本発明は、シリコーン樹脂の水性エマルジョンを開示する。このエマルジョンのフィルムから水を除去すると、固体シリコーン樹脂コーティングが得られる。本シリコーン樹脂エマルジョンは、耐水性／撥水性を付与し、摩耗保護性／耐候性を向上させるための様々な基材の処理に有用である。特に、これらは、鉱物をベースとする結合材料に耐水性を付与するために有用であり、塗料中のバインダーとしても有用である。 （もっと読む）

【課題】有機成分を含まない高純度の二酸化ケイ素膜を形成するために有用な二酸化ケイ素前駆体および二酸化ケイ素前駆体組成物を提供すること。
【解決手段】上記二酸化ケイ素前駆体は、下記示性式（１）
（Ｈ_２ＳｉＯ）_ｎ（ＨＳｉＯ_１．５）_ｍ（ＳｉＯ_２）_ｋ （１）
（式（１）中、ｎ、ｍおよびｋはそれぞれ数であり、ｎ＋ｍ＋ｋ＝１としたとき、ｎは０．５以上であり、ｍは０を超えて０．３以下であり、ｋは０〜０．２である。）
で表され、１２０℃において固体状であるシリコーン樹脂である。
上記二酸化ケイ素前駆体組成物は、上記シリコーン樹脂および有機溶媒を含有する。 （もっと読む）

【解決手段】一部メチレン基が酸素に置換されていてもよいノルボルナン骨格と珪素原子とが直接結合された構造を有する側鎖を持ったシルセスキオキサンユニットを含有する縮合度が実質的に100％であるシルセスキオキサン系化合物混合物であり、該ノルボルナン骨格の珪素が結合していない側のジメチレン鎖が１つ以上の水素以外の置換基により置換されており、かつ、該ジメチレン鎖上の、より嵩高い置換基がｅｘｏ位を占める異性体の比率の方が高い側鎖を持ったシルセスキオキサンユニットを含有する。
【効果】本発明は、特に化学増幅ポジ型レジスト組成物に好適な実質的に100％の縮合度を持つシルセスキオキサン系化合物あるいはその混合物を与える。更に、本発明により得られる100％の縮合度を持つシルセスキオキサン系化合物混合物を用いたレジスト組成物は、従来のものに比較して、高い解像性、特に微小な繰り返しパターンの形成に対し高い性能を有する。 （もっと読む）

【課題】シリコーン樹脂の優れた特徴を保持し、かつ高度な耐衝撃性を有する新規なオルガノポリシロキサン化合物、およびこのオルガノポリシロキサンを用いた耐衝撃性に優れた樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ＲＳｉＯ_3/2単位（式中、ＲはＳｉに結合可能な有機基、水素基から選ばれる置換基を示す。）及びＳｉＯ_4/2単位の少なくとも一方からなる構造を必須成分とし数平均分子量が１０００以上のオルガノポリシロキサン重合体に、Ｒ₂ＳｉＯ_2/2単位（式中、ＲはＳｉに結合可能な有機基、水素基から選ばれる置換基を示す。）を５０モル％以上含むオルガノシロキサン鎖を反応させたオルガノポリシロキサン化合物および該オルガノポリシロキサン化合物を含有する樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高耐久で、現像効率が安定し、かつ、カブリ及び弾性層が含有する低分子量染み出しの発生を抑制する表面層を有する現像ローラであって、耐圧縮永久歪性にも優れた現像ローラの提供。
【解決手段】現像ローラの表面層が、フッ化アルキル基及びオキシアルキレン基を含有するポリシロキサンを含有し、かつ、ＳｉＯ_0.5Ｒ¹（ＯＲ²）（ＯＲ³）で示される第１のユニット、ＳｉＯ_1.0Ｒ⁴（ＯＲ⁵）で示される第２のユニット及びＳｉＯ_1.5Ｒ⁶で示される第３のユニットを有するポリシロキサンを含有する。該ポリシロキサン中の前記第１のユニットのモル数をｘ［ｍｏｌ］とし、前記第２のユニットのモル数をｙ［ｍｏｌ］とし、前記第３のユニットのモル数をｚ［ｍｏｌ］としたとき、０．６０≦｛（ｘ＋ｙ）／（ｘ＋ｙ＋ｚ）｝≦０．８０である。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、可撓性、靭性、電気特性を改善する熱硬化性重合体組成物を提供する。
【解決手段】 式（１）で表されるシルセスキオキサン骨格を繰り返し単位として有する化合物の少なくとも１つである第１成分と、オキシラニル、オキシラニレンまたは３、４−エポキシシクロヘキシルを有するかご型構造のシルセスキオキサン誘導体の少なくとも１つである第２成分と、硬化剤である第３成分とを必須成分として含有する熱硬化性重合体組成物：


ここに、Ｒ^１ａ〜Ｒ^１ｄはアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、またはオキシラニル、オキシラニレンもしくは３、４−エポキシシクロヘキシルを有する基である。 （もっと読む）

本発明は、ａモル％のジメチルシロキサン、−Ｋ−ＲＩＭで置換されたｂモル％のシロキサン、−Ｋ−ＲＩＭ−Ｚで置換されたｃモル％のシロキサン及び−Ｌ−Ｚで置換されたｄモル％のシロキサンを有するポリジメチルシロキサン主鎖を有するマクロモノマーに関し、そこでは、末端シロキサン基が、Ｒで３置換され、ＲＩＭは、屈折率調整基であり；Ｚはラジカル重合性基であり；Ｋはスペーサー基であり；Ｌは選択的であり、そしてスペーサー基であり；各Ｒは、ＲＩＭ、低級アルキル基、水素又はＺから独立して選択され；そしてａは０〜９５モル％の範囲にある上記マクロモノマーのモル％であり；ｂは５〜９９モル％の範囲にある上記マクロモノマーのモル％であり；ｃは０〜２モル％の範囲にある上記マクロモノマーのモル％であり；そしてｄは０〜２モル％の範囲にある上記マクロモノマーのモル％であるが；ただし、ｃ及びｄは同時に０モル％ではない。 （もっと読む）

本発明は、同一の又は異なる（有機）ケイ素化合物Ｐが有する少なくとも１個の≡ＳｉＯＨ単位と少なくとも１個の≡ＳｉＯＲ単位（ここで、Ｒは水素又は随意に１個以上のヘテロ原子を有するＣ₁〜Ｃ₂₀炭化水素基である）とを有効量の少なくとも１種の触媒Ｃの存在下で縮合させる方法であって、前記触媒Ｃがカルベンであることを特徴とする、前記方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 ハロゲン、リン、窒素等の原子を実質的に含有せず、極めて高い難燃化効果を発現する難燃剤、及びこれを用いて難燃化された難燃性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 ＳｉＸ_４単量体および／またはその部分加水分解縮合物（Ｘはハロゲン、水酸基、アルコキシ基、シロキシ基から選ばれる置換基を示す。）とＲ_３ＳｉＸ単量体（式中、ＲはＳｉに結合可能な有機基、水素基から選ばれる置換基を示し、複数のＲは同一であっても異なっていても良い。Ｘはハロゲン、水酸基、アルコキシ基、シロキシ基から選ばれる置換基を示す。）を必須原料として重合して得られるオルガノポリシロキサン化合物であって、予めＲ_３ＳｉＸ単量体がＳｉＸ_４単量体および／またはその部分加水分解縮合物中のケイ素原子１モルに対して１／１００モル以上存在する条件で重合して得られるオルガノポリシロキサン化合物を含有することを特徴とする難燃剤、該難燃剤を含有する難燃性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐光性、耐熱性に優れ、長期間使用してもクラックや剥離を生じることなく半導体発光デバイスを封止し、蛍光体を保持することのできる、新規な半導体発光デバイス用部材を提供する。
【解決手段】（１）固体Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルにおいて、
（ｉ）ピークトップの位置がケミカルシフト−４０ｐｐｍ以上０ｐｐｍ以下の領域にあり、ピークの半値幅が０．５ｐｐｍ以上、３．０ｐｐｍ以下であるピーク、及び、
（ii）ピークトップの位置がケミカルシフト−８０ｐｐｍ以上−４０ｐｐｍ未満の領域にあり、ピークの半値幅が１．０ｐｐｍ以上５．０ｐｐｍ以下であるピーク
からなる群より選ばれるピークを、少なくとも１つ有するとともに、
（２）ケイ素含有率が２０重量％以上であり、
（３）シラノール含有率が０．１重量％以上、１０重量％以下である。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐光性、耐熱性、耐リフロー性及び耐温度サイクル性に優れ、長期間使用してもクラックや剥離を生じることなく半導体発光デバイスを封止し、蛍光体を保持することのできる、新規な半導体発光デバイス用部材を提供する。
【解決手段】固体Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルにおいて、ピークトップの位置がケミカルシフト−４０ｐｐｍ以上０ｐｐｍ以下の領域にあり、ピークの半値幅が０．３ｐｐｍ以上、３．０ｐｐｍ以下であるピーク、及び、ピークトップの位置がケミカルシフト−８０ｐｐｍ以上−４０ｐｐｍ未満の領域にあり、ピークの半値幅が０．３ｐｐｍ以上５．０ｐｐｍ以下であるピークからなる群より選ばれるピークを、少なくとも１つ有するとともに、ケイ素含有率が２０重量％以上であり、シラノール含有率が０．１重量％以上、１０重量％以下であり、デュロメータタイプＡによる硬度測定値（ショアＡ）が５以上９０以下である。 （もっと読む）

【課題】高い反射防止性を有すると共に、耐薬品性、防汚性に優れたコーティング材組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）の加水分解性オルガノシランと（Ｂ）の加水分解性オルガノシランとシリカ系金属酸化物微粒子とを混合した状態で、（Ａ）及び（Ｂ）の加水分解性オルガノシランを加水分解した第一の加水分解物と、（Ａ）の加水分解性オルガノシランと（Ｃ）の加水分解性オルガノシランとを共重合した、一方の末端にフッ素置換アルキル基を有する第二の加水分解物と、を含有する。
（Ａ）一般式がＳｉＸ_４（Ｘは加水分解基）
で表わされる加水分解性オルガノシラン、
（Ｂ）撥水基を直鎖部に備えると共にアルコキシ基が結合したシリカ原子を分子内に２個以上有する加水分解性オルガノシラン、
（Ｃ）フッ素置換アルキル基を有する加水分解性オルガノシラン （もっと読む）

本発明のアルカリ可溶性珪素含有高分子化合物は、下記の式で表され、重量平均分子量が５００〜５００，０００である。


式中、Ａ^１は水酸基を有するか若しくはアルコキシ基を有するフェニル基、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキレン基、ｍは０又は１、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基、ｓ及びｕは正の数であり、ｔは０又は正の数であって、０≦ｔ／（ｓ＋ｕ）≦１ 且つ ０＜ｕ／ｓ≦５ である。
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【課題】微細な溝も完全に埋め込み、かつ下地段差を平坦化するのに十分な厚塗りができ、下地パターン全体の均一な平坦性を達成でき、さらに水を含まず誘電率の低い、膜特性に優れた絶縁膜を形成することのできる、シロキサン類を用いる、絶縁膜形成用塗布液および半導体装置用絶縁膜の形成方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造に用いられる絶縁膜形成用塗布液であって、少なくとも一種類の有機置換基と結合したＳｉ原子を含むシロキサン類を含み、かつ、前記シロキサン類の²⁹Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルのシグナルの積分値から求められる所定の式で示される含有比率Ｘが、所定の式を満足する、１５０℃以上３００℃以下の自己流動化温度を有することを特徴とする絶縁膜形成用塗布液、及びこれを用いる半導体装置用絶縁膜の形成方法を提供することにより前記課題を解決する。 （もっと読む）

新規分岐シロキサン、当該新規分岐シロキサンを含有するシリコーン剥離コーティング組成物、及び当該新規分岐シロキサンを含有するシリコーン剥離改質剤組成物は、以下の：（ｉ）下記式：
【化１】


（式中、Ｒ^ａは、炭素数１〜６を有するアルキル基、炭素数２〜６を有するアルケニル基又は炭素数２〜６を有するアルキニル基であり、Ｒ^ｂは、炭素数１〜６を有するアルキル基、炭素数２〜６を有するアルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アクリレート基又はメタクリレート基であり、ｎは１〜２００であるが、但し、分岐シロキサンにおけるＲ^ａ基の少なくとも３．２〜３．９は、アルケニル又はアルキニル基である）を有する組成物を含む分岐シロキサン。
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【課題】 有機基を含むケイ素酸化物の骨格からなる有機無機ハイブリッド構造を有するシリカ系メソ構造体であるにも拘らず、十分な柔軟性を有しており、柔軟性が高く強度に優れた自立膜を形成することができ、しかも機能性の高い種々の有機基を骨格内に導入することが可能なシリカ系メソ構造体を提供すること。
【解決手段】 有機基を含むケイ素酸化物の骨格からなり、１ｎｍ以上のｄ値に相当する回折角度に１本以上のピークを有するＸ線回折パターンを示すシリカ系メソ構造体であって、Ｔサイト骨格成分の存在割合（Ｔモル％）と、Ｄサイト骨格成分の存在割合（Ｄモル％）と、Ｓサイト骨格成分の存在割合（Ｓモル％）とが、Ｔ≠０の場合は下記数式（Ｆ１）、Ｔ＝０の場合は下記数式（Ｆ２）：
｛（Ｄ＋Ｓ）／（Ｔ＋Ｄ＋Ｓ）｝≧０．１ （Ｆ１）
｛Ｓ／（Ｄ＋Ｓ）｝≦０．９］ （Ｆ２）
で表される条件を満たしていることを特徴とするシリカ系メソ構造体。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性が高く、極めて有機物との親和性に優れる層状構造体、および前記層状構造体を熱可塑性樹脂に配合した有機−無機複合材料を得る。
【解決手段】特定のアルコキシシランと金属ハロゲン化物、有機金属化合物および金属アルコキシシドから選ばれる少なくとも１種の金属化合物（ただし、ここで金属はＭｇ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｌｉから選ばれる少なくとも１種である）を縮合させて得られる構造を基本骨格とし、Ｓｉ−ＯＨ基の一部ないし全部が封鎖された層状構造体、およびそれを熱可塑性樹脂に配合してなる有機−無機複合材料。 （もっと読む）

Ｎ−カルバゾリルアルキル基及び加水分解性基を含有するカルバゾリル官能性直鎖ポリシロキサン、カルバゾリル官能性直鎖ポリシロキサンを含有するシリコーン組成物、該シリコーン組成物を硬化させることによって調製される硬化カルバゾリル官能性ポリシロキサン、並びにカルバゾリル官能性ポリシロキサンを含有する有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）。 （もっと読む）