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Fターム[4J246FB30]の内容

珪素重合体 (47,449) | 反応系内存在の金属、B、Siを含まない調整剤 (1,345) | その他の調整剤 (30)

Fターム[4J246FB30]に分類される特許

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【課題】原料である環状シロキサンの環の径を大きくすることなく、かつ空孔形成剤を用いることなく、大きな空孔を形成する多孔質層間絶縁膜を提供する。
【解決手段】トランジスタが形成されたシリコン基板10上にSiOを主成分とする層間絶縁膜2が設けられ、さらに層間絶縁膜2の上には、多孔質層間絶縁膜1が設けられている。多孔質層間絶縁膜1には配線90およびビア91が埋め込まれている。
なお、この多孔質層間絶縁膜1は、環状シロキサンと、少なくとも1つの酸素原子を含む有機化合物と、を含む混合原料ガスを用いたプラズマCVD法により成膜している。これにより、大きな空孔径のかご型構造を有する層間絶縁膜が得られるようになる。すなわち、環状シロキサンの環の径を大きくすることなく、より大きな空孔を形成することが可能となる。大きな空孔の形成が膜密度低減に貢献し、その結果、多孔質絶縁膜の比誘電率低減が実現可能となる。 (もっと読む)


【課題】有機錫化合物を含有することなく、有機錫化合物使用時と同等以上の湿気硬化性を有すると共に、良好な保存安定性を有する湿気硬化型の硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)〜(C)成分を含む硬化性樹脂組成物。(A)成分:分子中に加水分解性シリル基を2つ以上有する化合物。(B)成分:ペンタフルオロベンズアルデヒド及び/またはペンタフルオロチオフェノール。(C)成分:アミン化合物(ただし(A)成分を除く) (もっと読む)


【課題】かご型ポリシルセスキオキサンを有するポリマーの更なる物性の向上を図るため、対称性を持つ構造を制御したかご型ポリシルセスキオキサンを提供する。
【解決手段】下記式(1)で表されるシロキサン化合物。


〔上記式(1)中、R1およびR2は、水素原子、−OH、−SH、または炭素数1〜30の1価の有機基を示し、R1とR2は互いに異なる基であり、mは4〜8の整数である。〕 (もっと読む)


【課題】中和工程を必要としないで、両末端シラノール基封鎖の低分子量直鎖状オルガノポリシロキサンを高割合で簡便に製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】環状オルガノポリシロキサンを、水と水混和性有機溶媒との混合溶媒中で、該環状オルガノポリシロキサンの開環反応を促進する固相触媒との接触下において加水分解することを含む、下記一般式(2):


(式中、R1およびR2は独立に置換または非置換の一価炭化水素基、、pは1≦p≦20の整数である。)
で示される分子鎖両末端がシラノール基で封鎖された直鎖状のオルガノポリシロキサンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】各樹脂への分散性に優れ、成形物の諸物性を低下させずに難燃性を付与でき、更に耐水性を向上できる表面処理無機粉体を提供する。
【解決手段】無機粉体を、Xm(R2nSi(OR1(4-m-n)
(X、R1、R2は1価炭化水素基、mは1又は2、nは0又は1、m+nは1又は2)
の化合物或いはその部分加水分解縮合物、又はこれと、
(OR13-q(R2qSi−Y−Si(R2p(OR13-p
(Yは2価有機基又は−(R4−Si(R32s−(OSi(R32r−R5t−、R3は1価炭化水素基、R4は2価炭化水素基、R5はO又は2価炭化水素基、rは1〜40、s,tは0又は1、p,qは0〜3、p+qは0〜4)
の化合物或いはその部分加水分解縮合物を含む原料を、生成するポリシロキサンと分離状態となる液状加水分解縮合触媒を用いて得たオルガノポリシロキサンで表面処理してなる表面処理無機粉体。 (もっと読む)


本発明は、SiH/SiOH基を有する成分を含むシリコーン組成物であって、必要な活性化温度が低い三置換又は四置換非シリル化グアニジンタイプの非金属触媒の存在下で脱水素縮合反応によって重合/架橋させることができる前記シリコーン組成物に関する。 (もっと読む)


【課題】重合性官能基及び紫外線吸収性基を有し、得られる塗膜の耐熱性、耐擦傷性、耐候性に優れるシルセスキオキサン化合物及び該シルセスキオキサン化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも1つが下記一般式(I)で表される有機基であることを特徴とするシルセスキオキサン化合物及び該シルセスキオキサン化合物の製造方法。
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【課題】 低温硬化工程により接着性が向上する硬化方法を提供すること。
【解決手段】 (A)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有するケイ素化合物、(C)ヒドロシリル化触媒を含有する硬化性組成物を、60〜90℃にて0.5〜10時間加熱処理したのち、100〜250℃にて0.5〜12時間加熱処理することを特徴とする硬化物の製造方法。 (もっと読む)


本発明は、常温から110℃の温度で、イオン交換樹脂触媒の乾燥質量に対し6〜19質量%の水を含有するイオン交換樹脂触媒の存在下で、少なくとも2つのシロキサンを反応させる工程を備えるシロキサンの製造方法に関する。本発明は、イオン交換樹脂触媒の水を乾燥質量に対し6〜19質量%に再調整するため前記イオン交換樹脂触媒に水を加える工程、及び、その後前記再調整した水を含むイオン交換樹脂触媒の存在下で少なくとも2つのシロキサンを反応させる工程を備える、前記イオン交換樹脂触媒の存在下での前記少なくとも2つのシロキサンの反応後のイオン交換樹脂触媒の再利用方法にも関連する。 (もっと読む)


【課題】α,ω−ジヒドロキシシロキサンおよびエポキシ官能性モノマーから始まる1段階の直接アルコキシル化プロセスと、さらにこのプロセス原理に基づく末端ヒドロキシル基を有する新規な直鎖のSiOC結合シリコーンポリエーテル構造とを提供する。
【解決手段】その縮合を生じる傾向ならびに塩基および酸中での不安定性で知られる、SiOH基を保持するオルガノシロキサン、すなわち有機変性ケイ酸誘導体が、DMC触媒とも称される公知の複合金属シアン化物触媒を使用して、有利且つ単純な手法で直接アルコキシル化され得る。 (もっと読む)


【課題】感光特性に優れ、250℃以下での低温硬化が可能であり、硬化後の伸度が高く、180℃キュア時での体積収縮及び、150℃での均熱重量減少率が小さく、ソフトベーク後のコーティング膜をタックフリーとすることができ、ワニスの粘度変化率が少ない新規な感光性ポリオルガノシロキサン組成物を実現すること。
【解決手段】下記(a)〜(e)成分を含む感光性ポリオルガノシロキサン組成物。
(a)特定のポリオルガノシロキサン
(b)光重合開始剤
(c)光重合性の不飽和結合基を2つ以上有する、(a)成分以外の化合物
(d)シリコーンレジン
(e)5〜6員の窒素原子含有複素環基(芳香族性を持たないものも含む。)から選択される少なくとも1つの基を有する化合物 (もっと読む)


【課題】貯蔵安定性に優れ、硬化物としたときの常温でのべたつきがなく、強度に優れ、硬化収縮が少なく、透明性を有し、耐光性に優れるLED封止材用樹脂に適した多官能エポキシシリコーン樹脂を提供する。
【解決手段】多官能アルコキシシランモノマーを同時に用いても良いエポキシ基含有トリアルコキシシラン混合モノマーを、ゲル化することなく高分子量化させたのち、末端封止剤を用いて残存アルコキシ基、シラノール基をエンドキャップすることにより得られる架橋性置換基が実質上エポキシ基のみである多官能エポキシシリコーン樹脂及びその製造方法及びこの樹脂を用いた硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 良好な特性を有するシリカ系絶縁膜やLow−k膜などの形成に適するポリシラザンまたはポリシラザン溶液の取り扱い方法を提供する。
【解決手段】 ポリシラザンまたはポリシラザン溶液の取り扱い方法は、外気から遮蔽され、且つアミン、塩基性物質、揮発性有機化合物、酸性物質を除去された空気を主たる空気の供給源とする第1空間内で、少なくともポリシラザンの合成およびポリシラザン溶液の調合を含むポリシラザンまたはポリシラザン溶液を取り扱う工程を含む。 (もっと読む)


【課題】かご状シルセスキオキサン、特にn=8のT−8シルセスキオキサンを高い選択率で簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】アルコキシ基を有するかご状シルセスキオキサンの製造方法において、溶媒および塩基存在下、1当量のSi−H結合を有するかご状シルセスキオキサンと、30〜40当量のアルコールとを20〜30℃で反応させるアルコキシ基を有するかご状シルセスキオキサンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】光学用途に使用可能な透明材料で、無機ガラスの低吸水性とプラスチックの低温での成型可能性の両方の性質をもち、なおかつ通常の使用に耐えうるような強度を持った材料が得られていない。
【解決手段】有機無機ハイブリッドガラス状物質の作成法において、R1Si(OR24−n(R1は有機基、R2は炭素数1〜5のアルキル基、nは1〜2)で表されるオルガノアルコキシシランの重縮合物と有機ポリマーを溶媒内で混合し、さらにそれらの混合物に対して、架橋剤兼相容化剤となるフルオレン化合物を混合した後、溶媒留去することによって、有機無機ハイブリッドガラス状物質を作成する方法。 (もっと読む)


本発明は、a) サッカライド−シロキサン共重合体;b) 架橋剤; c) 一種以上の活性/不活性成分; d) 任意に、溶剤または混合溶剤からなり、当該サッカライド−シロキサン共重合体が次式:R2aR1(3-a)SiO-[(SiR2R1O)m-(SiR12O)n]y-SiR1(3-a)R2a (定型的に定義される)を有し、かつ当該サッカライド−シロキサン共重合体が官能化されたオルガノシロキサンポリマーと少なくとも1種のヒドロキシ官能性サッカライドとの反応生成物で、オルガノシロキサン構成部が結合基を介してサッカライド構成部に共有的に結合している、フィルム形成用組成物;フィルム;それらの関連方法を提供する。本発明は、新規のフィルム形成用組成物および/またはフィルムからなる局所的および経皮薬剤デリバリーパッチを含む製品をも提供する。
(もっと読む)


本発明は、同一の又は異なる(有機)ケイ素化合物Pが有する少なくとも1個の≡SiOH単位と少なくとも1個の≡SiOR単位(ここで、Rは水素又は随意に1個以上のヘテロ原子を有するC1〜C20炭化水素基である)とを有効量の少なくとも1種の触媒Cの存在下で縮合させる方法であって、前記触媒Cがカルベンであることを特徴とする、前記方法に関する。 (もっと読む)


【課題】層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも低屈折率で誘電率、ヤング率等の膜特性に優れた組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】m個のRSi(O0.5)3ユニット(mは8〜16の整数を表し、Rはそれぞれ独立して非加水分解性基を表し、Rのうち、少なくとも2つはビニル基またはエチニル基を含む基である)を有し、各ユニットが、各ユニットにおける酸素原子を共有して他のユニットに連結しカゴ構造を形成している化合物(I)の重合物を含む組成物。
ただし、組成物に含まれる固形分のうち、化合物(I)のビニル基同士が反応した重合物が60質量%以上である。 (もっと読む)


【課題】 本願発明の目的は、鎖状及び/又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と炭素−炭素二重結合とエポキシ基を有する化合物とをヒドロシリル化反応させた後、ゲル化させずに反応液中の未反応化合物及び溶剤を減圧下で留去させる方法を提供する。
【解決手段】
(A)1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する鎖状及び/又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と、(B)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合とエポキシ基を1分子中に少なくとも各1個含有する有機化合物とを、(C)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させてエポキシ基含有オルガノシロキサン化合物を製造する方法において、前記化合物(A)及び化合物(B)の反応終了後、前記反応液に(D)リン含有化合物を添加し、減圧下で未反応化合物及び溶剤を除去することを特徴とする、エポキシ基含有オルガノシロキサン化合物の製造方法。 (もっと読む)


本発明の放射線硬化性組成物は、(a)成分:シロキサン樹脂と、(b)成分:光酸発生剤又は光塩基発生剤と、(c)成分:(a)成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒とを含有してなるものである。 (もっと読む)


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