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【課題】 アミノ基含有オルガノポリシロキサンブロックとポリオキシアルキレンブロックからなるブロック共重合体を高濃度で含有し、保存安定性および水への分散性に優れた配合剤組成物を提供する。
【解決手段】 (A)アミノ基含有オルガノポリシロキサンブロックとポリオキシアルキレンブロックからなるブロック共重合体、(B)ノニオン性界面活性剤および(C)式:R−O−(CHCHO)(CHCHCHO)−H(式中Rは炭素原子数4以下の炭化水素基であり、nは0〜3の整数、mは0〜3の整数であり、n+mは3以下の整数である。)で表される1分子中に水酸基を1個有する化合物を含んでなり、(B)成分と(C)成分の質量比((B)/(C))が1/0.4〜1/16の範囲であり、実質的に水を含有しないことを特徴とする配合剤組成物。 (もっと読む)


【課題】水等の液浸露光用液体を介してレジスト膜を露光する液浸露光プロセスに好適に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターンを提供する。
【解決手段】本発明の液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、式[RSiX4−a]で表されるシラン化合物、及び式[SiX]で表されるシラン化合物から選ばれる少なくとも1種を加水分解縮合させて得られる構造を有し、且つGPCによる重量平均分子量が1000〜200000であるケイ素含有重合体と、フッ素含有重合体と、酸発生剤と、溶剤とを含有する〔尚、各式におけるRはフッ素原子、アルキルカルボニルオキシ基、又は炭素数1〜20のアルキル基を示し、Xは塩素原子、臭素原子又はOR(R:1価の有機基)を示し、aは1〜3の整数を示す。〕。 (もっと読む)


【課題】 低応力かつ高接着力であるだけでなく、耐熱性、耐湿性等の耐環境性にも優れ、車載用途等に用いられる高密度基板の材料として好適に用いられる樹脂付金属箔を提供する。
【解決手段】 金属箔の少なくとも一方の面に、エポキシ樹脂を含む樹脂組成物からなる樹脂層を備えた構造を有する樹脂付金属箔であって、
該樹脂組成物は、下記平均組成式(1):
XaYbZcSiOd (1)
(式中、Xは、同一若しくは異なって、イミド結合を含む有機骨格を表し、Yは、同一若しくは異なって、水素原子、水酸基、ハロゲン原子及びOR基からなる群より選ばれる少なくとも一つを表し、Zは、同一若しくは異なって、イミド結合を含まない有機基を表す。Rは、同一若しくは異なって、アルキル基、アシル基、アリール基及び不飽和脂肪族残基からなる群より選ばれる少なくとも一つの基を表し、置換基があってもよい。a、b及びcは、0又は3未満の数であり、dは、0でない2未満の数であり、a+b+c+2d=4である。)で表されるシラン化合物を含むことを特徴とする樹脂付金属箔。 (もっと読む)


【課題】層間絶縁膜としてシリカ系被膜の形成が容易で保存安定性に優れ、比較的安価で、耐熱性、クラック耐性、解像性及び透明性に優れる感光性樹脂組成物、それを用いたシリカ系被膜の形成方法、シリカ系被膜を備える半導体装置、平面表示装置及び電子デバイス用部材の提供。
【解決手段】下記一般式(1)で表される化合物を含む第1のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第1のシロキサン樹脂と、下記一般式(2)で表される化合物を含む第2のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第2のシロキサン樹脂とを混合し、さらに加水分解縮合して得られる重量平均分子量が8000〜300000であるシロキサン樹脂と、溶媒と、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルとを含有する感光性樹脂組成物。
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【課題】ベタつきがなく感触が良好であり、かつ、エタノールに均一に溶解するオルガノポリシロキサン化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】オルガノポリシロキサンに、下記一般式(1)で表される繰返し単位からなるポリ(N−アシルアルキレンイミン)のセグメントが結合してなるオルガノポリシロキサン化合物の製造方法であって、環状イミノエーテル化合物を開環重合して、末端反応性ポリ(N−アシルアルキレンイミン)を調製する工程、(b)前記工程(a)で得られた末端反応性ポリ(N−アシルアルキレンイミン)100gに対して、分子鎖の末端及び/又は側鎖にアミノ基を有する変性オルガノポリシロキサンを30g/分以上の速度で添加して反応させる工程を含む、オルガノポリシロキサン化合物の製造方法。


(前記一般式(1)中、R1は、水素原子、炭素数1〜22のアルキル基、アラルキル基、又はアリール基を表し、nは2又は3を表す。) (もっと読む)


【課題】基材、特にプラスチック材料との付着性に優れ、しかも耐候性、耐擦り傷性に非常に優れた複層塗膜を形成しうる複層塗膜形成方法、及び該複層塗膜を有する塗装物品を提供する。
【解決手段】基材上に、光及び熱硬化性下塗り塗料組成物(I)を用いて下塗り塗膜を形成した後、その上に、ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも1つがウレタン結合及び1つの(メタ)アクリロイルオキシ基を有する有機基であるシルセスキオキサン化合物(a)、及び光重合開始剤(b)を含有する活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物(II)を用いて上塗り塗膜を形成することを特徴とする複層塗膜形成方法。 (もっと読む)


【課題】エタノールに均一に溶解するオルガノポリシロキサン化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】オルガノポリシロキサンに下記一般式(1)で表される繰返し単位からなるポリ(N−アシルアルキレンイミン)が結合してなるオルガノポリシロキサン化合物の製造方法であって、(a)環状イミノエーテル化合物を開環重合して、末端反応性ポリ(N−アシルアルキレンイミン)溶液を調製する工程、(b)前記工程(a)で得られた末端反応性ポリ(N−アシルアルキレンイミン)溶液と分子鎖の末端及び/又は側鎖にアミノ基を有する変性オルガノポリシロキサン溶液とを、混合溶液中の固形分濃度が10〜60質量%となるように、混合して反応させる工程を含む、オルガノポリシロキサン化合物の製造方法。


(前記一般式(1)中、R1は、水素原子、炭素数1〜22のアルキル基、アラルキル基、又はアリール基を表し、nは2又は3を表す。) (もっと読む)


【課題】基材、特にプラスチック材料との付着性に優れ、しかも耐候性、耐擦り傷性に非常に優れた複層塗膜を形成しうる複層塗膜形成方法、及び該複層塗膜を有する塗装物品を提供する。
【解決手段】基材上に、常温硬化又は熱硬化性下塗り塗料組成物(I)を用いて下塗り塗膜を形成した後、その上に、ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも1つがウレタン結合及び1つの(メタ)アクリロイルオキシ基を有する有機基であるシルセスキオキサン化合物(a)、及び光重合開始剤(b)を含有する活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物(II)を用いて上塗り塗膜を形成することを特徴とする複層塗膜形成方法。 (もっと読む)


【課題】 保存安定性に優れており、レジスト膜との密着性に優れるシリコン含有膜を形成することができると共に、裾引き等のないボトム形状に優れるレジストパターンを安定して形成できるシリコン含有膜形成用組成物を提供することである。
【解決手段】 (A1)ポリシロキサン、(B)特定構造を有する化合物、および(C)有機溶媒を含有することを特徴とするシリコン含有膜形成用組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】解像度に優れており、且つ所望形状のパターンを精度良く形成することのできる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】本発明の感放射線性組成物は、(A)ポリシロキサンと、(B)1価の陰イオンを2個以上有する構造、及び1価の陽イオンを2個以上有する構造のうちの少なくとも一方を分子内に有する化合物と、(C)溶剤と、を含有する。 (もっと読む)


【課題】未加水分解の残基が殆どなく、しかも副生物が極めて少なく高収率である両末端シラノール基封鎖低分子量直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(1):
SiRR(OCOR3 (1)
(式中、R1およびR2は独立に置換または非置換の一価炭化水素基、R3は炭素原子数1〜4のアルキル基)
で示されるジオルガノジアシルオキシシランを、シクロペンチルメチルエーテル中において、少量の水の存在下、部分加水分解および縮合反応に供し、
(B)工程(A)で得られた反応混合物を、大過剰量の水で洗浄することにより、前記ジオルガノジアシルオキシシランの加水分解を完全に進行させるとともに加水分解副生物であるカルボン酸を有機相から抽出、除去し、
(C)工程(B)で得られた有機相からシクロペンチルメチルエーテルを留去させる、
工程を有する両末端シラノール基封鎖低分子量直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】安定化されたネットワーク状ポリシランを得る。
【解決手段】少なくともトリハロシランを含むハロシランが重合したネットワーク状のポリシラン(例えば、ポリアルキルトリハロシラン、アリールトリハロシラン−アルキルトリハロシラン共重合体、アリールトリハロシラン−アルキルアリールジハロシラン共重合体など)の重合末端(ハロシリル基、シラノール基など)を、炭化水素基(例えば、アルキル基など)などの封鎖基により封鎖する。 (もっと読む)


【課題】ケイ素含量が大きく、溶媒溶解性に優れる新規なネットワーク状ポリシランを提供する。
【解決手段】メチルトリハロシランと、炭素数2以上のアルキルトリハロシラン(例えば、エチルトリハロシランなどのC1−4アルキルトリハロシラン)とを重合させて、ネットワーク状ポリシランを得る。メチルトリハロシランと、炭素数2以上のアルキルトリハロシランとの割合は、例えば、前者/後者(モル比)=1/99〜50/50程度であってもよい。 (もっと読む)


【課題】金属マグネシウム成分を用い、末端が封鎖されたポリシランを効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】非プロトン性溶媒中で、金属マグネシウム成分の存在下、ハロシランを重合させてポリシランを製造する際に、重合後の反応混合物中に残存する金属マグネシウム成分と有機ハロゲン化物とを反応させて、グリニャール試薬を生成させるとともに、生成したグリニャール試薬と、重合末端としてハロゲン原子を有するポリシランとをグリニャール反応させ、重合末端が封鎖されたポリシランを製造する。 (もっと読む)


【課題】フッ素変性基が均一に導入された高いフッ素含有率を有するフッ素変性アミノ基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法の提供。
【解決手段】式(1)


[R1は1価炭化水素基、R2は2価炭化水素基、Rf1は1価のパーフルオロアルキル基又はパーフルオロポリエーテル基、Rf2は1価のパーフルオロポリエーテル基、X及びX’は水素原子、又は1価のオルガノシリル基である。また、lは3〜30、mは1〜10、nは1〜10、l+m+n=5〜50を満足する整数である。]で表されるフッ素変性アミノ基含有オルガノポリシロキサン。 (もっと読む)


【課題】透明性、耐熱性、耐衝撃性、及び寸法安定性に優れたガスバリア性積層体フィルムを提供する。
【解決手段】籠型シルセスキオキサン構造を有した硬化性樹脂を含んだ硬化性樹脂組成物からなり、引張応力−ひずみ曲線における引張弾性率が2000MPa以上、線膨張係数が80ppm/K以下、及びガラス転移温度が300℃以上である第一の層と、籠型シルセスキオキサン構造を有した硬化性樹脂を含んだ硬化性樹脂組成物からなり、引張応力−ひずみ曲線における引張弾性率が100MPa以上であって第一の層の引張弾性率未満であり、かつ、降伏点を有して塑性変形を示す第二の層とが積層され、この積層物の一方の面、又は両方の面には、ガスバリア層が設けられていることを特徴とするガスバリア性積層体フィルムである。 (もっと読む)



【課題】シルセスキオキサン骨格をケイ素系ポリマーの主鎖に含み、かつ耐熱性に優れるだけではなく、常温域で線膨張係数の非常に低い架橋シリコーン硬化物を提供すること。
【解決手段】式(1)で表されるケイ素化合物と、式(2)で表される架橋性ケイ素化合物及び式(2)で表される架橋性ケイ素化合物のオリゴマーからなる群より選ばれる一以上から得られる、ガラス転移点が30℃以下、かつ線膨張率が10ppm以下である、シロキサンポリマー架橋硬化物による。


(式(1)中、mは、独立して4〜30の整数を表し;nは、重量平均分子量2,000〜10,000,000を満たす数字を表すR3−Si(R43(2) (もっと読む)


【課題】フォトリソグラフィにより微細なパターン形成でき、200℃を超える熱処理を行なわずに絶縁膜が形成でき、有機薄膜トランジスタのゲート絶縁膜として使用した場合にキャリヤーがトラップされて電荷移動度が低下するという問題のない感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式(1)〜(4)で表わされるユニットを有するポリシロキサン化合物及び光ラジカル発生剤を含有する感光性樹脂組成物。
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【課題】過酷な環境下で使用されてもクラック又は剥離が生じ難い光半導体装置用封止剤を提供する。
【解決手段】本発明に係る光半導体装置用封止剤は、環状エーテル含有基を有するシリコーン樹脂反応物と、上記シリコーン樹脂反応物の上記環状エーテル含有基と反応可能な熱硬化剤とを含有する。上記シリコーン樹脂反応物は、単官能のカルボン酸及び単官能のアミン化合物の内の少なくとも1種の成分と、環状エーテル含有基を有するシリコーン樹脂との反応により得られる。光半導体装置1は、光半導体素子3と、該光半導体素子3を封止するように設けられた光半導体装置用封止剤4とを備える。 (もっと読む)


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