【課題】非常に長い反応時間に付されず、したがってより高い費用効率のオルガノシルセスキオキサンの製法およびその組成物の提供。
【解決手段】（１）式ＲＳｉＹ_３（Ｒは有機基であり、Ｙ基は加水分解性基）を有する第一の加水分解性無機モノマー前駆体を部分加水分解して無機モノマーを生成し、（２）無機オリゴマーの完全縮合前に、完全加水分解を達成するのに必要とされる化学量論量の水を上回る量の水で液体成物をクエンチングする工程、及び（３）組成物を乾燥する工程を包含する。 （もっと読む）

【課題】疎水性と共に親水性を備え、加水分解性が低く、また、安定な新規オルガノポリシロキサンを提供すること、また、そのようなアミノ官能性オルガノポリシロキサンを、複雑・煩雑な操作を経ることなく、容易に合成可能な製造方法を提供すること。
【解決手段】第２級アミノ基を有するポリシロキサン−ヒドロカルビレンアミノヒドロカルビレンマルチブロックコポリマーと糖酸又はその分子内脱水環化物とを反応させて、ポリシロキサン−Ｎ，Ｎ−ジヒドロカルビレン糖変性マルチブロックコポリマーを得る。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉ−Ｏ結合に起因する高透明性及び高耐熱性を活かし、更に高屈折率を示すシクロファン構造を有する加水分解性シランを提供する。
【解決手段】シクロファンを含む加水分解性シラン。シクロファンが［ｎ，ｎ］パラシクロファン（ただしｎは１〜６の整数）である加水分解性シラン。上記シランが下記一般式（１）：


〔ただし、Ｒ^１は下記式（２）：


で示される化合物である加水分解性シラン。上記シランが式（３）：


で示される化合物である加水分解性シランである。 （もっと読む）

シロキサン含有反応性化合物には、水分硬化性アルコキシシラン官能性末端基が含まれる。このシロキサン含有反応性化合物は、シロキサン含有オキサミド化合物又はアミン化合物から調製することができる。シロキサン含有ポリマーは、水との反応により、この反応性化合物から調製することができる。このシロキサン含有ポリマーは、剥離材料又は接着剤であり得る。 （もっと読む）

【課題】レーザー彫刻時に発生する彫刻カスのリンス性に優れ、形成されるレリーフ層の弾性及びインキ転移性に優れたレリーフ印刷版を得ることができるレーザー彫刻用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）下記式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物、及び、（ｂ）バインダーポリマーを含有する。Ｒ¹は結合性基を表し、Ｒ²〜Ｒ⁶はそれぞれ独立に、一価の有機基を表し、Ａは（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、ｋは０〜４の整数を表し、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは１〜４の整数を表す。
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【課題】べたつき感を与えることなく、皮膚との親和性及び密着性に優れるオルガノポリシロキサン、及び該オルガノポリシロキサンを含む化粧料を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示されるオルガノポリシロキサン。


[式（１）中、Ｒ^１は、互いに独立に、Ｃ_１−３０アルキル基、Ｃ_１−３０フッ素置換アルキル基、Ｃ_６−３０アリール基、及びＣ_６−３０アラルキル基から選ばれる基であり、Ｒ^２は、無水アリルコハク酸の反応生成物であり，さらに２−アミノ１．３−プロパンジオールとの反応生成物である。Ａはポリジアルキルシロキサンの反応生成物である。 （もっと読む）

【課題】シリコーンオイル、極性の高い成分及び粉体を含む化粧料における分散状態を安定に維持し、且つ、皮膚親和性に優れた化粧料を与えるオルガノポリシロキサン及び該オルガノポリシロキサンを含む化粧料の提供。
【解決手段】特定なオルガノハイドロジェンポリシロキサンに、無水アリルコハク酸をハイドロシリレーションした後、炭素数８から４０の長鎖のアルキル基、アリール基、アラルキル基含有アミンで開環さて得られる、側鎖又は末端にアミド基を含有する数平均分子量が３００から３００，０００のオルガノポリシロキサン及びこれを含む化粧料。 （もっと読む）

【課題】
酸無水物変性オルガノポリシロキサンと一級又は二級のアミノ基を有する糖アミンとの反応でアミド結合を介して糖類とオルガノポリシロキサンが結合した、新規のオルガノポリシロキサンを提供し、さらに水を含有する極性溶剤中で前記の反応を行うことにより、糖類に対するオルガノポリシロキサンの導入率を高められる製造方法を提供する。
【解決手段】
一級、又は二級のアミノ基を有する糖アミン化合物と酸無水物変性オルガノポリシロキサンとの酸無水物開環反応によって、アミド結合を介して糖残基とオルガノポリシロキサンが結合していることを特徴とする糖残基を含有するオルガノポリシロキサン。 （もっと読む）

【課題】重合性官能基及び紫外線吸収性基を有し、得られる塗膜の耐熱性、耐擦傷性、耐候性に優れるシルセスキオキサン化合物及び該シルセスキオキサン化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも１つが下記一般式（Ｉ）で表される有機基であることを特徴とするシルセスキオキサン化合物及び該シルセスキオキサン化合物の製造方法。
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【課題】ポリマーの物性を損なうことなく、耐候性、表面撥水性、表面平滑性及び潤滑性等の特性を付与することが可能なポリオルガノシロキサンおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表わされる平均分子量が５００〜１２０，０００の末端カルボン酸変性ポリオルガノシロキサン。
【化１】


（１） （もっと読む）

【課題】有機ケイ素基を表面に備える金属又は金属酸化物の微粒子を含有するポリシロキサン組成物、及び、その製造方法を提供する。
【解決手段】平均組成式(Ａ)で表されるポリシロキサン、及び、一般式(Ｂ)で表される有機ケイ素基が化学結合により表面に固定化された金属又は金属酸化物の微粒子からなるポリシロキサン組成物、並びに、金属又は金属酸化物の微粒子、及び、反応性官能基を有する一価有機基、及びケイ素原子結合加水分解性基若しくはシラノール基を有する有機ケイ素化合物を、水の存在下、２００℃以上の温度の条件下で反応させ、前記ポリシロキサン及び前記金属又は金属酸化物の微粒子を同時に形成することを特徴とする前記ポリシロキサン組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】フッ素化合物の優れた特性を有すると共に、非フッ素系有機化合物との相溶性にも優れた光硬化可能なフッ素化合物の提供。
【解決手段】環状シロキサン構造を備えた含フッ素アクリレートもしくは含フッ素α置換アクリレートであって、例えば、下記式で表される化合物である。


(Ｒｆは下記式（４）で表されるパーフルオロポリエーテル残基であり、


式（４）中、ｊ、ｋ、ｌ及びｍはＲｆの分子量が２００〜６０００となる範囲において、０〜５０の整数であり、XはＦもしくはトリフルオロメチル基である。） （もっと読む）

本発明は、化学線架橋性直鎖状ポリシロキサン共重合体を提供する。該化学線架橋性ポリシロキサン共重合を用いて、硬化後表面処理を行わずに、親水性表面を有するシリコーンハイドロゲルコンタクトレンズを製造することができる。本発明は、本発明の化学線架橋性ポリシロキサン共重合体を含むレンズ形成材料から得られるシリコーンハイドロゲルコンタクトレンズ、及び本発明の化学線架橋性ポリシロキサン共重合体を製造する方法にも関する。加えて本発明は、シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズの表面を親水性にすることができる内部湿潤剤として用いることができる、非架橋性直鎖状ポリシロキサン共重合体を提供する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも２種のフルオロシランと少なくとも１種のアミノシランとを含む組成物、該フルオロシランと該アミノシランとの縮合生成物、およびそれらから作製される表面保護剤に関する。
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【課題】高い架橋密度によりフィルムが脆化することなく、良好な初期引っ掻き耐性を有
するだけでなく引っ掻き耐性が高く維持されるトップコートを提供することを、本発明の
課題とする。
【解決手段】（ａ）少なくとも１個の反応性官能基を含む１種以上のポリシロキサン；多
数の粒子；及び、任意に、ポリシロキサン（ａ）のいずれかの反応性官能基と反応する少
なくとも１個の官能基を含む１種以上の硬化剤を含有する組成物を提供することによって
、上記課題が解決された。更に、前述の塗料組成物多−成分複合材料を基材及び塗装され
た基材に塗布する工程、が提供される。この塗料組成物を調製する工程も提供される。本
発明の塗料組成物多−成分複合材料は、屋外暴露後、引っかき抵抗性の保持が可能である
高度の引っかき抵抗性の着色−プラス−透明塗料を提供する。 （もっと読む）

オキサミドエステル基を含む環状シラザン及びこれらの化合物の製造方法を記載する。化合物は、例えば、オキサミドエステル終端シロキサンを製造するために用いることができ、これは、例えばポリジオルガノシロキサンポリオキサミドのような種々のポリマー材料の調製のための前駆体であることができる。 （もっと読む）

【課題】レジストとの良好なマッチング特性を有するレジスト下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物を実現する。
【解決手段】本発明のレジスト下層膜形成用組成物は、硫黄原子を含む１価の有機基を有する繰返し単位を有するシロキサンポリマー成分を含有することで、レジストとのマッチング特性が良好なレジスト下層膜を形成し得る。 （もっと読む）

【課題】より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成可能であるとともに、半導体の製造プロセスに適用することのできる、実用性の高いパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（１）レジスト層を選択的に露光した後、現像して第一のパターンを形成する工程と、（２）隣接する第一のパターンどうしの間に、ポリシロキサンを含む樹脂成分及び溶媒を含有するとともに、酸発生剤から発生する酸の作用により架橋可能な樹脂組成物からなる未架橋埋め込み部を形成する工程と、（３）未架橋埋め込み部の所定領域を架橋させて、第一のパターン、第一の架橋部、未架橋埋め込み部、及び第二の架橋部がこの順で配列して繰り返す配列構造を形成する工程と、（４）第一のパターン及び未架橋埋め込み部を除去して第二のパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】防汚性、防曇性に優れ、良好な耐摩擦性を有する親水膜を形成するのに用いられる親水性膜形成用組成物を提供すること。また、該親水性膜形成用組成物により形成された親水膜を備えた、防汚性、防曇性及びその耐摩擦性に優れた表面を有する親水性部材を提供すること。
【解決手段】ポリマーの両末端に加水分解性シリル基を有し、且つポリマーを構成する全モノマー中、親水性官能基を有するモノマーの含有量が５０モル％以上である親水性ポリマー（Ａ）を含有することを特徴とする親水性膜形成用組成物。 （もっと読む）