ばれる１単位以上からなり、ＲＳｉＯ_3/2単位の割合が５０モル％以上であるシリコーン系化合物からなる層を有し、内部に少なくとも１つの空洞を有する中空シリコーン系微粒子であって、中空シリコーン系微粒子の体積平均粒子径が０．５μｍ未満であり、かつ平均空隙率より±１０％以上差のある空隙率をもつ微粒子の割合が全体粒子の３０％未満であることを特徴とする中空シリコーン系微粒子と被膜形成用マトリックスとを含む被膜付基材。 （もっと読む）

【課題】有機チタノシリケートを含む塗料組成物であっても劣化しにくく、また、耐候性に優れた被膜を形成することができる新規の塗料組成物を提供する。
【解決手段】本発明の塗料組成物は、Ｍ−Ｏ−Ｍ（Ｍは珪素原子または金属原子をそれぞれ独立に示す）で表される結合を含む珪素および金属の酸化物からなるとともに少なくとも一部の珪素原子に結合している有機基をもち、金属原子の少なくとも一部がチタン原子である有機チタノシリケートを溶媒に溶解させてなる塗料組成物であって、さらに、ラジカル捕捉能および／または酸化防止能を有する安定剤を含むことを特徴とする。チタン原子の遷移による酸化雰囲気の形成を防止したり、ラジカルを捕捉したりする安定剤を添加することにより、被膜の劣化が防止される。そして、安定剤の添加により、被膜の劣化の防止のみならず、耐候性の向上も達成される。 （もっと読む）

【課題】低比誘電率であり、かつ機械的強度に優れたシリカ系膜およびその製造方法、ならびにシリカ系膜の形成に用いられる絶縁膜形成用組成物の提供。
【解決手段】本発明の一態様に係る絶縁膜形成用組成物は、下記一般式（１）で表される化合物の少なくとも１つと、下記一般式（２）で表される化合物と、下記一般式（３）で表される化合物とをアルカリ触媒を用いて加水分解縮合して得られた加水分解縮合物と、有機溶媒と、を含む。


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^８は、同一または異なり、アルキル基を示し、Ｘは、ビニル成分を有する基を示す。）・・・（１）Ｒ^９_a（Ｒ^１０Ｏ）_３−aＳｉ−（Ｒ^１３）_c−Ｓｉ（ＯＲ^１１）_３−bＲ^１２_b・・・（２）Ｒ^１４_ｄＳｉ（ＯＲ^１５）_４−ｄ・・・（３） （もっと読む）

少なくとも１つのアルコキシシラン部分；およびニトロソベンゼンまたはニトロソベンゼン前駆体およびこれらの組合せから選択される少なくとも１つの部分を含む化合物が提供され、ポリマー対金属、特にゴム対金属の接合に使用される。ニトロソベンゼン前駆体は、キノンジオキシムまたはキノンオキシムの少なくとも１つであってよい。本発明は、少なくとも１つのアルコキシシラン部分；および芳香族ニトロソまたは芳香族ニトロソ前駆体およびこれらの組合せから選択される少なくとも１つの部分を含む化合物も提供する。 （もっと読む）

【課題】熱伝導性充填剤の高充填が可能で、オイルブリードの発生し難い熱伝導性シリコーングリース組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）２５℃における粘度が１０〜１００００ｍＰａ・ｓであり、側鎖および／または分子鎖末端に式（１）：‐ＣＯＯＸ で表される基を有するポリオルガノシロキサン、および（Ｂ）熱伝導性充填剤を含有する。ただし、式（１）中、Ｘは水素原子、置換もしくは非置換の炭素原子数１〜１０の一価炭化水素基、または、式（２）：−ＳｉＲ^１_ａＹ_３−ａ （Ｒ^１は置換または非置換の炭素原子数１〜１０の一価炭化水素基、Ｙは炭素原子数１〜４のアルコキシ基、ａは０〜３の整数である。））で表される基のいずれかである。 （もっと読む）

成形物品を製造する方法であって、１）ａ）１つの非加水分解性有機基を有する少なくとも１つのシランと、ｂ）ｂ１）２つの非加水分解性有機基を有するシラン及びｂ２）加水分解性ポリシロキサンから選択される少なくとも１つの化合物、又はそれらの混合物と、ｃ）必要に応じて、非加水分解性有機基を有しない少なくとも１つのシランとを加水分解して加水分解物又は縮合体を含む複合体組成物を調製すること、２）成形型に複合体組成物を入れること、３）複合体組成物を硬化させて縮合度を上げること、４）成形型から成形物品を取り出すこと、及び５）少なくとも１００℃の温度で成形物品を熱処理することを含む、成形物品を製造する方法を開示する。成形物品は好ましくは自動車のヘッドライトに用いられ得る光学レンズである。 （もっと読む）

【課題】低温で形成でき、耐熱性に優れるとともに、プラズマディスプレイの軽量化を成し得る、低誘電性熱硬化性樹脂を提供する。
【解決手段】化合物（１）と化合物（２）とを、（１）：（２）＝７０：３０〜９０：１０（モル比）で加水分解反応させてなる分子量が１００００以上の熱硬化性樹脂。


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少なくとも１つのハロジシラン、及び任意に少なくとも１つのハロシランを、有機溶媒の存在下で、少なくとも１つのアルコールと反応させて、アルコール分解生成物を産生すること、アルコール分解生成物を水と反応させて、加水分解物を産生すること、並びに加水分解物を加熱して、樹脂を産生することを含む、シリコーン樹脂を製造する方法。 （もっと読む）