【課題】ベタつきがなく感触が良好であり、かつ、エタノールに均一に溶解するオルガノポリシロキサン化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】オルガノポリシロキサンに、下記一般式（１）で表される繰返し単位からなるポリ（Ｎ−アシルアルキレンイミン）のセグメントが結合してなるオルガノポリシロキサン化合物の製造方法であって、環状イミノエーテル化合物を開環重合して、末端反応性ポリ（Ｎ−アシルアルキレンイミン）を調製する工程、（ｂ）前記工程（ａ）で得られた末端反応性ポリ（Ｎ−アシルアルキレンイミン）１００ｇに対して、分子鎖の末端及び／又は側鎖にアミノ基を有する変性オルガノポリシロキサンを３０ｇ／分以上の速度で添加して反応させる工程を含む、オルガノポリシロキサン化合物の製造方法。


（前記一般式（１）中、Ｒ¹は、水素原子、炭素数１〜２２のアルキル基、アラルキル基、又はアリール基を表し、ｎは２又は３を表す。） （もっと読む）

【課題】未加水分解の残基が殆どなく、しかも副生物が極めて少なく高収率である両末端シラノール基封鎖低分子量直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）：
ＳｉR^１R^２（OCOR³）_２ （１）
（式中、R¹およびR²は独立に置換または非置換の一価炭化水素基、R³は炭素原子数1〜4のアルキル基）
で示されるジオルガノジアシルオキシシランを、シクロペンチルメチルエーテル中において、少量の水の存在下、部分加水分解および縮合反応に供し、
（Ｂ）工程（Ａ）で得られた反応混合物を、大過剰量の水で洗浄することにより、前記ジオルガノジアシルオキシシランの加水分解を完全に進行させるとともに加水分解副生物であるカルボン酸を有機相から抽出、除去し、
（Ｃ）工程（Ｂ）で得られた有機相からシクロペンチルメチルエーテルを留去させる、
工程を有する両末端シラノール基封鎖低分子量直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】金属マグネシウム成分を用い、末端が封鎖されたポリシランを効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】非プロトン性溶媒中で、金属マグネシウム成分の存在下、ハロシランを重合させてポリシランを製造する際に、重合後の反応混合物中に残存する金属マグネシウム成分と有機ハロゲン化物とを反応させて、グリニャール試薬を生成させるとともに、生成したグリニャール試薬と、重合末端としてハロゲン原子を有するポリシランとをグリニャール反応させ、重合末端が封鎖されたポリシランを製造する。 （もっと読む）

【課題】良好な透明性、耐光性、耐熱黄変性、耐冷熱衝撃性に優れ、タック性を有さない硬化物を形成することができる硬化性ポリオルガノシロキサン並びにこれを用いた硬化性樹脂組成物、発光部品及び光半導体装置の提供。
【解決手段】下記平均組成式（１）で表されるポリオルガノシロキサンであって、（Ａ）平均組成式（１）において、Ｒ^１として少なくとも、フッ素原子を置換基として有するフェニル基を置換基として有するシロキサン単位と、（Ｂ）平均組成式（１）においてＲ^１として１分子中に、炭素−炭素２重結合を含有する有機基、エポキシ基、エピスルフィド基、チオカーボネート基、ジチオカーボネート基及びトリチオカーボネート基なる群から選ばれる少なくとも１種の硬化性官能基を置換基として有するシロキサン単位、とを少なくとも含むポリオルガノシロキサンであって、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量の比が所定の範囲内にあるポリオルガノシロキサン。
【化１】
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【課題】ポリシランに含まれる不純物を分離除去し、ポリシランを効率よく精製する方法、及びこの方法により得られたポリシランを提供する。
【解決手段】溶媒の存在下で、ポリシランと金属塩とを接触させたのち、金属塩を分離する。この方法では、溶媒に溶解したポリシランと固体状態の金属塩とを接触させてもよい。また、前記方法では、代表的には、ポリシランを溶解可能な溶媒中で、ポリシランと固体状態の金属塩とを混合し、撹拌してポリシランと金属塩とを接触させてもよい。溶媒に溶解したポリシラン溶液を固体状態の金属塩に流通させて接触させてもよい。また、溶媒に溶解したポリシラン溶液を、金属塩が敷設された濾過用部材に流通させてもよい。前記金属塩は、硫酸金属塩（硫酸ナトリウムなど）であってもよい。この方法では、不純物を含みやすい分岐状構造を有するポリシランであっても効率よく精製できる。 （もっと読む）

【課題】熱成形後も親水性を発現でき、防汚性、耐久性に優れる加飾成形品を提供することにあり、そのような加飾成形品を提供できる熱成形用シートを使用した一体成形型加飾シートを提供する。
【解決手段】基材シート上に設けた、シラノール基および／または加水分解性シリル基とを有するポリシロキサンセグメント（ａ１）と、ビニル系重合体セグメント（ａ２）とが、一般式（３）で表される結合により結合された複合樹脂（Ａ）を含有する樹脂組成物の硬化物を、三酸化硫黄含有ガスにより表面処理してなる熱成形用加飾シート、及び前記熱成形用加飾シートを用いた加飾成形品。


（３） （もっと読む）

【課題】 透明性と耐光性に優れ、サーマルサイクルにおける安定的で再現性ある耐冷熱衝撃性を発現することが要求される用途に用いることが可能なポリオルガノシロキサンの製造方法を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される加水分解性基を有する反応性有機ケイ素化合物を、水存在下で加水分解し、得られた加水分解生成物を重縮合するのに際し、加水分解に用いられる水中に含有される粒径３０μｍ以上１００μｍ以下の異物量が、２５℃で測定して０個／ｍｌ以上１００個／ｍｌ以下である、ポリオルガノシロキサンの製造方法。


（Ｒ^１は水素原子、水酸基、或いは、無置換又は置換された、鎖状、分岐状、環状よりなる構造群から選ばれる１種以上の構造からなる１価の有機基を表し、Ｘは１価の加水分解性基を表し、ｍ、ｎはｍ≧０、ｎ＞０、ｍ＋ｎ＝２〜４を満足する数である。） （もっと読む）

【課題】光硬化性を有し、かつ耐熱透明性に優れた硬化物を与える硬化性組成物を提供する。
【解決手段】必須成分として（Ａ）アルケニル基および光重合性官能基を同一分子内に有する化合物、（Ｂ）ＳｉＨ基を有する化合物、（Ｃ）光重合開始剤（Ｄ）ヒドロシリル化触媒を含有する硬化性組成物であり、成分（Ａ）の光重合性官能基と成分（Ｃ）よる光重合反応と成分（Ａ）のアルケニル基と成分（Ｂ）、成分（Ｄ）によるヒドロシリル化反応の２種の反応が進行することにより、光硬化性を有しながら汎用の光硬化性樹脂より優れた絶縁性を発現する。 （もっと読む）

【課題】シルセスキオキサン骨格をケイ素系ポリマーの主鎖に含み、かつ耐熱性に優れるだけではなく、常温域で線膨張係数の非常に低い架橋シリコーン硬化物を提供すること。
【解決手段】式（１）で表されるケイ素化合物と、式（２）で表される架橋性ケイ素化合物及び式（２）で表される架橋性ケイ素化合物のオリゴマーからなる群より選ばれる一以上から得られる、ガラス転移点が３０℃以下、かつ線膨張率が１０ｐｐｍ以下である、シロキサンポリマー架橋硬化物による。


（式（１）中、ｍは、独立して４〜３０の整数を表し；ｎは、重量平均分子量２，０００〜１０，０００，０００を満たす数字を表すＲ³−Ｓｉ（Ｒ⁴）₃（２） （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れた硬化物を与える熱硬化性樹脂組成物の一成分となりうるエポキシ基含有ケイ素化合物の提供。
【解決手段】少なくとも一種の一般式（１ａ）；Ｒ_１ａＳｉ（ＯＲ_２）_３（式中Ｒ_１ａは、グリシドキシ（Ｃ１〜Ｃ３）アルキル基またはオキシラン基を持った炭素数５〜８のシクロアルキル基で置換されたアルキル基を示し、Ｒ_２は炭素数４以下のアルキル基を示す）で表されるエポキシ基含有アルコキシケイ素化合物を含むアルコキシケイ素化合物を、無機塩基性触媒を滴下しつつ縮合させることにより得られる、エポキシ基含有ケイ素化合物。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィにより微細なパターン形成でき、２００℃を超える熱処理を行なわずに絶縁膜が形成でき、有機薄膜トランジスタのゲート絶縁膜として使用した場合にキャリヤーがトラップされて電荷移動度が低下するという問題のない感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）〜（４）で表わされるユニットを有するポリシロキサン化合物及び光ラジカル発生剤を含有する感光性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】流動性、耐衝撃性、耐熱性及び耐熱エージング性に優れている樹脂組成物、及び成形品を提供する。
【解決手段】（ａ）メルトフローレート（２３０℃、荷重２．１６Ｋｇ）が０．１〜１５ｇ／１０分のポリプロピレン系樹脂：２０〜９９質量部、
（ｂ）ポリフェニレンエーテル系樹脂：８０〜１質量部、
を含有し、
（ａ）成分と、（ｂ）成分との合計１００質量部に対して、
（ｃ）ビニル芳香族化合物を主体とする少なくとも１個の重合体ブロックＡと、共役ジエン化合物の１，２−ビニル結合量と３，４−ビニル結合量との合計量が４５〜９０％である共役ジエン化合物を主体とする少なくとも１個の重合体ブロックＢとを有するブロック共重合体を水素添加してなる水添ブロック共重合体：１〜３０質量部、
（ｄ）籠型シルセスキオキサン及び／又は籠型シルセスキオキサンの部分開裂構造体：０．１〜１０質量部、
を含有する樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】汚れが付き難い、汚れが目立ち難い及び汚れが拭き取り易いという３つの要求のバランスが取れた表面を与える表面処理剤として用いられるパーフルオロエーテル基含有オルガノポリシロキサン、及び該オルガノポリシロキサンを含有する表面処理剤組成物、並びに該組成物で処理された物品及び光学部品を提供する。
【解決手段】式（１）のパーフルオロエーテル基含有オルガノポリシロキサン。


［Ｒｆはパーフルオロポリエーテル残基を含む基、Ｗは２価オルガノシロキサン基、Ｑは２価の基、Ｚはシロキサン結合を３個以上有するオルガノポリシロキサン残基、Ｒは１価炭化水素基、Ａは式（２）


（Ｘは加水分解性基、Ｒ¹はアルキル基又はフェニル基、ａは２又は３、ｂは２以上）
の基、ｘ、ｙは１〜９、ｘ＋ｙ＝（Ｚの価数−１）］ （もっと読む）

【課題】基板表面上のナノメートルレベルの開口幅を有し、アスペクト比が大きいトレンチ（溝）への埋め込み性に優れ、ボイドなどの欠陥の発生が抑制され、電気的絶縁性に優れたアイソレーション構造を製造するのに好適なトレンチ埋め込み用組成物、および該組成物を用いたトレンチ・アイソレーション構造の製造方法の提供。
【解決手段】アルキルトリアルコキシシランを５０モル％以上含むアルコキシシラン原料を加水分解、縮合して得られる加水分解縮合物を含有し、該加水分解縮合物の重量平均分子量が１０００〜５００００であり、該加水分解縮合物の含有量が組成物全量に対して１４質量％超３０質量％以下であるトレンチ埋め込み用組成物の塗膜１４により、基板１０表面上に形成されたトレンチ１２を埋め込む。 （もっと読む）

本発明は、以下の式(I)および(II)に対応する新規なジベンジリデンソルビトールエステルタイプの化合物に関する:


[式中、
- R、R'およびR''は、水素原子または-C(O)Y基(式中、Yは、C₂〜C₂₅炭化水素基または任意選択により置換されているアリール基を表す)を表し;
- R1、R2、R3、R4、R5、R'1、R'2、R'3、R'4およびR'5基は、水素原子;C₁〜C₁₈アルキル基;C₁〜C₁₈アルコキシ基;フェノキシ基;任意選択により置換されているフェニル基;またはベンジル基を表し;
- 二価の基Aは、式(II)において、C₁〜C₅₂炭化水素基;任意選択により置換されているアリーレン基;またはシリコーン基を表す]。
本発明はまた、それらの調製方法、親油性媒質、特に油の構造化におけるそれらの使用、それらを含む化粧用組成物または医薬組成物およびそれらを用いる美容処置方法にも関する。
（もっと読む）

【課題】シリコーンオイルを始め各種溶剤に優れた溶解性を有し、且つ塗料添加剤、離形剤、剥離剤、繊維処理剤等として各種分野で有用なリン酸エステル基含有オルガノポリシロキサンを提供すること、及び、反応時間を短縮し、副生成物の生成を抑制しつつ効率よくリン酸エステル基含有オルガノポリシロキサンを製造するための製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）
【化１】


（Ｚ＝３）で表されるリン酸エステル基含有オルガノポリシロキサン。 （もっと読む）

【課題】ポリシランに予め含まれる金属成分を効率よく除去できる精製方法を提供する。
【解決手段】金属成分（１）を含むポリシラン（例えば、５００ｐｐｍ以上の金属成分（１）を含むポリシラン）と、前記金属成分（１）を構成する金属（ａ）（例えば、亜鉛など）よりも、イオン化傾向において小さい金属（ｂ）（例えば、鉄、コバルト、ニッケル、銅など）で構成されている金属成分（２）とを接触させる。このような方法では、金属成分（１）および金属成分（２）の割合が、金属（ａ）および金属（ｂ）の重量換算で、全体に対して１００ｐｐｍ以下のポリシランを得ることができる。 （もっと読む）

高温オゾン処理を含むナノ細孔の超低誘電薄膜の製造方法及びこれによって製造されたナノ細孔の超低誘電薄膜が提供され、前記製造方法は、有機シリケートマトリックス−含有溶液と反応性ポロゲン−含有溶液とを混合して混合溶液を準備し、前記混合溶液を基材上に塗布して薄膜を形成し、前記薄膜を熱処理し、前記熱処理の過程中にオゾン処理を行うことを含み、このような製造方法によって製造されたナノ細孔の超低誘電薄膜は、高温のオゾン処理及び処理温度の最適化による薄膜内の細孔のサイズと分布度の改善を通じて、２.３以下の誘電率と１０ＧＰａ以上の機械的強度とを有することができる。
（もっと読む）

【課題】副反応による異性化や縮合の発生を抑制しつつ、効率良くヒロドシリル化反応を進行させることができるかご型シルセスキオキサン化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】不活性ガス雰囲気下で、
（ＤＲ^１Ｒ^２ＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｎ（Ｒ^３Ｒ^４ＨＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｐ
（ＢＲ^５Ｒ^６ＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｑ（ＨＯＳｉＯ_１．５）_{ｍ−ｎ−ｐ−ｑ} （１）
のかご型シルセスキオキサン化合物と反応触媒とを有する反応溶媒に、炭素−炭素二重結合を分子中に２つ以上有する不飽和炭化水素化合物を、ヒドロシリル化反応が進行し、且つ異性化及び縮合が生じない温度条件のもとで、滴下して、（１）のかご型シルセスキオキサン化合物に不飽和炭化水素化合物を付加反応させ、
（ＡＲ^１Ｒ^２ＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｎ（Ｒ^３Ｒ^４ＨＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｐ
（ＢＲ^５Ｒ^６ＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｑ（ＨＯＳｉＯ_１．５）_{ｍ−ｎ−ｐ−ｑ} （２）
を得る。 （もっと読む）