【課題】キノンジアジド化合物との相溶性が高く、ＩＴＯ膜エッチング工程におけるレジスト剥離液耐性に優れた層間絶縁膜を形成可能なポリシロキサン系ポジ型感放射線性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］シロキサンポリマー、及び［Ｂ］キノンジアジド化合物を含有し、［Ａ］シロキサンポリマー中のアリール基のＳｉ原子に対する含有率が６０モル％を超え９５モル％以下であるポジ型感放射線性組成物である。［Ａ］シロキサンポリマーが、下記式（１）（式中、Ｒ^１は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数６〜１５のアリール基のいずれかを表す。Ｒ^２は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアシル基、炭素数６〜１５のアリール基のいずれかを表す。但し、これらのアルキル基、アルケニル基、及びアルキル基の水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。ｎは０から３の整数を表す）で示される化合物を少なくとも含む加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物であってよい。
（もっと読む）

【課題】加熱時の密着性に優れ、また、クラックが発生しにくく、透明性が高く、硬度が高い硬化物を形成することのできる硬化性組成物を製造する方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）〜（３）で表される構成単位を含むオルガノポリシロキサンであって、シラノール当量が０ｇ／ｅｑ．を超え５００ｇ／ｅｑ．以下であり、該オルガノポリシロキサンを構成する全シロキサン単位を１００モル％とした場合に、三官能性シロキサン単位を１０〜７０モル％含有することを特徴とするオルガノポリシロキサン。


〔式中、Ｒ¹およびＲ³は、それぞれ独立に非置換もしくは置換の炭素数１〜３の１価の炭化水素基を示す。Ｒ^Eは、エポキシ基を有する炭素数３〜２０の有機基を示す。Ｒ⁹は、それぞれ独立に水素原子または非置換もしくは置換の炭素数１〜３の炭化水素基を示す。ａは０または１である。〕 （もっと読む）

【課題】密閉系内における硬化性、接着性、耐熱着色安定性、および透明性と接着強度とのバランスに優れる硬化性シリコーン樹脂組成物の提供。
【解決手段】重量平均分子量２０，０００〜２００，０００の、１分子中に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有するシリコーンＡを１００質量部と、重量平均分子量１，０００以上２０，０００未満の、１分子中に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有するシリコーンＢを１０質量部以上と、重量平均分子量３００以上１，０００未満であり、（メタ）アクリル当量が４５０ｇ／ｍｏｌ未満であり、１分子中に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有するシリコーンＣを２質量部以上と、ラジカル開始剤とを含有する硬化性シリコーン樹脂組成物。 （もっと読む）

シルセスキオキサン樹脂をパターン形成フォトレジストの上に塗布し、硬化して、パターン表面の上に硬化シルセスキオキサン樹脂を生成する。その後、塩基水溶液の揮散剤又はＣＦ_４を含有する反応性イオンエッチング法を用い、シリコン樹脂をフォトレジスト材料の上面まで「エッチングバック」し、フォトレジストの上面全体を露出する。次に、Ｏ_２を含有する第２反応性イオンエッチング法を用い、フォトレジストをエッチング除去する。結果、フォトレジスト中にパターン形成したポストのサイズ及び形状のビアホールを有するシリコン樹脂膜が得られる。任意で、新規パターンを下層へ転写することができる。
（もっと読む）

本発明の対象は、一般式（１） Ｓｉ_nＲ_2n+2 （１）のポリシランの製造方法であって、一般式（２） Ｒ¹_mＳｉＨ_4-m （２）のシランを、一般式（３） Ｒ²₃Ｂ （３）のホウ素化合物の存在下で反応させる［前記式中、Ｒ¹は、１〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、Ｒは、水素又は基Ｒ¹を意味し、Ｒ²は、フッ素、塩素、臭素又は１〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基であって、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びＮＯ₂から選択される置換基を有してよい基を意味し、ｎは、２〜１０００００の整数値を意味し、かつｍは、０、１又は２の値を意味する］、前記製造方法である。 （もっと読む）

【課題】屈折率が高く、透明性、耐熱性が良好な硬化物を得ることができる熱硬化性組成物を提供する。
【解決手段】式（１−ａ）で表される構成単位と、式（１−ｂ）で表される構成単位とからなる液状有機ケイ素化合物による。


上記式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³はそれぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルから選択される基であり、ｎは２〜５０の整数である。 （もっと読む）

【課題】低発熱性に一層優れ、且つ揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が発生しない変性共役ジエン系重合体及びその製造方法、その変性共役ジエン系重合体を用いたゴム組成物及びそのゴム組成物を用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】（ａ）活性末端を有する共役ジエン系重合体の該活性末端に、シロキサン化合物を反応させて変性を行い、末端シラノール基を有するポリシロキサンブロックをもつ共役ジエン系重合体を生成させる工程、及び（ｂ）縮合促進剤の存在下、前記シラノール基が関与する縮合反応を行う工程、を含む変性共役ジエン系重合体の製造方法、この方法で得られた変性共役ジエン系重合体、これを含むゴム組成物、及び該ゴム組成物をタイヤ部材に用いてなる空気入りタイヤである。 （もっと読む）

【課題】未反応のアルコキシ基残存量の少ない、分子鎖両末端に水酸基を有する低重合度の直鎖状ジオルガノポリシロキサンを製造する方法を提供する。
【解決手段】（ａ）一般式(1):
Si(Ｒ¹)(Ｒ²)(ＯＲ³)₂ (1)
〔式中、Ｒ¹及びＲ²は、おのおの独立に、置換もしくは非置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基であり、Ｒ³は、メチル基又はエチル基である〕
で表されるジアルコキシシランを、該ジアルコキシシランが有するアルコキシ基に対して1.0倍モル以上の量の水を含有するｐＨ1.0〜6.0の酸水溶液と混合し、生成するアルコールを除去しながら加水分解及び縮合を行う工程と、
（ｂ）工程（ａ）で得られた反応混合物に金属酸化物を添加する工程と
を有することを特徴とする、両末端に水酸基を有する低重合度直鎖状ジオルガノシロキサンの製造方法 （もっと読む）

【課題】重合性官能基及び紫外線吸収性基を有し、得られる塗膜の耐熱性、耐擦傷性、耐候性に優れるシルセスキオキサン化合物及び該シルセスキオキサン化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも１つが下記一般式（Ｉ）で表される有機基であることを特徴とするシルセスキオキサン化合物及び該シルセスキオキサン化合物の製造方法。
（もっと読む）

本発明は、共有結合している２つ以上のチオール基又はエチレン性不飽和基を有するために中間コポリマーを官能化することによって得られた化学線架橋性シリコーン含有プレポリマーのクラスを提供し、その中間コポリマーは、ポリシロキサンＡＴＲＰマクロ開始剤及び少なくとも１つの親水性ビニルモノマーを含む反応性混合物の原子移動ラジカル重合（ＡＴＲＰ）生成物である。本発明は、また、本発明のプレポリマーから製造されるシリコーンヒドロゲルコンタクトレンズ、及びコスト効率の良い方法でかつ高い一貫性及び元のレンズ設計に対する高い正確性を有するコンタクトレンズを製造するための方法に関する。 （もっと読む）

【課題】
光半導体用封止剤などに好適に用いられるイソシアヌル環含有末端ハイドロジェンポリシロキサンを提供することを目的とする。
【解決手段】
式（１）で表わされる、イソシアヌル環を有し、少なくとも２個の末端ハイドロジェンシロキシ基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン。
【化１】


（Ｘは互いに独立に、不飽和結合を含まない一価の有機基、Ｒは互いに独立にメチル基またはフェニル基、nは１〜５０の整数、ｍは０〜５の整数、およびPは１〜１０の整数である。） （もっと読む）

【課題】露光光の反射を抑制し良好なパターン形成が可能であり、ケイ素含有反射防止膜の上層であるフォトレジスト膜、下層であるナフタレン骨格を有する有機膜との間で良好なドライエッチング特性を有し、保存安定性の良好なケイ素含有反射防止膜を形成するための、熱硬化性ケイ素含有反射防止膜形成用組成物、この熱硬化性ケイ素含有反射防止膜形成用組成物から形成されるケイ素含有反射防止膜が形成された基板、更にこれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも、ナフタレン骨格を有する下層膜としての有機膜の上に、１９３ｎｍにおける屈折率ｎと消衰係数ｋが以下の式の関係を満たすケイ素含有反射防止膜を形成可能な熱硬化性ケイ素含有反射防止膜形成用組成物。２ｎ−３．０８≦ｋ≦２０ｎ−２９．４であり、０．０１≦ｋ≦０．５ （もっと読む）

【課題】塗布性に優れ、層間絶縁膜として用いることのできるシリカ系被膜の形成が比較的容易であり、かつ形成されるシリカ系被膜が耐熱性、解像性及び透明性に優れる感光性樹脂組成物及びそれを用いたシリカ系被膜の形成方法を提供すること。
【手段】（ａ）成分：第１のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第１のシロキサン樹脂と、第２のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第２のシロキサン樹脂とを混合し、さらに加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：フェノール類又はアルコール類とナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステル化合物とを含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】塗布性に優れ、層間絶縁膜として用いることのできるシリカ系被膜の形成が比較的容易であり、かつ形成されるシリカ系被膜が耐熱性、解像性及び透明性に優れる感光性樹脂組成物及びそれを用いたシリカ系被膜の形成方法を提供すること。
【手段】（ａ）成分：第１のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第１のシロキサン樹脂と第２のシラン化合物との混合物を加水分解縮合し、更に加熱処理して得られる第２のシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：フェノール類又はアルコール類とナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステル化合物とを含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜や無機膜との密着性に優れ、さらに低露光量であっても耐溶剤性に優れた着色層を形成することができる新規な着色組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）バインダー樹脂、および（Ｃ）重合可能な基を有するポリカルボシランを含有することを特徴とする着色組成物。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性、耐熱黄変性などに優れた熱硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】下記（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）で表される化合物がヒドロシリル化反応することによって得られる有機ケイ素化合物、ならびに該化合物と硬化剤を含む熱硬化性樹脂組成物。
（Ａ） １分子中にSi-H基を２個以上有する、分子量が１００〜５０００００のシルセスキオキサン。
（Ｂ） １分子中にアルケニルを２個以上有する、分子量が１００〜５０００００のシリコーンおよび／またはシルセスキオキサン。
（Ｃ） １分子中にエポキシまたはオキセタニルを１個以上と、炭素数が２〜１８のアルケニルとを有する化合物。 （もっと読む）

本発明は、ビニル水素ポリシロキサンを提供する。このビニル水素ポリシロキサンは、少なくとも２個のケイ素に結合した水素原子と、少なくとも２個のケイ素に結合したビニル基とを有するオルガノポリシロキサンとを含む。このビニル水素ポリシロキサンのケイ素原子の総数の割合として、ケイ素原子の約２５％から約９０％が水素原子と結合し、かつ約１０％から約４５％がビニル基と結合している。ケイ素に結合した水素基の数の、ケイ素に結合したビニル基の数に対する比は、約１．３から約６である。本発明は、少なくとも１種のビニル水素ポリシロキサンおよびヒドロシリル化触媒を含むシリコーン組成物；少なくとも１種のビニル水素ポリシロキサンの硬化生成物を含むシリコーン接着剤；および少なくとも１種の当該シリコーン接着剤を含む積層体も提供する。高温または直火に曝されると、これらのビニル水素ポリシロキサンは、チャーを形成し、種々の基材への接着を保持する。
（もっと読む）

【課題】本発明は、光重合性・リソグラフィー性を有し、さらには、絶縁性に優れるポリシロキサン系の光硬化性組成物を提供すること。薄膜トランジスタのパッシベーション膜、ゲート絶縁膜として有用である。
【解決手段】同一分子中に光重合性官能基およびＳｉＨ基を有し、かつ、６〜２４個のＳｉ原子から形成される多面体骨格を有するポリシロキサン構造を含有するポリシロキサン系化合物、アルケニル基を有する化合物、光重合開始剤、ヒドロシリル化触媒を含む光硬化可能な組成物。 （もっと読む）

【課題】相溶性に優れるシルセスキオキサンの提供。
【解決手段】ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記有機基の少なくとも１つが下記（Ｉ）で表される有機基であるシルセスキオキサン。


［式中、ＸはＯ又はＮＨを、Ｒ^１、Ｒ^２は炭素数１〜４の２価の炭化水素基を、Ｒ^３は（メタ）アクリロイルオキシ基を有する有機基を、Ｒ^４は水素原子又はメチル基を、Ｒ^５は炭素数１〜３０の有機基を、ｍは０〜２の整数を示す。］ （もっと読む）

本発明は増加した分子量のオルガノポリシロキサンを形成するためのオルガノポリシロキサンの重合、及びこうして生成されるオルガノポリシロキサン組成物に関する。オルガノポリシロキサンは重合中溶融ワックスを含有する混合物中にあり、これによりワックスと増加した分子量のオルガノポリシロキサンとの混合物を形成する。重合反応を完了した後、反応生成物をワックスの凝固温度より低い温度、例えば室温まで冷却することができる。これはオルガノポリシロキサン中のワックスの非常に密接な分散物又はその逆であるペースト状の固体混合物をもたらす。分散物は驚くほど安定している。 （もっと読む）